本發(fā)明涉及一種旋轉(zhuǎn)式鐵譜儀譜片光密度測(cè)量分析系統(tǒng)及方法，屬于鐵譜定量分析技術(shù)領(lǐng)域。

背景技術(shù)：

鐵譜儀廣泛地應(yīng)用于各類(lèi)機(jī)器系統(tǒng)的磨損監(jiān)控與潤(rùn)滑油油品評(píng)定，也可用來(lái)進(jìn)行摩擦狀態(tài)及磨損機(jī)理的研究。因此，它是實(shí)現(xiàn)機(jī)器工況監(jiān)測(cè)、設(shè)備故障定位和微粒摩擦學(xué)研究的重要儀器。就鐵譜分析技術(shù)所采用的分析方法而言，主要分為定性分析方法和定量分析方法。定性分析方法是一種離線監(jiān)測(cè)的鐵譜分析方法，監(jiān)測(cè)人員從現(xiàn)場(chǎng)取回油樣，經(jīng)處理后形成鐵譜片，利用鐵譜顯微鏡對(duì)沉積在鐵譜片上的磨損顆粒作形貌觀察、尺寸測(cè)量和成分分析，并在此基礎(chǔ)上確定磨損顆粒的種類(lèi)和成分，判斷被監(jiān)測(cè)設(shè)備的磨損形式、磨損原因、磨損程度和嚴(yán)重磨損部件的種類(lèi)等等。定量分析方法是一種既可以直接在現(xiàn)場(chǎng)進(jìn)行，也可以取樣后離線分析的鐵譜分析方法，這種分析方法主要根據(jù)磨損顆粒的濃度和磨損顆粒的尺寸分布對(duì)設(shè)備的摩擦磨損狀態(tài)進(jìn)行分析，然后再利用函數(shù)分析法、趨勢(shì)分析法和灰色理論等方法進(jìn)行工況監(jiān)測(cè)和故障診斷。

鐵譜儀主要分為在線式鐵譜儀和離線式鐵譜儀，在線式鐵譜儀直接安裝在現(xiàn)場(chǎng)設(shè)備的循環(huán)潤(rùn)滑系統(tǒng)中，提供油液中關(guān)于磨屑密度的在線讀數(shù)和大磨粒的百分比，而離線式鐵譜儀需從現(xiàn)場(chǎng)設(shè)備中采集油樣，送回實(shí)驗(yàn)室由專業(yè)人員操作這些儀器進(jìn)行分析。盡管在線式鐵譜儀具有實(shí)時(shí)、快速、簡(jiǎn)便等優(yōu)點(diǎn)，但由于設(shè)備摩擦磨損狀態(tài)及其變化的復(fù)雜性，以及分析結(jié)果不可避免地要受到工作狀況、工作環(huán)境等多種因素的影響，因而很難保證結(jié)果的穩(wěn)定性與可比性。離線式鐵譜儀主要分為直讀式鐵譜儀、分析式鐵譜儀、旋轉(zhuǎn)式鐵譜儀等。分析式鐵譜儀與旋轉(zhuǎn)式鐵譜儀能在顯微鏡下觀察研究磨粒的形貌并通過(guò)光密度測(cè)量?jī)x測(cè)量譜片上磨粒覆蓋面積百分?jǐn)?shù)，既可以用于定性分析也可以用于定量分析，而直讀式鐵譜儀僅能測(cè)定磨粒的數(shù)量及其近似的尺寸分布，即只可以用于定量分析，故分析式鐵譜儀與旋轉(zhuǎn)式鐵譜儀應(yīng)用范圍比直讀式鐵譜儀更加廣泛。

