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形狀測(cè)量設(shè)備的控制方法與流程

文檔序號(hào):12548213閱讀:來(lái)源:國(guó)知局

技術(shù)特征:

1.一種形狀測(cè)量設(shè)備的控制方法,所述形狀測(cè)量設(shè)備包括:探測(cè)器,其前端具有觸針針尖;以及移動(dòng)機(jī)構(gòu),用于使所述探測(cè)器移動(dòng),并且所述形狀測(cè)量設(shè)備被配置為通過(guò)檢測(cè)所述觸針針尖與工件的表面之間的接觸來(lái)測(cè)量所述工件的形狀,所述控制方法包括以下步驟:

為了基于所述工件的設(shè)計(jì)數(shù)據(jù)來(lái)計(jì)算用以使所述觸針針尖移動(dòng)的掃描路徑,并且為了在控制所述觸針針尖以使所述探測(cè)器相對(duì)于所述工件的偏轉(zhuǎn)量保持為基準(zhǔn)偏轉(zhuǎn)量的同時(shí)、使所述觸針針尖沿著所述掃描路徑移動(dòng),根據(jù)通過(guò)以下表達(dá)式所表示的合成速度矢量V來(lái)生成針對(duì)所述探測(cè)器的移動(dòng)指示:

合成速度矢量V=Gf·Vf+Ge·Ve+Gc·Vc2,

其中:Vf是用以使所述探測(cè)器沿著所述掃描路徑移動(dòng)的路徑速度矢量,

Ve是用以使所述探測(cè)器相對(duì)于所述工件的偏轉(zhuǎn)量保持為所述基準(zhǔn)偏轉(zhuǎn)量的偏轉(zhuǎn)校正矢量,

Vc2是通過(guò)(Vc1·q)q所表示的第二軌跡校正矢量,

Vc1是用以對(duì)所述探測(cè)器的位置進(jìn)行校正以使得所述觸針針尖朝向所述掃描路徑的第一軌跡校正矢量,

q是利用所述工件的表面的法線與路徑速度矢量Vf的矢積所給出的軌跡校正方向矢量,以及

Gf、Ge和Gc分別是掃描驅(qū)動(dòng)增益、偏轉(zhuǎn)校正增益和軌跡校正增益。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的形狀測(cè)量設(shè)備的控制方法,其中,

偏轉(zhuǎn)校正矢量Ve是通過(guò)K(|Ep|-E0)eu所給出的,

其中:Ep是所述探測(cè)器的傳感器輸出,

E0是所述基準(zhǔn)偏轉(zhuǎn)量,以及

eu是所述探測(cè)器的位移方向上的單位矢量。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的形狀測(cè)量設(shè)備的控制方法,其中,軌跡校正方向矢量q是通過(guò)eu×Vf/|eu×Vf|或者Vf×eu/|Vf×eu|所表示的。

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