一種飛點(diǎn)形成裝置制造方法
【專(zhuān)利摘要】本實(shí)用新型公開(kāi)了一種飛點(diǎn)形成裝置，包括輻射源和屏蔽體，屏蔽體的側(cè)壁上具有至少兩對(duì)螺旋槽，每個(gè)螺旋槽具有預(yù)定斜率；第一入射槽與第二入射槽相鄰，第一入射槽的首端高于第二入射槽的首端，第一入射槽的末端高于第二入射槽的末端，第一入射槽的末端與第二入射槽的首端相隔預(yù)定距離，第一入射槽的末端不高于第二入射槽的首端；屏蔽體的第一軸截面與第一入射槽的末端相交，第二軸截面與第二入射槽的首端相交，第一軸截面與第二軸截面的夾角大于0度。利用本實(shí)用新型能夠提高屏蔽體的抗拉性能。
【專(zhuān)利說(shuō)明】一種飛點(diǎn)形成裝置

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型涉及輻射成像【技術(shù)領(lǐng)域】，具體涉及一種飛點(diǎn)形成裝置。

【背景技術(shù)】
[0002]目前采用一種基于可旋轉(zhuǎn)屏蔽機(jī)構(gòu)的飛點(diǎn)掃描設(shè)備進(jìn)行安檢，可旋轉(zhuǎn)屏蔽機(jī)構(gòu)為圓柱體，側(cè)壁上開(kāi)有供射線入射和出射的螺旋線縫隙，在圓柱體旋轉(zhuǎn)過(guò)程中，射線經(jīng)狹縫準(zhǔn)直器照射圓柱體，輻射的粒子通過(guò)螺旋線縫隙出射，形成飛點(diǎn)，飛點(diǎn)高速運(yùn)動(dòng)形成掃描線，對(duì)移動(dòng)的被測(cè)物體實(shí)施掃描。這種飛點(diǎn)掃描設(shè)備可用于無(wú)損檢測(cè)、安檢等場(chǎng)合。
[0003]圖1所示為一種飛點(diǎn)掃描設(shè)備的使用狀態(tài)圖，輻射源I與屏蔽體5之間放置有狹縫準(zhǔn)直器3，屏蔽體5為中空?qǐng)A柱體，水平放置，右側(cè)為沿箭頭11方向移動(dòng)的被測(cè)物8。屏蔽體5側(cè)壁上具有一對(duì)螺旋線縫隙6’和6”，輻射源I發(fā)出射線，經(jīng)由狹縫準(zhǔn)直器3上的直線縫隙2被限制為扇形射線束4，照射到圓柱體5上。當(dāng)屏蔽體5繞自身中心軸旋轉(zhuǎn)時(shí)(旋轉(zhuǎn)方向?yàn)榧^12所示)，扇形射線束4的射線由縫隙6’入射，再穿過(guò)縫隙6”出射(顯然，縫隙6’和6”兩者的位置相對(duì)應(yīng))，形成筆形射線束10。屏蔽體5持續(xù)旋轉(zhuǎn)，則經(jīng)縫隙6”出射的飛點(diǎn)在箭頭13的水平面內(nèi)形成無(wú)數(shù)筆形射線束，被測(cè)物8在掃描范圍內(nèi)沿箭頭11方向移動(dòng)，完成飛點(diǎn)掃描。
[0004]值得注意的是，圖1從原理上解釋了飛點(diǎn)形成的過(guò)程，反映了飛點(diǎn)形成原理，但是在實(shí)際應(yīng)用中，屏蔽體5上的螺旋線縫隙6’和6”并不能完全按照?qǐng)D1設(shè)計(jì)，這是因?yàn)?射線源I發(fā)出的射線是以輻射源的焦點(diǎn)為圓心的錐形射線束，而非平行射線，準(zhǔn)直后的扇形射線束以不同的張角穿過(guò)屏蔽體5，因此射線在屏蔽體5內(nèi)部的路徑不是相互平行的，而是互成角度的。因此如果縫隙6’和6”如圖1所示分布在整個(gè)屏蔽體5的高度方向上，必然有一部分縫隙始終沒(méi)有射線經(jīng)過(guò)，還一部分入射射線被遮擋而無(wú)法出射。