使用傳統(tǒng)的光密度測(cè)量?jī)x測(cè)量一個(gè)旋轉(zhuǎn)式鐵譜儀譜片上磨粒覆蓋面積百分?jǐn)?shù)時(shí)，操作人員需要一直手動(dòng)調(diào)節(jié)顯微鏡載物臺(tái)并通過(guò)顯微鏡目鏡觀察視場(chǎng)位置，當(dāng)觀察到視場(chǎng)移動(dòng)到待測(cè)位置時(shí)讀取視場(chǎng)內(nèi)磨粒覆蓋面積百分?jǐn)?shù)。通過(guò)手動(dòng)調(diào)節(jié)和人眼觀察會(huì)產(chǎn)生人為誤差，同時(shí)人眼觀察久了會(huì)產(chǎn)生視覺(jué)疲勞，降低觀測(cè)效率。通常完成一個(gè)旋轉(zhuǎn)式鐵譜儀譜片的測(cè)量，使用傳統(tǒng)的光密度測(cè)量?jī)x需要人工尋找譜片上24個(gè)視場(chǎng)位置，工作量大，測(cè)量時(shí)間長(zhǎng)。不僅如此，傳統(tǒng)的光密度測(cè)量?jī)x只能進(jìn)行磨粒覆蓋面積百分?jǐn)?shù)的測(cè)量，而后續(xù)基于磨粒覆蓋面積百分?jǐn)?shù)得出的各種定量指標(biāo)仍需要人工計(jì)算。綜上，傳統(tǒng)光密度測(cè)量?jī)x已經(jīng)不能滿足旋轉(zhuǎn)式鐵譜儀譜片定量分析的要求。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

本發(fā)明所要解決的技術(shù)問(wèn)題是：提供一種旋轉(zhuǎn)式鐵譜儀譜片光密度測(cè)量分析系統(tǒng)及方法，能自動(dòng)測(cè)量譜片不同位置磨粒覆蓋面積百分?jǐn)?shù)，減輕了操作人員勞動(dòng)強(qiáng)度，提高了測(cè)試效率與測(cè)試數(shù)據(jù)準(zhǔn)確性。

本發(fā)明為解決上述技術(shù)問(wèn)題采用以下技術(shù)方案：

一種旋轉(zhuǎn)式鐵譜儀譜片光密度測(cè)量分析系統(tǒng)，包括三目顯微鏡、帶有限位開(kāi)關(guān)的電動(dòng)載物臺(tái)、電機(jī)驅(qū)動(dòng)器、光電傳感器、跨阻放大器、多功能板卡以及上位機(jī)；所述三目顯微鏡包括光源、物鏡，帶有限位開(kāi)關(guān)的電動(dòng)載物臺(tái)設(shè)置于光源與物鏡之間；三目顯微鏡的第三目與光電傳感器連接，光電傳感器的光照接收面與第三目光路垂直，且光電傳感器的光照接收面中心位于第三目光路軸線上；光電傳感器經(jīng)跨阻放大器與多功能板卡連接，多功能板卡還分別與上位機(jī)、電機(jī)驅(qū)動(dòng)器連接，電機(jī)驅(qū)動(dòng)器與帶有限位開(kāi)關(guān)的電動(dòng)載物臺(tái)連接。

作為本發(fā)明系統(tǒng)的一種進(jìn)一步方案，所述帶有限位開(kāi)關(guān)的電動(dòng)載物臺(tái)設(shè)有用于固定旋轉(zhuǎn)式鐵譜儀譜片的正方形凹槽，正方形凹槽一側(cè)設(shè)有凹槽缺口。

作為本發(fā)明系統(tǒng)的一種優(yōu)選方案，所述光源為發(fā)光二極管。

作為本發(fā)明系統(tǒng)的一種優(yōu)選方案，所述光電傳感器為硅光電池。

作為本發(fā)明系統(tǒng)的一種優(yōu)選方案，所述帶有限位開(kāi)關(guān)的電動(dòng)載物臺(tái)由電機(jī)驅(qū)動(dòng)，電機(jī)是步進(jìn)電機(jī)或者伺服電機(jī)。

一種旋轉(zhuǎn)式鐵譜儀譜片光密度測(cè)量分析方法，包括如下步驟：

步驟1，對(duì)旋轉(zhuǎn)式鐵譜儀譜片光密度測(cè)量分析系統(tǒng)進(jìn)行調(diào)零調(diào)壹校準(zhǔn)操作；

步驟2，將待測(cè)的旋轉(zhuǎn)式鐵譜儀譜片置于正方形凹槽內(nèi)，通過(guò)上位機(jī)控制電動(dòng)載物臺(tái)沿三目顯微鏡的視場(chǎng)位移路徑移動(dòng)，同時(shí)記錄并存儲(chǔ)三目顯微鏡視場(chǎng)內(nèi)磨粒覆蓋面積百分?jǐn)?shù)與視場(chǎng)中心距譜片中心距離；

