用于將觸點裝置配置于觸點基板的裝置制造方法
【專利摘要】本實用新型提供一種用于將觸點裝置配置于觸點基板的裝置，其包括：第一處理裝置(17)，所述第一處理裝置(17)用于從配置在第一基板支撐件(60)上的承載件基板拾取觸點裝置；第二處理裝置(18)，所述第二處理裝置(18)用于從所述第一處理裝置接收所述觸點裝置且將所述觸點裝置放置在配置在第二基板支撐件(61)上的所述觸點基板上，以用于所述觸點裝置與所述觸點基板的端子面的隨后接觸，其中，所述第一處理裝置和所述第二處理裝置能夠借助于多軸移位裝置(19、20)來與配置所述第一基板支撐件和所述第二基板支撐件的臺架(11)的臺平面(15)平行地移位。所述裝置允許經(jīng)濟且安全地生產(chǎn)設(shè)置有多個觸點裝置的觸點基板。
【專利說明】用于將觸點裝置配置于觸點基板的裝置

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實用新型涉及一種用于將觸點裝置配置于觸點基板的裝置，其包括:第一處理裝置，該第一處理裝置用于從配置在第一基板支撐件上的承載件基板拾取觸點裝置；第二處理裝置，該第二處理裝置用于從第一處理裝置接收觸點裝置且將觸點裝置放置在配置在第二基板支撐件上的觸點基板上，以用于觸點裝置與觸點基板的端子面的隨后接觸，其中，第一處理裝置和第二處理裝置能夠借助于多軸移位裝置來與配置第一基板支撐件和第二基本支承件的臺架的臺平面平行地移位。

【背景技術(shù)】
[0002]前述類型的裝置在用于晶片的電試驗用的試驗裝置的試驗觸點配置的生產(chǎn)中使用。該類型的試驗觸點配置設(shè)置有多個觸點裝置，該多個觸點裝置配置于觸點基板。該試驗裝置具有激活裝置，該激活裝置允許借助于試驗電壓來激活試驗觸點配置的特定選擇的試驗觸點。為此目的，觸點裝置通常以矩陣配置的方式位于觸點基板，該觸點基板對應(yīng)地設(shè)置有多個觸點表面，該多個觸點表面也以矩陣配置的方式分布且觸點裝置與多個觸點表面接觸。歸因于觸點裝置的與配置于晶片組件的芯片對應(yīng)的矩陣配置方式的配置，可以借助于晶片面(wafer level)上的被選擇激活的觸點裝置來進行各個芯片的限定接觸，從而試驗芯片的功能。
[0003]由于觸點基板上的觸點裝置的高密度和觸點裝置之間的最終小距離，因此存在觸點裝置在觸點基板上的可靠地電接觸和準(zhǔn)確地定位的接觸這兩者的尤其高需求。
實用新型內(nèi)容
[0004]本實用新型的目的在于提供一種裝置，其允許經(jīng)濟且安全地生產(chǎn)設(shè)置有多個觸點裝置的觸點基板。
[0005]為了實現(xiàn)該目的，根據(jù)本實用新型的裝置呈現(xiàn)如下特征。
[0006]根據(jù)本實用新型，該裝置包括:第一處理裝置，該第一處理裝置用于從配置在第一基板支撐件上的承載件基板拾取觸點裝置；第二處理裝置，該第二處理裝置用于從第一處理裝置接收觸點裝置且將觸點裝置放置在配置在第二基板支撐件上的觸點基板上，以用于所述觸點裝置與所述觸點基板的端子面的隨后接觸。第一處理裝置和第二處理裝置能夠借助于多軸移位裝置來與配置所述第一基板支撐件和所述第二基板支承件的臺架的臺平面平行地移位。
[0007]用于拾取觸點裝置的第一處理裝置和用于放置觸點裝置的第二處理裝置之間的根據(jù)本實用新型的區(qū)別允許處理裝置的對于各處理裝置的相應(yīng)的功能優(yōu)化的設(shè)計。
[0008]優(yōu)選地，第一處理裝置具有與臺平面平行的樞轉(zhuǎn)軸線，使得第一處理裝置的拾取裝置能夠從與臺平面平行的取向樞轉(zhuǎn)到朝向第一基板支撐件、與臺平面垂直的取向。歸因于拾取裝置的可樞轉(zhuǎn)設(shè)計，能夠?qū)崿F(xiàn)拾取裝置從拾取位置到傳遞位置的盡可能快的傳遞，在拾取位置中該拾取裝置樞轉(zhuǎn)成朝向第一基板支撐件，在傳遞位置中該拾取裝置處于與臺平面平行的取向。
