形狀測(cè)量裝置制造方法
【專利摘要】本實(shí)用新型的形狀測(cè)量裝置通過(guò)提高光源光的受光效率，不提高光源輸出，而確保所希望的受光量。形狀測(cè)量裝置(1)具備向被測(cè)量物體(W)的設(shè)置面(2)投射光的投光部(3)和接收由投光部(3)投射的光的受光部(4)，通過(guò)受光部(4)的輸出來(lái)測(cè)量被測(cè)量物體的形狀和尺寸，其中，投光部(3)具備光源(10)、入射從光源(10)射出的光的桿積分器(11)、以及具有能夠取入從桿積分器(11)的光射出面(11A)射出的全光束的開(kāi)口數(shù)和視場(chǎng)而且至少在被測(cè)量物體側(cè)呈遠(yuǎn)心狀態(tài)的投光光學(xué)系統(tǒng)(20)，受光部(4)具備接收被測(cè)量物體的投影影像的拍攝元件(12)和使設(shè)置面(2)與拍攝元件(12)的受光面成為共軛關(guān)系的物體側(cè)遠(yuǎn)心受光光學(xué)系統(tǒng)(30)，投光光學(xué)系統(tǒng)(20)內(nèi)部的開(kāi)口光圈(22)與受光光學(xué)系統(tǒng)(30)內(nèi)部的開(kāi)口光圈(33)處于共軛關(guān)系。
【專利說(shuō)明】形狀測(cè)量裝置

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001] 本實(shí)用新型涉及一種測(cè)量被測(cè)量物體的形狀和尺寸的形狀測(cè)量裝置。

【背景技術(shù)】
[0002] 通過(guò)光學(xué)構(gòu)件測(cè)量被測(cè)量物體的形狀和尺寸的裝置通常具備有向配置有被測(cè)量 物體的測(cè)量范圍投射平行光的投光部以及接收由投光部投射的光中未被被測(cè)量物體遮擋 的光的受光部，受光部通過(guò)遠(yuǎn)心受光透鏡對(duì)由投光部投射的光進(jìn)行聚光，通過(guò)圖像傳感器 接收通過(guò)配置在焦點(diǎn)位置的光圈的光來(lái)測(cè)量被測(cè)量物體的形狀和尺寸（參照下述專利文 獻(xiàn)1)。
[0003] 專利文獻(xiàn)1 :日本專利公開(kāi)2000-155013號(hào)公報(bào)
[0004] 在這種現(xiàn)有技術(shù)中，在投光部中使用將光源所射出的光設(shè)為平行光的準(zhǔn)直透鏡等 投光透鏡，但出于光源不是完整的點(diǎn)光源，且由于光學(xué)系統(tǒng)的分辨率與（波長(zhǎng)/開(kāi)口數(shù)）成 正比，因此為了得到實(shí)用的分辨率而不得不使用平行光以外的光等理由而不能將來(lái)自光源 的光全部設(shè)為平行光，因此在受光部側(cè)使用遠(yuǎn)心光學(xué)系統(tǒng)來(lái)抑制被測(cè)量物體因向光軸方向 的偏位導(dǎo)致的測(cè)量精度下降。然而，即使利用遠(yuǎn)心光學(xué)系統(tǒng)也難以增加開(kāi)口數(shù)，只能接收光 源射出的光的一部分，因此為了確保規(guī)定的受光量，需提高光源輸出，從節(jié)能觀點(diǎn)考慮存在 問(wèn)題。
[0005] 并且，從光源射出的光存在光量不均，若該光量不均顯現(xiàn)在圖像傳感器的輸出中， 則測(cè)量精度降低，因此前述的以往技術(shù)中，在光源的前面配置擴(kuò)散板來(lái)消除光量不均。然 而，若使用擴(kuò)散板，則存在如下問(wèn)題：非平行光進(jìn)一步增加而導(dǎo)致投光強(qiáng)度降低，且受光量 降低，并且因擴(kuò)散光產(chǎn)生大量的雜散光，因此通過(guò)受光部?jī)?nèi)的光圈的雜散光入射到圖像傳 感器，使圖像傳感器輸出的對(duì)比度降低，對(duì)測(cè)量精度造成不良影響。 實(shí)用新型內(nèi)容
