技術(shù)總結(jié)
本發(fā)明公開了一種原子層沉積系統(tǒng)原位實(shí)時(shí)檢測(cè)方法及裝置，所述方法包括：在對(duì)樣片進(jìn)行原子層沉積成膜時(shí)，通過反射式高能電子衍射檢測(cè)所述樣片的表面，以獲得檢測(cè)數(shù)據(jù)；根據(jù)所述檢測(cè)數(shù)據(jù)，獲得所述樣片的原子層沉積反應(yīng)機(jī)理信息。用以解決現(xiàn)有技術(shù)中的原子層沉積技術(shù)，其反應(yīng)機(jī)理缺乏合適的原位檢測(cè)技術(shù)的技術(shù)問題。提供了一種無損的原子層沉積實(shí)時(shí)檢測(cè)方法及裝置。

技術(shù)研發(fā)人員：解婧;屈芙蓉;盧維爾;李楠;張慶釗;夏洋
受保護(hù)的技術(shù)使用者：中國(guó)科學(xué)院微電子研究所
文檔號(hào)碼：201610258332
技術(shù)研發(fā)日：2016.04.22
技術(shù)公布日：2017.03.22