[0009]如果根據(jù)優(yōu)選的實施方式，第一處理裝置設(shè)置有相機，相機的光軸垂直于臺平面地取向，第一基板支撐件能夠繞著與臺平面垂直的轉(zhuǎn)動軸線轉(zhuǎn)動，則基于基板支撐件上的承載件基板借助于相機的相對配置的位置識別和承載件基板借助于第一基板支撐件的轉(zhuǎn)動的隨后轉(zhuǎn)動，可以進行承載件基板或以限定的分布的方式位于承載件基板上的觸點裝置與第一處理裝置之間的準(zhǔn)確的相對定位，使得以限定的相對配置位于承載件基板上的所有觸點裝置的位置相對于處理裝置被清楚地限定。因而，已知各個觸點裝置在臺平面中的坐標(biāo)，因為第一處理裝置能夠以多軸的方式移位，使得能夠進行處理裝置的拾取裝置在各個觸點裝置的上方的準(zhǔn)確定位。在已被對應(yīng)地定位于與臺平面平行的平面中之后，第一處理裝置的拾取裝置僅需相對于第一基板支撐件樞轉(zhuǎn)，以便從承載件基板接收觸點裝置。
[0010]如果根據(jù)優(yōu)選的實施方式，臺架設(shè)置有相機，相機的光軸與臺平面平行地取向，則一旦拾取裝置樞轉(zhuǎn)到與臺平面平行的取向，就可以進行由第一處理裝置的拾取裝置拾取的觸點裝置的光學(xué)檢查。
[0011]如果接收容器與相機關(guān)聯(lián)，接收容器具有配置于臺平面的接收口，則在觸點裝置的光學(xué)檢查已示出觸點裝置具有缺陷的情況下，可以通過將該觸點裝置傳遞到接收容器而從隨后的加工移除該觸點裝置，從而避免加工有缺陷的觸點裝置。
[0012]如果第一處理裝置的拾取裝置具有拾取頭，拾取頭經(jīng)由負壓管連接到負壓裝置，則能夠以特別簡單的方式進行觸點裝置從第一處理裝置到第二處理裝置的傳遞和(如果必要)觸點裝置到接收容器的處置這兩者。
[0013]優(yōu)選地，第二處理裝置具有接收裝置和與臺平面垂直的平移軸，所述接收裝置具有經(jīng)由負壓管連接到負壓裝置的接收頭，使得能夠借助于第二處理裝置的接收頭，將已借助于第二處理裝置的接收裝置從第一處理裝置的拾取裝置接收的觸點裝置，放置在配置在第二基板支撐件上的觸點基板的觸點表面上。在這方面，第二處理裝置的前述設(shè)計不僅允許將觸點裝置放置在觸點基板上，因為這兩個處理裝置具有允許借助于負壓在拾取裝置的拾取頭接收和保持觸點裝置的拾取裝置/允許借助于負壓在接收裝置的接收頭接收和保持觸點裝置的接收裝置，使得僅簡單地中斷施加到被保持在第一處理裝置的拾取頭的觸點裝置的負壓就可以傳遞觸點裝置，而且允許盡可能高效地從第一處理裝置的拾取裝置傳遞觸點裝置。
[0014]如果第二處理裝置設(shè)置有光軸垂直于所述臺平面地取向的相機，，且如果第二基板支撐件能夠繞著與臺平面垂直的轉(zhuǎn)動軸線轉(zhuǎn)動，則是特別優(yōu)選的。因而，一方面，能夠以尤其舒適的方式將第二處理裝置相對于配置在第二基板支撐件上的觸點基板進行定位，另一方面，借助于配置于第二處理裝置的相機也能夠進行將觸點裝置放置在觸點基板上的光學(xué)監(jiān)測。
[0015]如果臺架包括具有三個相機的相機配置，這三個相機的光軸以如下方式與空間軸(spatial axis)對應(yīng)地取向:第一相機的光軸和第二相機的光軸在與臺平面平行的平面中取向且第三相機的光軸與臺平面垂直地取向，這些光軸匯合于共同的光學(xué)交叉點處，則可以通過將第二處理裝置的接收頭配置在光學(xué)交叉點來精確地檢查被保持在第二處理裝置的接收頭的觸點裝置的相對配置，以便能夠在相對配置缺陷的情況下中斷加工的連續(xù)或者一旦檢測出相對配置的缺陷就校準(zhǔn)相對配置。