[0006] 本實(shí)用新型以解決這種問(wèn)題作為課題的一例。即本實(shí)用新型的目的在于通過(guò)提高 光源光的利用效率，不提高光源輸出，而確保所希望的受光量，并消除光源光的光量不均的 同時(shí)排除雜散光對(duì)測(cè)量精度造成的不良影響等。
[0007] 為了達(dá)到這種目的，本實(shí)用新型的形狀測(cè)量裝置至少具備以下結(jié)構(gòu)。
[0008] -種形狀測(cè)量裝置，其具備向被測(cè)量物體的設(shè)置面投射光的投光部和接收由所述 投光部投射的光的受光部，通過(guò)所述受光部的輸出來(lái)測(cè)量被測(cè)量物體的形狀，其中，所述投 光部具備光源、桿積分器及投光光學(xué)系統(tǒng)，所述桿積分器中入射從所述光源射出的光，所述 投光光學(xué)系統(tǒng)具有能夠取入從所述桿積分器的光射出面射出的全光束的開(kāi)口數(shù)和視場(chǎng)，且 至少在所述被測(cè)量物體側(cè)呈遠(yuǎn)心狀態(tài)，所述受光部具備拍攝元件和物體側(cè)遠(yuǎn)心受光光學(xué)系 統(tǒng)，所述拍攝元件接收被測(cè)量物體的投影影像，所述物體側(cè)遠(yuǎn)心受光光學(xué)系統(tǒng)使所述設(shè)置 面與所述拍攝元件的受光面成為共軛關(guān)系，所述投光光學(xué)系統(tǒng)內(nèi)部的開(kāi)口光圈與所述受光 光學(xué)系統(tǒng)內(nèi)部的開(kāi)口光圈處于共軛關(guān)系。
[0009] 具備這種特征的形狀測(cè)量裝置通過(guò)提高光源光的利用效率，無(wú)需提高光源輸出， 就能夠確保所希望的受光量。并且，消除光源光的光量不均的同時(shí)，能夠排除雜散光對(duì)測(cè)量 精度造成的不良影響。

【專利附圖】

【附圖說(shuō)明】
[0010] 圖1是說(shuō)明本實(shí)用新型的一實(shí)施方式所涉及的形狀測(cè)量裝置的概要結(jié)構(gòu)的說(shuō)明 圖。
[0011] 圖2是表示本實(shí)用新型的一實(shí)施方式所涉及的形狀測(cè)量裝置中的投光光學(xué)系統(tǒng) 的一例的說(shuō)明圖。
[0012] 圖3是表示本實(shí)用新型的一實(shí)施方式所涉及的形狀測(cè)量裝置中的受光光學(xué)系統(tǒng) 的一例的說(shuō)明圖。
[0013] 圖4是表示本實(shí)用新型的實(shí)施方式所涉及的形狀測(cè)量裝置中的光學(xué)系統(tǒng)的其他 結(jié)構(gòu)例的說(shuō)明圖。圖4(a)表示光學(xué)系統(tǒng)的YZ剖視圖，圖4(b)表示光學(xué)系統(tǒng)的XZ剖視圖， 圖4(c)表示各光學(xué)要件的XY剖視圖。
[0014] 圖5是說(shuō)明菲涅爾透鏡的陰影的說(shuō)明圖。
[0015] 圖6表示照度平滑濾波器的功能的說(shuō)明圖。圖6 (a)是將中心部的透射率設(shè)為50% 的例子，圖6(b)是將中心部的透射率設(shè)為80%的例子。
[0016] 圖7是表示照度平滑濾波器的插入效果的說(shuō)明圖。圖7(a)表示未插入的情況下 的照度分布，圖7(b)表示插入的情況下的照度分布。