步驟3，根據(jù)磨粒覆蓋面積百分?jǐn)?shù)得到用于光密度測(cè)量分析的指標(biāo)數(shù)值；

步驟4，繪制指標(biāo)隨采樣時(shí)間變化的趨勢(shì)曲線圖，通過(guò)三線值法對(duì)機(jī)械磨損狀況進(jìn)行判斷。

作為本發(fā)明方法的一種優(yōu)選方案，所述步驟1的具體步驟為：

11)開(kāi)啟光源，將光源電壓預(yù)調(diào)到4伏左右，用10×物鏡觀察譜片磨粒并聚焦，然后轉(zhuǎn)換成40×物鏡觀察譜片磨粒并聚焦；

12)把三目顯微鏡視場(chǎng)移至譜片上沒(méi)有磨粒的干凈處，調(diào)整顯微鏡光路使光線進(jìn)入第三目，并將系統(tǒng)上位機(jī)上顯示的數(shù)字調(diào)為0.000；

13)調(diào)整顯微鏡光路使光線不能進(jìn)入第三目，并將系統(tǒng)上位機(jī)上顯示的數(shù)字調(diào)為1.000；

14)將遮光率為50％的黑白濾光片蓋在光線出光孔上，并調(diào)節(jié)光源的電壓，使系統(tǒng)上位機(jī)上顯示的數(shù)字為0.500；

15)拿出黑白濾光片，若系統(tǒng)上位機(jī)上顯示的數(shù)字不為0.000，則繼續(xù)將系統(tǒng)上位機(jī)上顯示的數(shù)字調(diào)為0.000；

16)重復(fù)14)、15)使光密度測(cè)量分析系統(tǒng)同時(shí)滿足13)和14)的要求，則光密度測(cè)量分析系統(tǒng)校準(zhǔn)完畢。

作為本發(fā)明方法的一種優(yōu)選方案，所述步驟2的具體步驟為：

21)將畫(huà)有兩條交叉對(duì)角線的空白旋轉(zhuǎn)式鐵譜儀譜片平放在凹槽內(nèi)，通過(guò)目鏡觀察對(duì)角線交叉點(diǎn)即譜片中心，水平移動(dòng)載物臺(tái)使交叉點(diǎn)位于視場(chǎng)中心，確定此時(shí)電動(dòng)載物臺(tái)的位置為零點(diǎn)；

22)以電動(dòng)載物臺(tái)位于零點(diǎn)時(shí)譜片中心為顯微鏡視場(chǎng)位移原點(diǎn)，以45°為間隔角度分布出8條顯微鏡視場(chǎng)直線位移路徑，每條位移路徑始于原點(diǎn)，終于譜片外環(huán)以外3mm處；

23)視場(chǎng)選擇任意一條路徑從原點(diǎn)移動(dòng)到終點(diǎn)后自動(dòng)進(jìn)行復(fù)位，同時(shí)記錄并存儲(chǔ)三目顯微鏡視場(chǎng)內(nèi)磨粒覆蓋面積百分?jǐn)?shù)與視場(chǎng)中心距譜片中心距離，復(fù)位時(shí)，不計(jì)算視場(chǎng)內(nèi)磨粒覆蓋面積百分?jǐn)?shù)；

24)在順時(shí)針?lè)较蜷g隔角度為45°的下一條路徑上進(jìn)行相同的動(dòng)作，在完成8條不同路徑上的移動(dòng)后，電動(dòng)載物臺(tái)自動(dòng)復(fù)位并停止。

作為本發(fā)明方法的一種優(yōu)選方案，所述步驟3和步驟4的具體步驟為：

31)從三目顯微鏡視場(chǎng)內(nèi)磨粒覆蓋面積百分?jǐn)?shù)與視場(chǎng)中心距譜片中心距離的數(shù)據(jù)中，分別提取視場(chǎng)中心距譜片中心距離為4.5mm-6.5mm、8.5mm-10.5mm、13.5mm-15.5mm三個(gè)區(qū)間內(nèi)的磨粒覆蓋面積百分?jǐn)?shù)極大值，將這3個(gè)極大值分別作為譜片內(nèi)環(huán)磨粒覆蓋面積百分?jǐn)?shù)、中環(huán)磨粒覆蓋面積百分?jǐn)?shù)、外環(huán)磨粒覆蓋面積百分?jǐn)?shù)；