[0005]實(shí)際使用的飛點(diǎn)形成裝置的屏蔽體如圖2所示，其中左圖為屏蔽體豎直放置的側(cè)視圖，右圖為屏蔽體的側(cè)壁展開(kāi)圖，側(cè)壁展開(kāi)后為具有一定厚度的矩形板。從側(cè)壁展開(kāi)圖上可清楚地看到兩個(gè)縫隙he和h’e’，其中he為入射槽，類(lèi)似于縫隙6’，其分布限制在180度圓周范圍內(nèi)；h’e’為出射槽，類(lèi)似于縫隙6”，其分布限制在另外180度圓周范圍內(nèi)。某一時(shí)刻下，輻射源發(fā)出的射線可由入射槽he上的一點(diǎn)(如he的中點(diǎn))入射，并由出射槽h’ e’上的對(duì)應(yīng)點(diǎn)(如h’ e’的中點(diǎn))出射,形成一個(gè)飛點(diǎn),符合飛點(diǎn)形成原理。
[0006]經(jīng)過(guò)大量研究分析發(fā)現(xiàn)，基于圖2的屏蔽體的飛點(diǎn)掃描設(shè)備存在以下缺點(diǎn):1、入射槽he和出射槽h’ e’各占據(jù)側(cè)壁的一半空間，且出射槽h’ e’分布在側(cè)壁整個(gè)高度方向上，側(cè)壁抗拉性能差，在屏蔽體高速旋轉(zhuǎn)的情況下，受離心力F = m?r2的作用，屏蔽體將非常容易發(fā)生變形，設(shè)備不能按照設(shè)計(jì)的軌跡形成飛點(diǎn)，影響掃描質(zhì)量；在極端情況下屏蔽體可能開(kāi)裂，存在安全隱患。2、在屏蔽體旋轉(zhuǎn)一周的過(guò)程中，只在入射槽所處的180度范圍內(nèi)射線能夠形成飛點(diǎn)，其余180度范圍內(nèi)無(wú)入射槽分布，無(wú)法形成飛點(diǎn)，掃描效率低。


【發(fā)明內(nèi)容】

[0007]有鑒于此，本實(shí)用新型提出一種飛點(diǎn)形成裝置，采用分段連續(xù)的螺旋槽設(shè)計(jì)方案，不僅可以提高屏蔽體抗拉性能，而且在整個(gè)旋轉(zhuǎn)周期內(nèi)均可形成飛點(diǎn)。
[0008]本實(shí)用新型提供一種飛點(diǎn)形成裝置，包括輻射源和屏蔽體，屏蔽體為中空?qǐng)A柱體，屏蔽體的側(cè)壁上具有成對(duì)設(shè)置的螺旋槽，每對(duì)螺旋槽包括一個(gè)入射槽和一個(gè)出射槽，屏蔽體的側(cè)壁上具有至少兩對(duì)螺旋槽，其中相對(duì)于屏蔽體的橫截面，每個(gè)螺旋槽具有預(yù)定斜率；所述至少兩對(duì)螺旋槽中的第一入射槽與第二入射槽相鄰，第一入射槽的首端高于第二入射槽的首端，第一入射槽的末端高于第二入射槽的末端，第一入射槽的末端與第二入射槽的首端相隔預(yù)定距離，第一入射槽的末端不高于第二入射槽的首端；并且，屏蔽體的第一軸截面與第一入射槽的末端相交，第二軸截面與第二入射槽的首端相交，第一軸截面與第二軸截面的夾角大于O度；所述至少兩對(duì)螺旋槽中的各出射槽的位置對(duì)應(yīng)于與其成對(duì)設(shè)置的入射槽的位置。
[0009]優(yōu)選地，所述至少兩對(duì)螺旋槽中的入射槽分布于屏蔽體側(cè)壁的0-360度圓周范圍內(nèi)。
[0010]優(yōu)選地，其中第一入射槽的斜率與第二入射槽的斜率不相等。
[0011]優(yōu)選地，其中所述至少兩對(duì)螺旋槽中的第一入射槽的末端與第二入射槽的首端相隔第一距離，第二入射槽的末端與第三入射槽的首端相隔第二距離，第一距離與第二距離不相等。