[0017] 1-形狀測(cè)量裝置，2-設(shè)置面，3-投光部，4-受光部，5-形狀測(cè)量部，10-光源， 11-桿積分器，11A-光射出面，12-拍攝兀件，12A-受光面，20_投光光學(xué)系統(tǒng)，21_第一透鏡 組，22-開(kāi)口光圈，23-光路折射鏡，24-第二透鏡組，24f-菲涅爾透鏡，25-照度平滑濾波器， 30-受光光學(xué)系統(tǒng)，31-第三透鏡組，32-第四透鏡組，33-開(kāi)口光圈，W-被測(cè)量物體。

【具體實(shí)施方式】
[0018] 以下，參照附圖對(duì)本實(shí)用新型的實(shí)施方式進(jìn)行說(shuō)明。圖1是說(shuō)明本實(shí)用新型的一 實(shí)施方式所涉及的形狀測(cè)量裝置的說(shuō)明圖。圖2是表示本實(shí)用新型的一實(shí)施方式所涉及的 形狀測(cè)量裝置中的投光光學(xué)系統(tǒng)的一例的說(shuō)明圖。圖3是表示本實(shí)用新型的一實(shí)施方式所 涉及的形狀測(cè)量裝置中的受光光學(xué)系統(tǒng)的一例的說(shuō)明圖。
[0019] 形狀測(cè)量裝置1具備：投光部3,向被測(cè)量物體W的設(shè)置面2投射光；受光部4,接 收由投光部3投射的光。并且，具備通過(guò)受光部4的輸出來(lái)測(cè)量被測(cè)量物體W的形狀和尺 寸的形狀測(cè)量部5。
[0020] 投光部3具備光源10、桿積分器11以及投光光學(xué)系統(tǒng)20,從光源10射出的光入 射到桿積分器11中，從桿積分器11射出的光經(jīng)由投光光學(xué)系統(tǒng)20投射到設(shè)置有被測(cè)量物 體W的設(shè)置面2。
[0021] 光源10能夠例如由發(fā)光二極管單體構(gòu)成。桿積分器11為通過(guò)使入射的光在內(nèi)部 多重反射，從而能夠使光量分布均勻化的部件，且具有不使從光源10射出的光擴(kuò)散，而消 除光量不均的功能。
[0022] 投光光學(xué)系統(tǒng)20構(gòu)成兩側(cè)遠(yuǎn)心光學(xué)系統(tǒng)。具體而言，如圖2所示，從桿積分器11 側(cè)依次具備第一透鏡組21、開(kāi)口光圈22、光路折射鏡23以及第二透鏡組24,具有能夠取入 從桿積分器11的光射出面11A射出的全光束的開(kāi)口數(shù)和視場(chǎng)。并且，通過(guò)開(kāi)口光圈22內(nèi) 的一點(diǎn)的光成為平行光并照射到設(shè)置面2,當(dāng)桿積分器11的光射出面11A上的光強(qiáng)度分布 不均勻的情況下，具有使其均勻化的功能。光路折射鏡23是為了使投光部3的各要件的配 置空間緊湊化而設(shè)置的部件。
[0023] 受光部4具備：拍攝元件12,接收被測(cè)量物體W的投影影像；物體側(cè)遠(yuǎn)心受光光學(xué) 系統(tǒng)30,使設(shè)置面2和拍攝元件12的受光面12A成為共軛關(guān)系。如圖3所示，具體而言，受 光光學(xué)系統(tǒng)30具備第三透鏡組31和第四透鏡組32,第四透鏡組32的內(nèi)部配置有開(kāi)口光圈 33。該受光光學(xué)系統(tǒng)30使通過(guò)設(shè)置面2上的一點(diǎn)并通過(guò)開(kāi)口光圈33的光全部聚光到受光 面12A的一點(diǎn)上。即，通過(guò)設(shè)置面2上的被測(cè)量物體W的輪廓的一點(diǎn)的光聚光到拍攝元件 12的受光面12A上，被測(cè)量物體W的輪廓以已設(shè)定的倍率縮小并在受光面12A上成像而形 成投影影像。就投光光學(xué)系統(tǒng)20與受光光學(xué)系統(tǒng)30之間的關(guān)系而言，投光光學(xué)系統(tǒng)20內(nèi) 的開(kāi)口光圈22與受光光學(xué)系統(tǒng)30內(nèi)的開(kāi)口光圈33之間的關(guān)系呈共軛關(guān)系。