32)在完成8條視場(chǎng)位移路徑的移動(dòng)后，計(jì)算并存儲(chǔ)譜片內(nèi)環(huán)磨粒覆蓋面積百分?jǐn)?shù)平均值A(chǔ)_L、譜片中環(huán)磨粒覆蓋面積百分?jǐn)?shù)平均值A(chǔ)_M、譜片外環(huán)磨粒覆蓋面積百分?jǐn)?shù)平均值A(chǔ)_S、磨粒濃度A_L+A_M+A_S、磨損烈度指數(shù)[A_L+(A_M+A_S)][A_L-(A_M+A_S)]；

33)繪制同一機(jī)械部位油樣的磨粒濃度、磨損烈度指數(shù)隨取樣時(shí)間變化的趨勢(shì)曲線圖，根據(jù)三線值法設(shè)置“注意”、“警告”、“故障”3條臨界線，對(duì)機(jī)械的磨損狀況進(jìn)行判斷。

本發(fā)明采用以上技術(shù)方案與現(xiàn)有技術(shù)相比，具有以下技術(shù)效果：

本發(fā)明旋轉(zhuǎn)式鐵譜儀譜片光密度測(cè)量分析系統(tǒng)及方法，能自動(dòng)測(cè)量譜片不同位置磨粒覆蓋面積百分?jǐn)?shù)，減輕操作人員工作量，減小測(cè)量誤差，能方便地對(duì)測(cè)試數(shù)據(jù)進(jìn)行存儲(chǔ)、處理和顯示，并能按用戶選擇對(duì)不同的測(cè)試數(shù)據(jù)進(jìn)行圖形化顯示，方便用戶進(jìn)行快速分析與預(yù)測(cè)。

附圖說(shuō)明

圖1是本發(fā)明旋轉(zhuǎn)式鐵譜儀譜片光密度測(cè)量分析系統(tǒng)的結(jié)構(gòu)示意圖。

圖2是本發(fā)明旋轉(zhuǎn)式鐵譜儀譜片及顯微鏡視場(chǎng)位移路徑示意圖。

圖3是本發(fā)明中電動(dòng)載物臺(tái)凹槽及缺口示意圖；其中，(a)為俯視圖，(b)為側(cè)視圖。

圖4是傳統(tǒng)光密度測(cè)量?jī)x在譜片各磨粒沉積環(huán)上8個(gè)觀測(cè)視場(chǎng)的位置選取示意圖；其中，(a)為內(nèi)環(huán)，(b)為中環(huán)，(c)為外環(huán)。

圖5是本發(fā)明上位機(jī)控制電動(dòng)載物臺(tái)沿顯微鏡視場(chǎng)位移路徑移動(dòng)的流程圖。

圖6是本發(fā)明旋轉(zhuǎn)式鐵譜儀譜片光密度測(cè)量分析方法的流程圖。

其中，1-三目顯微鏡；2-光源；3-電動(dòng)載物臺(tái)；4-旋轉(zhuǎn)式鐵譜儀譜片；5-光電傳感器；6-跨阻放大器；7-多功能板卡；8-上位機(jī)；9-電機(jī)驅(qū)動(dòng)器；10-磨粒沉積環(huán)內(nèi)環(huán)；11-磨粒沉積環(huán)中環(huán)；12-磨粒沉積環(huán)外環(huán)；13-顯微鏡視場(chǎng)位移路徑；14-凹槽；15-凹槽缺口；16-顯微鏡觀測(cè)視場(chǎng)。

具體實(shí)施方式

下面詳細(xì)描述本發(fā)明的實(shí)施方式，所述實(shí)施方式的示例在附圖中示出，其中自始至終相同或類(lèi)似的標(biāo)號(hào)表示相同或類(lèi)似的元件或具有相同或類(lèi)似功能的元件。下面通過(guò)參考附圖描述的實(shí)施方式是示例性的，僅用于解釋本發(fā)明，而不能解釋為對(duì)本發(fā)明的限制。