[0012]優(yōu)選地，其中第一入射槽的末端與第二入射槽的首端等高。
[0013]本實(shí)用新型的有益效果:本實(shí)用新型基于“分段連續(xù)”的設(shè)計(jì)理念，對(duì)飛點(diǎn)形成裝置中屏蔽體上的螺旋槽(包括入射槽和出射槽)進(jìn)行了優(yōu)化設(shè)計(jì)，打破了以往較為單一的設(shè)計(jì)模式。本實(shí)用新型在滿足飛點(diǎn)形成原理的前提下，將屏蔽體上的多個(gè)螺旋槽相間隔地布置，屏蔽體剛性得到提高，高速旋轉(zhuǎn)作業(yè)時(shí)不易變形，抗拉性能好。當(dāng)采用多個(gè)入射槽分布于屏蔽體整個(gè)旋轉(zhuǎn)周期的方案時(shí)，任一時(shí)刻均可形成飛點(diǎn)，掃描效率高。本實(shí)用新型使飛點(diǎn)形成裝置的硬件性能和掃描效果兩方面均大幅改善。

【專(zhuān)利附圖】

【附圖說(shuō)明】
[0014]圖1是現(xiàn)有技術(shù)中一種飛點(diǎn)掃描設(shè)備的使用狀態(tài)圖。
[0015]圖2是現(xiàn)有技術(shù)中一種飛點(diǎn)形成裝置中的屏蔽體示意圖。
[0016]圖3是本實(shí)用新型第一實(shí)施例的屏蔽體側(cè)壁展開(kāi)圖，具有三段入射槽。
[0017]圖4和圖5是本實(shí)用新型第二實(shí)施例的屏蔽體側(cè)壁展開(kāi)圖，具有四段入射槽。
[0018]圖6是本實(shí)用新型第三實(shí)施例的屏蔽體側(cè)壁展開(kāi)圖，具有三段入射槽。
[0019]圖7是本實(shí)用新型第四實(shí)施例的屏蔽體側(cè)壁展開(kāi)圖，具有四段入射槽。
[0020]圖8是本實(shí)用新型實(shí)施例的屏蔽體縱向剖面圖。

【具體實(shí)施方式】
[0021]以下結(jié)合附圖以及具體實(shí)施例，對(duì)本實(shí)用新型的技術(shù)方案進(jìn)行詳細(xì)描述。
[0022]根據(jù)飛點(diǎn)形成原理，對(duì)于飛點(diǎn)形成裝置中屏蔽體上的入射槽和出射槽，兩者是相互對(duì)應(yīng)的，可將兩者的對(duì)應(yīng)關(guān)系描述為:入射槽和出射槽的尺寸和布置方式使得在屏蔽體旋轉(zhuǎn)過(guò)程中，某一時(shí)刻下，輻射源焦點(diǎn)、入射點(diǎn)和對(duì)應(yīng)出射點(diǎn)三點(diǎn)成一條直線。舉例來(lái)說(shuō)，參考圖2中左圖，tl時(shí)刻下，輻射源焦點(diǎn)P、入射點(diǎn)h和對(duì)應(yīng)出射點(diǎn)h’三點(diǎn)成一條直線；屏蔽體旋轉(zhuǎn)180°之后(t2時(shí)刻)，輻射源焦點(diǎn)P、入射點(diǎn)e和對(duì)應(yīng)出射點(diǎn)e’三點(diǎn)成一條直線。將入射槽、出射槽分別視為由無(wú)數(shù)個(gè)入射點(diǎn)、出射點(diǎn)組成，則在tl到t2時(shí)間段內(nèi)，入射槽he上的每一點(diǎn)與出射槽h’ e’上的每一點(diǎn)一一對(duì)應(yīng)。對(duì)于不符合這種對(duì)應(yīng)關(guān)系的入射點(diǎn)或出射點(diǎn)，不能形成飛點(diǎn)。據(jù)此可知，一旦輻射源和屏蔽體的相對(duì)位置確定，且屏蔽體上的入射槽確定，出射槽隨之確定。