[0024] 并且，通過(guò)所述投光光學(xué)系統(tǒng)，所述桿積分器的光射出面與所述設(shè)置面呈共軛關(guān) 系。
[0025] 形狀測(cè)量部5根據(jù)來(lái)自受光部4的輸出測(cè)量被測(cè)量物體W的形狀，根據(jù)通過(guò)被測(cè) 量物體W的輪廓的投影影像獲得的對(duì)比度信息，輸出被測(cè)量物體W的輪廓形狀的坐標(biāo)數(shù)據(jù) 和投影寬度等尺寸數(shù)據(jù)。
[0026] 根據(jù)具有這種結(jié)構(gòu)的形狀測(cè)量裝置1，從光源10射出的光入射到桿積分器11而 均勻化，因此桿積分器11的光射出面11A成為幾乎均勻的面光源。由此，即使在由發(fā)光二 極管形成光源10的情況下，也能夠得到將光量分布平均化的均勻面光源。并且，在設(shè)置面 2的附近，與設(shè)置面2垂直的均勻平行光投射到被測(cè)量物體W。另外，在設(shè)置面2的投光部 3側(cè)配置兩側(cè)遠(yuǎn)心光學(xué)系統(tǒng)，在受光部4側(cè)配置有物體側(cè)遠(yuǎn)心光學(xué)系統(tǒng)，因此能夠使通過(guò)被 測(cè)量物體W的輪廓的光幾乎全部在受光面12A上成像，能夠提高邊緣分辨率而提高測(cè)量精 度。
[0027] 并且，就投光光學(xué)系統(tǒng)20與受光光學(xué)系統(tǒng)30之間的關(guān)系而言，投光光學(xué)系統(tǒng)20 內(nèi)的開(kāi)口光圈22與受光光學(xué)系統(tǒng)30內(nèi)的開(kāi)口光圈33之間的關(guān)系呈共軛關(guān)系，因此使開(kāi)口 光圈33的影像大小與開(kāi)口光圈22的影像大小相同，或者小于開(kāi)口光圈22的影像大小，由 此能夠有效地抑制雜散光。另外，受光光學(xué)系統(tǒng)30的分辨率與焦點(diǎn)深度取決于投光光學(xué)系 統(tǒng)的開(kāi)口數(shù)與受光光學(xué)系統(tǒng)的開(kāi)口數(shù)，因此通過(guò)將開(kāi)口光圈22和開(kāi)口光圈33中的一方或 雙方設(shè)為可變光圈，從而能夠改變受光光學(xué)系統(tǒng)30的分辨率以及焦點(diǎn)深度。
[0028] 此時(shí)，優(yōu)選桿積分器11的光射出面11A的外周形狀與設(shè)置有被測(cè)量物體W的設(shè)置 面2的外周形狀相似。并且，優(yōu)選形成在設(shè)置面2的光射出面11A的影像大于等于設(shè)置面 2的外周形狀。通過(guò)這樣設(shè)定，能夠向設(shè)置面2的整個(gè)面投射均勻的平行光，即使將被測(cè)量 物體W放置在設(shè)置面的任意處都能夠進(jìn)行邊緣分辨率較高的測(cè)量。并且，使桿積分器11的 光射出面11A和設(shè)置面2的外周形狀相同，來(lái)使兩者的外周一致，由此如前所述，能夠向設(shè) 置面的整個(gè)面投射均勻的平行光，并且能夠抑制從設(shè)置面2偏離的雜散光的產(chǎn)生。
[0029] 由此，從光源10射出并入射到桿積分器11的光幾乎全部成為均勻的平行光而投 射到設(shè)置面2上，這些幾乎全部都在受光面12A上成像，因此能夠提高光源光的利用效率， 無(wú)需提高光源10的輸出，就能夠確保規(guī)定的受光量。并且，不會(huì)散射光源光，因此能夠抑制 雜散光的產(chǎn)生的同時(shí)，能夠排除因光源10的光量不均導(dǎo)致的測(cè)量精度的下降。