如圖1所示，本發(fā)明一種旋轉(zhuǎn)式鐵譜儀譜片光密度測(cè)量分析系統(tǒng)，包括三目顯微鏡1、光源2、電動(dòng)載物臺(tái)3、光電傳感器5、跨阻放大器6、多功能板卡7、上位機(jī)8、電機(jī)驅(qū)動(dòng)器9；光源2為發(fā)光二極管，產(chǎn)生的光為單色光，光強(qiáng)可控；電動(dòng)載物臺(tái)3由電機(jī)驅(qū)動(dòng)，電機(jī)為步進(jìn)電機(jī)或者伺服電機(jī)；電動(dòng)載物臺(tái)3設(shè)置了限位開(kāi)關(guān)，防止電動(dòng)載物臺(tái)3位移超界；電動(dòng)載物臺(tái)3設(shè)有正方形凹槽14，用于固定旋轉(zhuǎn)式鐵譜儀譜片4，凹槽14一側(cè)設(shè)有缺口15用于夾取譜片4；光電傳感器5安裝在測(cè)頭內(nèi)，測(cè)頭通過(guò)緊固螺釘與三目顯微鏡1的第三目連接；光電傳感器5為硅光電池，受到的光照強(qiáng)度與產(chǎn)生的光電流呈線性關(guān)系；硅光電池光照接收面與顯微鏡第三目光路垂直，并且硅光電池光照接收面中心位于三目顯微鏡1第三目光路軸線上；多功能板卡7不僅是電機(jī)控制器，而且是跨阻放大器6輸出信號(hào)采集器；跨阻放大器6輸入端連接光電傳感器5兩極，輸出端連接多功能板卡7模擬信號(hào)輸入端口；多功能板卡7通過(guò)數(shù)據(jù)線連接至上位機(jī)8。

如圖2所示，旋轉(zhuǎn)式鐵譜儀譜片4為55mm×55mm×0.2mm的平面透明玻璃片，根據(jù)旋轉(zhuǎn)式鐵譜儀磁頭磁路的設(shè)計(jì)，制譜后磨粒會(huì)在譜片4上形成三個(gè)同心的圓形磨粒沉積環(huán)，沉積環(huán)的圓心與方形譜片4的中心重合。三個(gè)磨粒沉積環(huán)的徑向?qū)挾染鶠?mm，內(nèi)環(huán)10外側(cè)直徑為12mm，中環(huán)11外側(cè)直徑為20mm，外環(huán)12外側(cè)直徑為30mm。因?yàn)榇帕€是從譜片4中心向四周散發(fā)，從內(nèi)環(huán)10到外環(huán)12磁場(chǎng)力大小依次變小，故在三個(gè)磨粒沉積環(huán)上沉積的磨粒尺寸分布為內(nèi)環(huán)10磨粒尺寸最大，中環(huán)11次之，外環(huán)12最小。

如圖3的(a)與(b)所示，顯微鏡電動(dòng)載物臺(tái)3中心處上設(shè)有55.2mm×55.2mm×1mm的正方形凹槽14，用于固定譜片4；凹槽14底部中心通孔截面為35mm×35mm，既可以使凹槽14底部對(duì)譜片形成有效支撐，又不會(huì)阻礙對(duì)磨粒沉積環(huán)的觀測(cè)，且不會(huì)讓譜片4從凹槽14底部通孔掉下去的情況發(fā)生；凹槽14一側(cè)設(shè)有缺口15用于夾取譜片4。

傳統(tǒng)光密度測(cè)量?jī)x對(duì)旋轉(zhuǎn)式鐵譜儀譜片4內(nèi)環(huán)進(jìn)行觀測(cè)的8個(gè)視場(chǎng)16如圖4的(a)所示，對(duì)譜片4中環(huán)進(jìn)行觀測(cè)的8個(gè)視場(chǎng)16如圖4的(b)所示，對(duì)譜片4外環(huán)進(jìn)行觀測(cè)的8個(gè)視場(chǎng)16如圖4的(c)所示。內(nèi)環(huán)10的內(nèi)側(cè)是嚴(yán)重磨損顆粒沉積幾率最大的地方，故在內(nèi)環(huán)10內(nèi)側(cè)選取8個(gè)對(duì)稱視場(chǎng)進(jìn)行觀測(cè)；中環(huán)11的內(nèi)側(cè)是摩擦聚合物、各種氧化物、弱鐵磁性的非鐵金屬顆粒等磨損顆粒沉積幾率最大的地方，故在中環(huán)11內(nèi)側(cè)選取8個(gè)對(duì)稱視場(chǎng)進(jìn)行觀測(cè)；外環(huán)12的外側(cè)是腐蝕磨損顆粒沉積幾率最大的地方，故在外環(huán)12外側(cè)選取8個(gè)對(duì)稱視場(chǎng)進(jìn)行觀測(cè)。