[0023]圖3示出了本實(shí)用新型一個(gè)實(shí)施例的屏蔽體側(cè)壁展開(kāi)圖，輻射源未示出，屏蔽體上具有三段入射槽ha、cb和de，以及對(duì)應(yīng)的三段出射槽h’ a’、c’ b’、d’ e’，三段入射槽分段連續(xù)，三段出射槽亦分段連續(xù)。下文為描述方便，假設(shè)屏蔽體為直立放置，屏蔽體的底面在水平面上，屏蔽體的旋轉(zhuǎn)中心軸在豎直方向上。
[0024]具體來(lái)看，圖3實(shí)施例中，入射槽ha的a端與入射槽cb的c端高度相同，兩端點(diǎn)相隔一定距離；同時(shí)，入射槽cb的b端與入射槽de的d端高度相同，兩端點(diǎn)相隔一定距離。
[0025]根據(jù)輻射源和入射槽可確定的三段出射槽h’ a’、c’ b’、d’ e’的尺寸和位置，本實(shí)施例中，h’ a’的a’端與c’ b’的c’端高度相同，相隔一定距離，同時(shí)c’ b’的b’端與d’ e’的d’端高度相同，相隔一定距離。
[0026]按照上述設(shè)計(jì)制作加工成中空?qǐng)A柱體，得到具有三段入射槽和三段出射槽的屏蔽體，入射槽和出射槽各自分段連續(xù)。本實(shí)施例中圓柱體的任一軸截面不會(huì)同時(shí)經(jīng)過(guò)兩個(gè)入射槽，也不會(huì)同時(shí)經(jīng)過(guò)兩個(gè)出射槽。
[0027]為了更清楚地解釋本實(shí)用新型，將圖3和圖2結(jié)合來(lái)看，基于圖2中的入射槽he，對(duì)其稍作調(diào)整，縮短其長(zhǎng)度，選取he中的任意兩個(gè)點(diǎn)作為分段點(diǎn)，把he從分段點(diǎn)處斷開(kāi)，則he斷裂為三段較短的螺旋槽，移動(dòng)三段中的至少兩段，使三段螺旋槽間隔開(kāi)，間隔的距離可以相等，也可以不等，如圖3中的ha、cb和de，兩段間隔ac和bd長(zhǎng)度相等。對(duì)出射槽h’e’做對(duì)應(yīng)的處理，可得到h’ a’、c’b’、d’ e’。
[0028]圖3實(shí)施例的三段入射槽ha、cb、de與水平線的夾角相同，也就是三段入射槽所在直線的斜率相同。在本實(shí)用新型的其它實(shí)施例中，也可令各入射槽與水平線的夾角不同。舉例來(lái)講，將ha、cb、de與水平線的夾角記為Z A、Z B和Z C，圖3中Z A =ZB =Z C。在某些情況下(如加工精度不高時(shí))，三個(gè)角不必兩兩相等，也可令Z A古Z B古Z C。只要三段入射槽在高度方向上連續(xù)(即a端與c端同高，b端與d端同高)即可，允許射線不間斷地入射。
[0029]進(jìn)一步地，考慮到屏蔽體加工精度的問(wèn)題，不必嚴(yán)格地設(shè)計(jì)為a端與c端同高、b端與d端同高，具體可按照以下方式處理:參考圖3，延長(zhǎng)ha的長(zhǎng)度，假設(shè)h端固定，令a端沿ha的長(zhǎng)度方向移動(dòng)一定距離,則a端低于c端,也就是說(shuō)，ha和cb在高度方向上有重合的部分，仍符合本實(shí)用新型的分段連續(xù)的布設(shè)原理。需要注意的是，在后期處理飛點(diǎn)掃描數(shù)據(jù)時(shí)，應(yīng)將ha和cb在高度方向上重合部分的數(shù)據(jù)去掉，僅保留連續(xù)的飛點(diǎn)掃描數(shù)據(jù)，確保成像質(zhì)量。