[0016]如果臺架具有與所述相機配置相鄰的止動裝置且如果第二處理裝置的接收頭設(shè)置有定位裝置，該定位裝置包括用于觸點裝置的定位抵接的至少兩個定位表面，則對于校準(zhǔn)觸點裝置在第二處理裝置的接收頭上的相對配置的缺陷是特別有利的。形成于臺架的止動裝置和形成于第二處理裝置的接收頭的定位裝置的組合允許借助于第二處理裝置抵接止動裝置來使以缺陷的方式定位于接收頭的觸點裝置的移位，使得歸因于由止動產(chǎn)生的反作用力使觸點裝置與接收頭的定位表面抵接，從而實現(xiàn)觸點裝置在接收頭上的期望的準(zhǔn)確的相對定位。
[0017]如果臺架設(shè)置有傳遞裝置，該傳遞裝置用于傳遞在第二處理裝置的接收頭處配置的觸點裝置，傳遞裝置具有承載件基板，該承載件基板用于接收觸點裝置并且具有粘結(jié)面，則可以在被保持在第二處理裝置的觸點裝置將從加工移除的情況下，通過將觸點裝置傳遞到承載件基板來從第二處理裝置的接收頭移除觸點裝置，其中，如果必要，已從接收頭傳遞到承載件基板的觸點裝置通過粘結(jié)到設(shè)置有粘結(jié)面的承載件基板而仍處于限定的位置，使得如果需要，能夠容易地進行被傳遞到承載件基板的觸點裝置的進一步處理。
[0018]根據(jù)特別優(yōu)選的實施方式，第二處理裝置的接收裝置的負壓管至少在存在于接收頭中的管端部的區(qū)域也被設(shè)計為傳輸管，用于傳輸由激光輻射源發(fā)射的激光輻射，使得第二處理裝置不僅可以用于將觸點裝置放置在觸點基板上，而且可以用于使觸點裝置與觸點基板的端子面接觸。
[0019]本實用新型提供的用于將觸點裝置配置于觸點基板的裝置允許經(jīng)濟且安全地生產(chǎn)設(shè)置有多個觸點裝置的觸點基板。

【專利附圖】

【附圖說明】
[0020]在以下的段落中，將借助于附圖更詳細地說明裝置的優(yōu)選實施方式。
[0021]在圖中:
[0022]圖1以立體圖的方式示出用于配置觸點裝置的裝置；
[0023]圖2示出殼體頂部被移除的圖1中所示的裝置；
[0024]圖3以俯視圖的方式示出圖2中所示的裝置；
[0025]圖4以立體圖的方式示出裝置的第一處理裝置；
[0026]圖5以立體圖的方式示出裝置的第二處理裝置；
[0027]圖6示出圖5中所示的處理裝置的放大細節(jié)圖；
[0028]圖7以第二處理裝置的接收裝置的圖來示出圖6中所示的處理裝置的底部；
[0029]圖8以第一處理裝置的拾取裝置的圖來示出圖4中所示的第一處理裝置的放大局部圖；
[0030]圖9示出圖7中所示的第二處理裝置的接收裝置的縱截面圖；
[0031]圖10示出觸點裝置的傳遞的示意圖。

【具體實施方式】
[0032]圖1示出了用于將觸點裝置(contact device)配置在觸點基板上的、隨后被稱作接觸裝置(contacting device) 10的裝置的實施方式,該接觸裝置10包括配置于裝置殼體12的臺架11。圖1所示的裝置殼體12具有設(shè)置有出入門14的殼體頂部13，前出入門14在根據(jù)圖1的圖中被局部地打開而允許觀察臺架11的臺平面15。裝置殼體12允許在相對于環(huán)境密封的加工室中進行用于將觸點裝置配置在觸點基板上的隨后說明的加工，該加工室設(shè)置有配置于殼體12的空氣過濾器16。
[0033]如特別地從示出被配置于臺架11的臺平面15的組成部件的圖2和圖3的組合視圖可得到的，接觸裝置10包括第一處理裝置17和第二處理裝置18，該第一處理裝置17和第二處理裝置18分別可以借助于多軸移位裝置19和20與臺平面15平行地移位。
[0034]處理裝置17用于接收位于承載件基板(未示出)上的觸點裝置，該承載件基板配置于基板支撐件60上，處理裝置18用于將觸點裝置配置在觸點基板(未示出)上，該觸點基板配置于基板支撐件61上。
