1.一種造型裝置，其特征在于，包括：
造型單元，通過(guò)基于設(shè)計(jì)數(shù)據(jù)使造型材料堆疊在造型位置來(lái)進(jìn)行造型物的造型；
攝像單元，拍攝由所述造型單元造型出的所述造型物；以及
斷面測(cè)量單元，基于在所述造型單元的所述造型物的造型中由所述攝像單元拍攝的攝像圖像，測(cè)量所述造型物的斷面形狀。
2.如權(quán)利要求1所述的造型裝置，其特征在于，還包括：
形狀判定單元，判定由所述斷面測(cè)量單元測(cè)量出的所述造型物的測(cè)量數(shù)據(jù)是否在基于所述設(shè)計(jì)數(shù)據(jù)的尺寸公差內(nèi)。
3.如權(quán)利要求2所述的造型裝置，其特征在于，還包括：
造型中止單元，在由所述形狀判定單元判定為所述測(cè)量數(shù)據(jù)在所述尺寸公差外的情況下，使所述造型單元的造型處理停止。
4.如權(quán)利要求2所述的造型裝置，其特征在于，還包括：
校正控制單元，在由所述形狀判定單元判定為所述測(cè)量數(shù)據(jù)在所述尺寸公差外的情況下，控制所述造型單元，對(duì)于所述造型位置進(jìn)行造型校正。
5.如權(quán)利要求4所述的造型裝置，其特征在于，
在所述測(cè)量數(shù)據(jù)小于所述尺寸公差中的最小容許尺寸的情況下，所述校正控制單元控制所述造型單元，對(duì)于與該測(cè)量數(shù)據(jù)對(duì)應(yīng)的造型位置追加所述造型材料。
6.如權(quán)利要求4所述的造型裝置，其特征在于，
在所述測(cè)量數(shù)據(jù)大于所述尺寸公差中的最大容許尺寸的情況下，所述校正控制單元控制所述造型單元，除去在與該測(cè)量數(shù)據(jù)對(duì)應(yīng)的造型位置堆疊造型出的所述造型材料的一部分。
7.如權(quán)利要求1所述的造型裝置，其特征在于，
所述攝像單元拍攝以所述造型位置為中心的規(guī)定區(qū)域內(nèi)。
8.如權(quán)利要求7所述的造型裝置，其特征在于，還包括：
造型頭，由移動(dòng)機(jī)構(gòu)可移動(dòng)地構(gòu)成，被設(shè)有所述造型單元，
所述攝像單元被設(shè)置在所述造型頭中。
9.如權(quán)利要求1至權(quán)利要求8的任意一項(xiàng)所述的造型裝置，其特征在于，
所述攝像單元被固定在規(guī)定位置，從該規(guī)定位置拍攝所述造型物整體。
10.一種斷面測(cè)量裝置，其特征在于，包括：
攝像單元，拍攝由造型單元通過(guò)基于設(shè)計(jì)數(shù)據(jù)使造型材料堆疊在造型位置來(lái)造型三維的造型物所造型的所述造型物；以及
斷面測(cè)量單元，基于在所述造型單元的所述造型物的造型中由所述攝像單元拍攝的攝像圖像，測(cè)量所述造型物的斷面形狀。
11.一種斷面測(cè)量方法，測(cè)量由造型裝置通過(guò)基于設(shè)計(jì)數(shù)據(jù)使造型材料堆疊在造型位置來(lái)造型三維的造型物所造型的造型物的斷面形狀，其特征在于，
在所述造型裝置的所述造型物的造型中，獲取造型中的造型物的攝像圖像，基于該攝像圖像，測(cè)量所述造型物的斷面形狀。