[0030]以上描述了本實(shí)用新型的螺旋槽“分段連續(xù)”的布設(shè)原理?；趫D3實(shí)施例的屏蔽體的飛點(diǎn)形成裝置，在滿足飛點(diǎn)形成原理的前提下，屏蔽體上的多個(gè)螺旋槽相間隔地布置，各螺旋槽長(zhǎng)度較短，屏蔽體剛性得到提高，在高速旋轉(zhuǎn)作業(yè)時(shí)不易變形，抗拉性能好。
[0031]在本實(shí)用新型的其它實(shí)施例中，還可在屏蔽體上設(shè)計(jì)兩段、四段、五段或更多的入射槽，多段入射槽分段連續(xù)，出射槽與入射槽相對(duì)應(yīng)。圖4和圖5示出了具有四段入射槽的情況。具體地，在入射槽he上選定三個(gè)點(diǎn)a、b和C，然后在選定點(diǎn)處斷開(kāi)，he被分為四段入射槽，移動(dòng)以使四段入射槽相互間隔開(kāi)，如圖5，得到ha、db、fc和ge，四者分段連續(xù)。對(duì)出射槽做對(duì)應(yīng)的處理，得到h’ a’、d’ b’、f’ c’和g’ e’，四者分段連續(xù)。
[0032]比較而言，當(dāng)屏蔽體直徑較大時(shí)，橫向上可容納較多螺旋槽；當(dāng)屏蔽體高度較大時(shí)，縱向上可容納較多螺旋槽。
[0033]另一方面，圖3實(shí)施例中，入射槽ha、cb和de分布在屏蔽體的0_180度圓周范圍內(nèi)，出射槽h’ a’、c’ b’和d’ e’分布在屏蔽體的180-360度圓周范圍內(nèi)。這說(shuō)明在該屏蔽體旋轉(zhuǎn)一周的過(guò)程中，只在0-180度圓周范圍內(nèi)能夠形成飛點(diǎn)，而180-360度圓周范圍內(nèi)不會(huì)形成飛點(diǎn)。也就是說(shuō)，在屏蔽體的旋轉(zhuǎn)周期中，有約二分之一的時(shí)間無(wú)法獲得掃描數(shù)據(jù)，掃描效率低下。
[0034]為提高掃描效率，本實(shí)用新型將多段入射槽的分布范圍擴(kuò)展至360度圓周范圍內(nèi)，并根據(jù)輻射源位置確定對(duì)應(yīng)的多段出射槽的位置，可得到如圖6的屏蔽體側(cè)壁展開(kāi)圖。
[0035]圖6實(shí)施例中，入射槽ha、cb和de分布在屏蔽體的0_360度圓周范圍內(nèi)，三者分段連續(xù)。與圖3實(shí)施例相比，圖6實(shí)施例的排布方式可增大入射槽的長(zhǎng)度。關(guān)于出射槽h’a’、c’ b’和d’ e’的位置，觀察圖6可知，出射槽h’ a’、c’ b’和d’ e’也分布在屏蔽體的0-360度圓周范圍內(nèi)，且在高度方向上的分布范圍比入射槽ha、cb和de的分布范圍更大。
[0036]基于圖6實(shí)施例形成中空?qǐng)A柱體，作為飛點(diǎn)形成裝置的屏蔽體。相比圖2和圖3實(shí)施例的屏蔽體，圖6實(shí)施例的三段入射槽分布于屏蔽體的整個(gè)旋轉(zhuǎn)周期內(nèi)，不存在射線不能入射的情況，掃描過(guò)程中任一時(shí)刻均可形成飛點(diǎn)，獲得掃描數(shù)據(jù)，掃描效率提高了 50%。
[0037]由于圖6實(shí)施例的三段入射槽分布于圓柱體的整個(gè)旋轉(zhuǎn)周期內(nèi)，因此圓柱體的一個(gè)軸截面有可能同時(shí)經(jīng)過(guò)兩個(gè)入射槽，例如對(duì)于圖6中經(jīng)過(guò)入射槽ha的h端的軸截面，也會(huì)經(jīng)過(guò)入射槽cb中的某一點(diǎn)，該點(diǎn)與h點(diǎn)高度不同，徑向上相差π弧度，落在同一軸截面上。