[0035]處理裝置17的移位裝置19具有第一移位軸Y1,該第一移位軸Y1由兩個平行的導(dǎo)軌21、22形成，與導(dǎo)軌21、22橫切地延伸的門架(portal) 23在導(dǎo)軌21、22上被引導(dǎo)。門架23與如下導(dǎo)軌24 —起形成移位裝置19的X1移位軸:該導(dǎo)軌24配置于門架23上且沿門架23的縱向延伸。處理裝置17的滑動承載件25配置于門架23，所述滑動承載件能夠沿X方向移位且如圖4所示，處理裝置17的拾取裝置26配置在所述滑動承載件上，其中拾取裝置26具有拾取頭27。
[0036]第一處理裝置17具有與臺平面15平行的樞轉(zhuǎn)軸線28 (見圖4和圖8)，使得處理裝置17的拾取裝置26能夠從圖4和圖8中所示的配置樞轉(zhuǎn)到對著圖3中所示的基板支撐件60與臺平面15垂直的取向(未示出)，在圖4和圖8中所示的配置中拾取裝置26的縱軸線62被取向為與臺平面15平行?；逯渭?0用于載置承載件基板(未示出)，多個觸點裝置(未示出)以限定的矩陣配置的方式位于該承載件基板上，借助于施加到拾取頭27的負壓，所述觸點裝置通過處理裝置17的拾取裝置26的拾取頭27從承載件基板被提升，所述拾取裝置26垂直地取向。
[0037]在從配置在基板支撐件60上的承載件基板接收觸點裝置的過程中，圖3和圖4中所示的拾取裝置26通過進行移位裝置19的對應(yīng)的移位動作而位于基板支撐件60的正上方。為了拾取裝置26相對于配置在基板支撐件60上的承載件基板的限定的相對定位，第一處理裝置17設(shè)置有如圖3和圖4所示的相機29，該相機29的光軸30向臺平面15取向。此外，在示出的實施方式示例中，如箭頭31所示，形成為盤的基板支撐件60能夠繞著與臺平面15垂直的轉(zhuǎn)動軸線轉(zhuǎn)動。
[0038]如特別是圖8所示，臺架11設(shè)置有相機32，該相機32的光軸33被取向為與臺平面15平行。如還可以從特別是圖8得到的，示出在檢查位置P的拾取裝置26，在已從配置在基板支撐件60上的承載件基板拾取觸點裝置之后，拾取裝置26移位到檢查位置P，并且在該檢查位置P，拾取裝置26配置為在相機32的光軸33上以與臺平面平行的方式取向，使得配置在拾取裝置26的拾取頭27的觸點裝置能夠借助于相機32被光學(xué)地檢查。如果該光學(xué)檢查示出觸點裝置是有缺陷的，則該觸點裝置能夠通過使拾取裝置26朝向接收容器34(圖4)的位置樞轉(zhuǎn)而被處置(dispose)，該接收容器34在臺架11上與相機32相鄰地配置。特別地，可以以如下方式將觸點裝置傳遞到接收容器34:施加到拾取頭27的負壓被中斷且拾取裝置26處于與臺平面15垂直的取向，使得觸點裝置掉落到接收容器34的接收口35中。
[0039]如特別是從圖3、圖7和圖9的組合視圖可得到的，第二處理裝置18包括接收裝置36，接收裝置36具有經(jīng)由負壓管38被連接到負壓裝置(未示出)的接收頭37。處理裝置18設(shè)置有移位裝置20，如特別是圖3所示，該移位裝置20具有在與臺平面15平行的平面中延伸的兩個移位軸Y11和Xn。Y11移位軸由兩個導(dǎo)軌39、40形成，此處，這兩個導(dǎo)軌39、40跨過臺架11的整個深度延伸且門架41能夠在這兩個導(dǎo)軌39、40上移位，門架41具有形成X11移位軸用的導(dǎo)軌42，滑動承載件43能夠沿著所述導(dǎo)軌42移位，如特別是圖5所示，接收裝置36借助于能夠沿與臺平面15垂直的方向、即沿Z11軸(圖2)的方向移位的承載件板44配置于所述滑動承載件，使得在當(dāng)前實施示例的情況下，處理裝置18具有處理接收裝置36用的三個平移軸、即ΧΠ、ΥΠ、ΖΠ和如圖5所示的附加轉(zhuǎn)動軸線45。