[0030] 圖4是表示本實(shí)用新型的實(shí)施方式所涉及的形狀測(cè)量裝置中的光學(xué)系統(tǒng)的其他 結(jié)構(gòu)例的說(shuō)明圖。（a)表示光學(xué)系統(tǒng)的YZ剖視圖，（b)表示光學(xué)系統(tǒng)的XZ剖視圖，（c)表 示各光學(xué)要件的XY剖視圖。與前述的說(shuō)明共用的地方附加相同符號(hào)來(lái)省略重復(fù)說(shuō)明。
[0031] 圖4所示的例子中，作為桿積分器11使用板狀桿棱鏡，作為光源10使用LED縱列 光源。并且，在投光光學(xué)系統(tǒng)20中的第二透鏡組24中使用菲涅爾透鏡24f。菲涅爾透鏡 24f與玻璃透鏡相比價(jià)格低且容易進(jìn)行薄型化，并且還容易進(jìn)行非球面化，因此具有能夠去 除像差的優(yōu)點(diǎn)。
[0032] 如圖5所示，菲涅爾透鏡24f的截面形狀為鋸齒狀，因此可形成陰影24s，該陰影 影響光量分布，因此在開(kāi)口光圈22與第二透鏡組24之間加入照度平滑濾波器（變跡濾波 器）25來(lái)改善光量分布的不均勻。照度平滑濾波器25具有如圖6所示的透光率的特性，因 此為了抑制因菲涅爾透鏡24f的陰影造成與透鏡的中心部分相比周邊部分的透射光量降 低的影響，具有使中心部分的透射率低于周邊部分的濾波器模式。圖6 (a)是相對(duì)于周邊部 分將中心部分的透射率設(shè)為50%的例子，圖6(b)是相對(duì)于周邊部分將中心部分的透射率 設(shè)為80%的例子。通過(guò)插入這種照度平滑濾波器25,能夠?qū)⑷鐖D7(a)所示的照度不均改 善為如圖7(b)所示的平滑化的照度分布。
[0033] 如以上說(shuō)明，本實(shí)用新型的實(shí)施方式所涉及的形狀測(cè)量裝置1通過(guò)由投光部3的 桿積分器11形成均勻面光源、及組合投光光學(xué)系統(tǒng)20中采用的兩側(cè)遠(yuǎn)心光學(xué)系統(tǒng)與受光 光學(xué)系統(tǒng)30中采用的物體側(cè)遠(yuǎn)心光學(xué)系統(tǒng)，從而提高光源光的利用效率，無(wú)需提高光源10 的輸出就能夠確保所希望的受光量，并且能夠消除光源光的光量不均的同時(shí)，有效地排除 雜散光對(duì)測(cè)量精度造成的不良影響。
【權(quán)利要求】
1. 一種形狀測(cè)量裝置，其具備向被測(cè)量物體的設(shè)置面投射光的投光部和接收由所述投 光部投射的光的受光部，通過(guò)所述受光部的輸出來(lái)測(cè)量被測(cè)量物體的形狀和尺寸，其特征 在于， 所述投光部具備光源、桿積分器及投光光學(xué)系統(tǒng)，所述桿積分器中入射從所述光源射 出的光，所述投光光學(xué)系統(tǒng)具有能夠取入從所述桿積分器的光射出面射出的全光束的開(kāi)口 數(shù)和視場(chǎng)，且至少在所述被測(cè)量物體側(cè)呈遠(yuǎn)心狀態(tài)， 所述受光部具備拍攝元件和物體側(cè)遠(yuǎn)心受光光學(xué)系統(tǒng)，所述拍攝元件接收被測(cè)量物體 的投影影像，所述物體側(cè)遠(yuǎn)心受光光學(xué)系統(tǒng)使所述設(shè)置面與所述拍攝元件的受光面成為共 軛關(guān)系， 所述投光光學(xué)系統(tǒng)內(nèi)部的開(kāi)口光圈與所述受光光學(xué)系統(tǒng)內(nèi)部的開(kāi)口光圈處于共軛關(guān) 系。
2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的形狀測(cè)量裝置，其特征在于， 所述投光光學(xué)系統(tǒng)使所述桿積分器的光射出面與所述設(shè)置面成為共軛關(guān)系。