[0038]在本實(shí)用新型的其它實(shí)施例中，還可在屏蔽體上設(shè)計(jì)兩段、四段、五段或更多的入射槽，多段入射槽分段連續(xù)，且分布在屏蔽體的整個(gè)旋轉(zhuǎn)周期內(nèi)，出射槽與入射槽相對(duì)應(yīng)。
[0039]需要說(shuō)明的是，由于多段入射槽分布在屏蔽體的整個(gè)旋轉(zhuǎn)周期內(nèi)，與其對(duì)應(yīng)的出射槽也分布在屏蔽體的整個(gè)旋轉(zhuǎn)周期內(nèi)，有可能出現(xiàn)某一個(gè)或多個(gè)出射槽與其它入射槽相交的情況，說(shuō)明當(dāng)前的排布位置不合適。這時(shí)需要重新布置入射槽和出射槽的位置，可通過(guò)調(diào)整入射槽的斜率、調(diào)整入射槽之間的間隔和/或調(diào)整入射槽的長(zhǎng)度等方式重新布置入射槽，再相應(yīng)地調(diào)整出射槽，使各個(gè)螺旋槽相互間隔開(kāi)。
[0040]圖7示出了具有四段入射槽的情況，入射槽ha、db、fc和ge分布在屏蔽體的0_360度圓周范圍內(nèi)，四者分段連續(xù)。進(jìn)一步地，如前文所述，多段入射槽的斜率可以相等，也可以不相等；相鄰入射槽之間的間隔長(zhǎng)度可以相等，也可以不相等。詳細(xì)來(lái)看，圖7的四段入射槽中，ge的斜率明顯大于其余三個(gè)入射槽的斜率，且fc和ge之間的間隔eg的長(zhǎng)度明顯大于ad或bf的長(zhǎng)度。相應(yīng)地，四段出射槽中，g’ e’的斜率大于其余三個(gè)出射槽的斜率，c’ g’的長(zhǎng)度大于a’d’或b’ f’的長(zhǎng)度。這樣設(shè)計(jì)的好處是，根據(jù)屏蔽體側(cè)壁的尺寸靈活地調(diào)整各個(gè)螺旋槽的角度和相互之間的間隔，在滿足飛點(diǎn)形成原理的前提下，使入射槽和出射槽盡量均勻地分布在屏蔽體側(cè)壁上，避免在高速旋轉(zhuǎn)過(guò)程中某一方向上或某一點(diǎn)上因受力過(guò)大而型變，可最大限度的提升屏蔽體剛度。
[0041]除此之外，在屏蔽體加工過(guò)程中，需要注意螺旋槽的切口方向問(wèn)題。應(yīng)基于輻射源位置、輻射源和屏蔽體的距離以及屏蔽體上入射槽、出射槽的位置，來(lái)確定入射槽、出射槽的切口方向。圖8示出了本實(shí)用新型一個(gè)實(shí)施例的屏蔽體的縱向剖面圖，屏蔽體側(cè)壁具有一定厚度(圖中陰影部分)，側(cè)壁上四個(gè)缺口為入射槽、出射槽的切口，點(diǎn)P代表輻射源的焦點(diǎn)。圖中示意性地展示了某一時(shí)刻下形成一個(gè)飛點(diǎn)的過(guò)程。具體地，A和A’為一對(duì)入射槽和對(duì)應(yīng)的出射槽的切口，α是A切口方向與水平面的夾角，β是Α’切口方向與水平面的夾角，α = β，Ε和Ε’為另一對(duì)入射槽和對(duì)應(yīng)的出射槽的切口，Θ是該時(shí)刻下某一條射線的入射方向與水平面的夾角。注意到，在該時(shí)刻下α = β = θ，因此射線能夠通過(guò)A(入射)和A’(出射)形成一個(gè)飛點(diǎn)。對(duì)于同一時(shí)刻的其它射線，例如到達(dá)E’的射線，其入射方向與E’的切口方向不同，射線被遮擋，無(wú)法穿過(guò)屏蔽體出射，因此在該時(shí)刻下不會(huì)形成另一個(gè)飛點(diǎn)，滿足飛點(diǎn)形成原理。隨著屏蔽體旋轉(zhuǎn)，當(dāng)E切口旋轉(zhuǎn)至入射面時(shí)，射線的入射方向與E和E’的切口方向相同，將形成一個(gè)飛點(diǎn)。