如圖5所示，通過(guò)上位機(jī)8控制顯微鏡電動(dòng)載物臺(tái)3在水平二維方向上的移動(dòng)包括以下步驟：

1)將畫(huà)有兩條交叉對(duì)角線的空白旋轉(zhuǎn)式鐵譜儀譜片4平放在凹槽15內(nèi)，通過(guò)目鏡觀察對(duì)角線交叉點(diǎn)，水平移動(dòng)載物臺(tái)3使交叉點(diǎn)位于視場(chǎng)中心，確定此時(shí)電動(dòng)載物臺(tái)3的位置為零點(diǎn)；

2)如圖2所示，以顯微鏡電動(dòng)載物臺(tái)3位于零點(diǎn)時(shí)譜片4中心為顯微鏡視場(chǎng)位移原點(diǎn)，以45°為間隔角度分布出8條顯微鏡視場(chǎng)直線位移路徑13，每條位移路徑始于原點(diǎn)，終于譜片4外環(huán)以外3mm處；

3)視場(chǎng)在右方向路徑上從原點(diǎn)移動(dòng)到終點(diǎn)后自動(dòng)進(jìn)行復(fù)位，并在順時(shí)針?lè)较蜷g隔角度為45°的下一條路徑上進(jìn)行移動(dòng)；

4)在完成8條不同路徑上的位移后，電動(dòng)載物臺(tái)3自動(dòng)復(fù)位并停止。

如圖6所示，上位機(jī)8測(cè)量磨粒覆蓋面積百分?jǐn)?shù)，計(jì)算鐵譜定量指標(biāo)數(shù)值并存儲(chǔ)，繪出定量分析指標(biāo)隨采樣時(shí)間變化的趨勢(shì)曲線圖，根據(jù)定量分析指標(biāo)數(shù)值及磨損趨勢(shì)對(duì)機(jī)械磨損狀況進(jìn)行判斷，具體包括以下步驟：

1)對(duì)光密度測(cè)量分析系統(tǒng)進(jìn)行調(diào)零調(diào)壹操作；

2)將待測(cè)譜片4放入載物臺(tái)凹槽14內(nèi)，當(dāng)視場(chǎng)在位移路徑上正向移動(dòng)時(shí)，實(shí)時(shí)顯示磨粒覆蓋面積百分?jǐn)?shù)與視場(chǎng)中心距譜片中心的距離并繪出譜位曲線；

3)分別提取視場(chǎng)中心距譜片4中心距離為4.5mm-6.5mm、8.5mm-10.5mm、13.5mm-15.5mm三個(gè)區(qū)間內(nèi)的磨粒覆蓋面積百分?jǐn)?shù)極大值，3個(gè)極大值分別為譜片4內(nèi)環(huán)磨粒覆蓋面積百分?jǐn)?shù)、中環(huán)磨粒覆蓋面積百分?jǐn)?shù)、外環(huán)磨粒覆蓋面積百分?jǐn)?shù)；

4)在所有的24個(gè)極大值提取完畢后，計(jì)算并顯示譜片4內(nèi)環(huán)8個(gè)不同視場(chǎng)的磨粒覆蓋面積百分?jǐn)?shù)平均值A(chǔ)_L、譜片中環(huán)8個(gè)不同視場(chǎng)的磨粒覆蓋面積百分?jǐn)?shù)平均值A(chǔ)_M、譜片外環(huán)8個(gè)不同視場(chǎng)的磨粒覆蓋面積百分?jǐn)?shù)平均值A(chǔ)_S、磨粒濃度A_L+A_M+A_S、磨損烈度指數(shù)[A_L+(A_M+A_S)][A_L-(A_M+A_S)]；

5)輸入樣本名稱及取樣時(shí)間對(duì)上述定量指標(biāo)進(jìn)行存儲(chǔ)；

6)對(duì)于同一名稱的所有樣本，提取同一定量指標(biāo)作出其隨取樣時(shí)間變化的趨勢(shì)曲線圖；

7)根據(jù)三線值法設(shè)置“注意”、“警告”、“故障”3條臨界線，使用戶可以簡(jiǎn)單直觀地對(duì)機(jī)械設(shè)備進(jìn)行狀態(tài)監(jiān)測(cè)。