[0040]如特別是圖7所示，接收裝置36具有相對于上下方向傾斜的縱軸線46，如特別是圖5所示，使得接收頭37朝向左側(cè)取向，即朝向處理裝置17的拾取裝置26(圖3)的方向取向。歸因于拾取裝置26/接收裝置36分別借助于處理裝置17和18的多軸可移位性，可以使拾取裝置26和接收裝置36移位到在圖10中示意性地示出且使拾取裝置26的縱軸線62和接收裝置36的縱軸線46彼此交叉的傳遞位置，使得所示的觸點裝置K能夠被傳遞到接收裝置36的接收頭37，該觸點裝置K配置于與臺平面15平行地取向的拾取裝置26的拾取頭27。為了觸點裝置的相對定位，接收頭37包括具有兩個定位表面48、49的定位裝置47，這兩個定位表面48、49分別與觸點裝置K的兩個側(cè)表面平行地延伸。在圖10示出的拾取裝置26/接收裝置36的傳遞位置，通過施加到拾取裝置26的拾取頭27的負壓被中斷而負壓被施加到接收裝置36的接收頭37，觸點裝置被傳遞到接收裝置36。
[0041]一旦觸點裝置K已被傳遞到接收裝置36，觸點裝置在接收頭37處的相對位置可以借助于圖4示出的相機配置50來檢查，該相機配置50包括三個相機51、52和53，相機51、52和53的光軸54、55和56與空間軸Χ、Υ、Ζ對應(yīng)地取向，使得第一相機51的光軸54和第二相機52的光軸55在與臺平面15平行的平面中取向，并且第三相機53的光軸56與臺平面15垂直地取向，這些光軸匯合于共同的光學(xué)交叉點S處。通過將接收裝置36的接收頭37定位在所述交叉點S，可以檢查觸點裝置在接收頭37上的相對位置。
[0042]在可以識別從期望的相對位置偏移的情況下，即在觸點裝置沒有使其側(cè)表面抵接在定位表面48、49的情況下，具有接收頭37的接收裝置36抵著止動裝置57 (圖8)移位，該止動裝置57由在本實施方式示例中配置在臺架11上的片簧形成。一旦已經(jīng)校準(zhǔn)相對位置，則接收裝置36此刻可以借助于處理裝置18在觸點基板(未示出)上方移位，該觸點基板配置在基板支撐件61上。正確放置所需的接收裝置36的相對定位經(jīng)由配置在處理裝置18上的相機58 (圖2、圖6)連同第二基板支撐件61繞著轉(zhuǎn)動軸線59 (圖3)的轉(zhuǎn)動進行。
[0043]在放置之后，觸點裝置可以借助于激光輻射接觸觸點基板的觸點表面，該激光輻射通過負壓管38發(fā)射，該負壓管38還形成為在接收裝置36的接收頭37的區(qū)域中的傳輸管63。
[0044]在由第二處理裝置18的接收裝置36保持的觸點裝置將從加工移除的情況下，圖5所示的傳遞裝置64設(shè)置于臺架11，該傳遞裝置64具有接收觸點裝置用的承載件基板65，這里所述的承載件基板形成為具有粘結(jié)面的帶(tape)，經(jīng)由引導(dǎo)軌道66引導(dǎo)所述帶。觸點裝置可以通過與承載件基板65的粘結(jié)面接觸且通過使施加到接收頭37的負壓失去作用而被傳遞到承載件基板65。
【權(quán)利要求】
1.一種用于將觸點裝置配置于觸點基板的裝置，其特征在于，其包括:第一處理裝置(17)，所述第一處理裝置(17)用于從配置在第一基板支撐件￠0)上的承載件基板拾取觸點裝置；第二處理裝置(18)，所述第二處理裝置(18)用于從所述第一處理裝置接收所述觸點裝置且將所述觸點裝置放置在配置在第二基板支撐件￠1)上的所述觸點基板上，以用于所述觸點裝置與所述觸點基板的端子面的隨后接觸，其中，所述第一處理裝置和所述第二處理裝置能夠借助于多軸移位裝置(19、20)來與配置所述第一基板支撐件和所述第二基板支撐件的臺架(11)的臺平面(15)平行地移位。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝置，其特征在于， 所述第一處理裝置具有與所述臺平面平行的樞轉(zhuǎn)軸線，使得所述第一處理裝置的拾取裝置能夠從與所述臺平面平行的取向樞轉(zhuǎn)到朝向所述第一基板支撐件、與所述臺平面垂直的取向。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的裝置，其特征在于， 所述第一處理裝置(17)設(shè)置有相機(29)，所述相機(29)的光軸(30)垂直于所述臺平面(15)地取向，所述第一基板支撐件￠0)能夠繞著與所述臺平面垂直的轉(zhuǎn)動軸線轉(zhuǎn)動。