[0042]在實(shí)際的產(chǎn)品應(yīng)用中，圓柱體的旋轉(zhuǎn)速度越高，其檢測(cè)圖像越清晰。從本實(shí)用新型的方案可以看出，對(duì)于入射槽的數(shù)量，無(wú)論是分三段、四段或多段，入射槽分段的斷開(kāi)點(diǎn)是任意的。為了讓圓柱體的旋轉(zhuǎn)速度盡可能達(dá)到最高，應(yīng)選取合適的斷開(kāi)點(diǎn)位置，并可依靠力學(xué)分析軟件對(duì)不同分點(diǎn)方案進(jìn)行圓柱體的力學(xué)分析，從而選取最優(yōu)方案，使得圓柱體的剛性最好，旋轉(zhuǎn)速度達(dá)到最高，同時(shí)能夠保證在高速旋轉(zhuǎn)情況下，圓柱體不變形、不碎裂，圖像清晰度達(dá)到最好。
[0043]以上，結(jié)合具體實(shí)施例對(duì)本實(shí)用新型的技術(shù)方案進(jìn)行了詳細(xì)介紹，所描述的具體實(shí)施例用于幫助理解本實(shí)用新型的思想。本領(lǐng)域技術(shù)人員在本實(shí)用新型具體實(shí)施例的基礎(chǔ)上做出的推導(dǎo)和變型也屬于本實(shí)用新型保護(hù)范圍之內(nèi)。
【權(quán)利要求】
1.一種飛點(diǎn)形成裝置，包括輻射源和屏蔽體，屏蔽體為中空?qǐng)A柱體，屏蔽體的側(cè)壁上具有成對(duì)設(shè)置的螺旋槽，每對(duì)螺旋槽包括一個(gè)入射槽和一個(gè)出射槽，其特征在于， 屏蔽體的側(cè)壁上具有至少兩對(duì)螺旋槽，其中相對(duì)于屏蔽體的橫截面，每個(gè)螺旋槽具有預(yù)定斜率； 所述至少兩對(duì)螺旋槽中的第一入射槽與第二入射槽相鄰，第一入射槽的首端高于第二入射槽的首端，第一入射槽的末端高于第二入射槽的末端，第一入射槽的末端與第二入射槽的首端相隔預(yù)定距離，第一入射槽的末端不高于第二入射槽的首端；并且， 屏蔽體的第一軸截面與第一入射槽的末端相交，第二軸截面與第二入射槽的首端相交，第一軸截面與第二軸截面的夾角大于O度； 所述至少兩對(duì)螺旋槽中的各出射槽的位置對(duì)應(yīng)于與其成對(duì)設(shè)置的入射槽的位置。
2.如權(quán)利要求1所述的飛點(diǎn)形成裝置，其特征在于，所述至少兩對(duì)螺旋槽中的入射槽分布于屏蔽體側(cè)壁的0-360度圓周范圍內(nèi)。
3.如權(quán)利要求1所述的飛點(diǎn)形成裝置，其特征在于，其中第一入射槽的斜率與第二入射槽的斜率不相等。
4.如權(quán)利要求1所述的飛點(diǎn)形成裝置，其特征在于，其中所述至少兩對(duì)螺旋槽中的第一入射槽的末端與第二入射槽的首端相隔第一距離，第二入射槽的末端與第三入射槽的首端相隔第二距離，第一距離與第二距離不相等。
5.如權(quán)利要求1所述的飛點(diǎn)形成裝置，其特征在于，其中第一入射槽的末端與第二入射槽的首端等高。
【文檔編號(hào)】G01V5/00GK204116249SQ201420542180
【公開(kāi)日】2015年1月21日 申請(qǐng)日期:2014年9月19日 優(yōu)先權(quán)日:2014年9月19日
【發(fā)明者】王彥華 申請(qǐng)人:北京君和信達(dá)科技有限公司