其中，調(diào)零調(diào)壹包括以下操作：

1)開(kāi)啟顯微鏡透射光源，將光源電壓預(yù)調(diào)到4伏左右，用10×物鏡觀察譜片磨粒并聚焦，然后轉(zhuǎn)換成40×物鏡觀察譜片磨粒并聚焦；

2)把視場(chǎng)移至譜片上沒(méi)有磨粒的干凈處，然后將顯微鏡光路操縱桿拉出，使光線進(jìn)入測(cè)頭，點(diǎn)擊光密度測(cè)量分析系統(tǒng)操作面板上的“調(diào)零”按鍵，使數(shù)字顯示屏上的數(shù)字為0.000；

3)將操縱桿推入，使光線不能進(jìn)入測(cè)頭，點(diǎn)擊光密度測(cè)量分析系統(tǒng)操作面板上的“調(diào)壹”按鍵，使數(shù)字顯示屏上的數(shù)字為1.000；

4)將遮光率為50％的黑白濾光片蓋在顯微鏡底座的透射光出光孔上，調(diào)節(jié)透射光源的電壓調(diào)節(jié)旋鈕，使數(shù)字顯示屏上的數(shù)字為0.500；

5)拿出黑白濾光片，若數(shù)字顯示屏上的數(shù)字不為0.000，則繼續(xù)點(diǎn)擊操作面板上的“調(diào)零”按鍵，使數(shù)字顯示屏上的數(shù)字為0.000；

6)重復(fù)4)、5)使光密度測(cè)量分析系統(tǒng)同時(shí)滿足3)和4)的要求，則系統(tǒng)校準(zhǔn)完畢。

其中，磨粒覆蓋面積百分?jǐn)?shù)指顯微鏡觀測(cè)視場(chǎng)內(nèi)磨粒覆蓋面積占整個(gè)視場(chǎng)面積的百分比。

如果只考慮數(shù)據(jù)采集時(shí)間，傳統(tǒng)光密度測(cè)量?jī)x完成24個(gè)視場(chǎng)的磨粒覆蓋面積百分?jǐn)?shù)測(cè)量至少需要12分鐘，而本發(fā)明旋轉(zhuǎn)式鐵譜儀譜片光密度測(cè)量分析系統(tǒng)完成8條視場(chǎng)位移路徑的磨粒覆蓋面積百分?jǐn)?shù)測(cè)量不到4分鐘，節(jié)省了近70％的數(shù)據(jù)采集時(shí)間，同時(shí)解決了操作人員因長(zhǎng)時(shí)間觀測(cè)而產(chǎn)生的視覺(jué)疲勞問(wèn)題。另外，傳統(tǒng)光密度測(cè)量?jī)x在數(shù)據(jù)測(cè)量完畢后，還需要操作人員根據(jù)磨粒覆蓋面積百分?jǐn)?shù)計(jì)算其他定量參數(shù)，而本發(fā)明旋轉(zhuǎn)式鐵譜儀譜片光密度測(cè)量分析系統(tǒng)在數(shù)據(jù)采集的過(guò)程中已經(jīng)自動(dòng)計(jì)算其他定量參數(shù)。同時(shí)，本發(fā)明在完成數(shù)據(jù)采集、分析后，輸入樣本名稱及取樣時(shí)間對(duì)定量參數(shù)進(jìn)行存儲(chǔ)；對(duì)于同一名稱的所有樣本，提取同一定量參數(shù)作出其隨取樣時(shí)間變化的趨勢(shì)曲線圖，通過(guò)三線值法對(duì)機(jī)械設(shè)備進(jìn)行狀態(tài)監(jiān)測(cè)，簡(jiǎn)單直觀。

以上實(shí)施例僅為說(shuō)明本發(fā)明的技術(shù)思想，不能以此限定本發(fā)明的保護(hù)范圍，凡是按照本發(fā)明提出的技術(shù)思想，在技術(shù)方案基礎(chǔ)上所做的任何改動(dòng)，均落入本發(fā)明保護(hù)范圍之內(nèi)。