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的裝置，其特征在于， 所述臺架(11)設(shè)置有相機(32)，所述相機(32)的光軸(33)與所述臺平面(15)平行地取向。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的裝置，其特征在于， 接收容器(34)與所述相機(32)關(guān)聯(lián)，所述接收容器(34)具有配置于所述臺平面(15)的接收口(35)。
6.根據(jù)權(quán)利要求2至5中任一項所述的裝置，其特征在于， 所述第一處理裝置(17)的所述拾取裝置(26)具有拾取頭(27)，所述拾取頭(27)經(jīng)由負壓管連接到負壓裝置。
7.根據(jù)權(quán)利要求2至5中任一項所述的裝置，其特征在于， 所述第二處理裝置(18)具有接收裝置(36)和與所述臺平面(15)垂直的平移軸(Z11)，所述接收裝置(36)具有經(jīng)由負壓管(38)連接到負壓裝置的接收頭(37)，使得能夠借助于所述第二處理裝置的所述接收頭，將已借助于所述第二處理裝置(18)的所述接收裝置(36)從所述第一處理裝置(17)的所述拾取裝置(26)接收的所述觸點裝置，放置在配置在所述第二基板支撐件￠1)上的所述觸點基板的觸點表面上。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的裝置，其特征在于， 所述第二處理裝置(18)設(shè)置有光軸垂直于所述臺平面(15)地取向的相機(58)，所述第二基板支撐件￠1)能夠繞著與所述臺平面垂直的轉(zhuǎn)動軸線(59)轉(zhuǎn)動。
9.根據(jù)權(quán)利要求7所述的裝置，其特征在于， 所述臺架(11)包括具有三個相機(51、52、53)的相機配置(50)，所述三個相機(51、52,53)的光軸(54、55、56)以如下方式與空間軸(X、Y、Z)對應(yīng)地取向:第一相機(51)的所述光軸(54)和第二相機(52)的所述光軸(55)在與所述臺平面(15)平行的平面中取向且第三相機(53)的所述光軸(56)與所述臺平面垂直地取向，三個光軸匯合于共同的光學(xué)交叉點(S)處。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的裝置，其特征在于， 所述臺架(11)具有與所述相機配置(50)相鄰的止動裝置(57)，所述第二處理裝置(18)的所述接收頭(37)設(shè)置有定位裝置(47)，所述定位裝置(47)具有用于觸點裝置的定位抵接的至少兩個定位表面(48、49)。
11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的裝置，其特征在于， 所述臺架(11)設(shè)置有傳遞裝置(64)，所述傳遞裝置￠4)用于傳遞在所述第二處理裝置(18)的所述接收頭(37)處配置的觸點裝置，所述傳遞裝置具有承載件基板(65)，所述承載件基板(65)用于接收所述觸點裝置并且設(shè)置有粘結(jié)面。
12.根據(jù)權(quán)利要求7所述的裝置，其特征在于， 所述第二處理裝置(18)的所述接收裝置(36)的所述負壓管(38)至少在存在于所述接收頭(37)中的管端部的區(qū)域也形成為傳輸管(63)，用于傳輸由激光輻射源發(fā)射的激光輻射。
【文檔編號】G01R3/00GK204188678SQ201420674166
【公開日】2015年3月4日 申請日期:2014年11月5日 優(yōu)先權(quán)日:2014年7月15日
【發(fā)明者】加西姆·阿茲達什 申請人:派克泰克封裝技術(shù)有限公司