3. 根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的形狀測(cè)量裝置，其特征在于， 所述光射出面的外周形狀與所述設(shè)置面的外周形狀相似。
4. 根據(jù)權(quán)利要求3所述的形狀測(cè)量裝置，其特征在于， 形成于所述設(shè)置面的所述光射出面的影像大于等于所述設(shè)置面的外周形狀。
5. -種形狀測(cè)量裝置，其具備向被測(cè)量物體的設(shè)置面投射光的投光部和接收由所述投 光部投射的光的受光部，通過(guò)所述受光部的輸出來(lái)測(cè)量被測(cè)量物體的形狀和尺寸，其特征 在于， 所述投光部具備光源、桿積分器及投光光學(xué)系統(tǒng)，所述桿積分器中入射從所述光源射 出的光，所述投光光學(xué)系統(tǒng)具有能夠取入從所述桿積分器的光射出面射出的全光束的開(kāi)口 數(shù)和視場(chǎng)，且至少在所述被測(cè)量物體側(cè)呈遠(yuǎn)心狀態(tài)， 所述受光部具備拍攝元件和物體側(cè)遠(yuǎn)心受光光學(xué)系統(tǒng)，所述拍攝元件接收被測(cè)量物體 的投影影像，所述物體側(cè)遠(yuǎn)心受光光學(xué)系統(tǒng)使所述設(shè)置面與所述拍攝元件的受光面成為 共輒關(guān)系， 所述投光光學(xué)系統(tǒng)內(nèi)部的開(kāi)口光圈與所述受光光學(xué)系統(tǒng)內(nèi)部的開(kāi)口光圈處于共軛關(guān) 系， 所述投光光學(xué)系統(tǒng)從所述桿積分器側(cè)依次具備第一透鏡組、開(kāi)口光圈、光路折射鏡以 及第二透鏡組。
6. 根據(jù)權(quán)利要求5所述的形狀測(cè)量裝置，其特征在于， 所述投光光學(xué)系統(tǒng)使所述桿積分器的光射出面與所述設(shè)置面成為共軛關(guān)系。
7. 根據(jù)權(quán)利要求5所述的形狀測(cè)量裝置，其特征在于， 所述光源為發(fā)光二極管。
8. 根據(jù)權(quán)利要求7所述的形狀測(cè)量裝置，其特征在于， 所述投光光學(xué)系統(tǒng)使所述桿積分器的光射出面與所述設(shè)置面成為共軛關(guān)系。
9. 根據(jù)權(quán)利要求5至8中任一項(xiàng)所述的形狀測(cè)量裝置，其特征在于， 所述光射出面的外周形狀與所述設(shè)置面的外周形狀相似。
10. 根據(jù)權(quán)利要求9所述的形狀測(cè)量裝置，其特征在于， 形成于所述設(shè)置面的所述光射出面的影像大于等于所述設(shè)置面的外周形狀。
11. 一種形狀測(cè)量裝置，其具備被向測(cè)量物體的設(shè)置面投射光的投光部和接收由所述 投光部投射的光的受光部，通過(guò)所述受光部的輸出來(lái)測(cè)量被測(cè)量物體的形狀和尺寸，其特 征在于， 所述投光部具備光源、桿積分器及投光光學(xué)系統(tǒng)，所述桿積分器中入射從所述光源射 出的光，所述投光光學(xué)系統(tǒng)具有能夠取入從所述桿積分器的光射出面射出的全光束的開(kāi)口 數(shù)和視場(chǎng)，且至少在所述被測(cè)量物體側(cè)呈遠(yuǎn)心狀態(tài)， 所述受光部具備拍攝元件和物體側(cè)遠(yuǎn)心受光光學(xué)系統(tǒng)，所述拍攝元件接收被測(cè)量物體 的投影影像，所述物體側(cè)遠(yuǎn)心受光光學(xué)系統(tǒng)使所述設(shè)置面與所述拍攝元件的受光面成為共 軛關(guān)系， 所述投光光學(xué)系統(tǒng)內(nèi)部的開(kāi)口光圈與所述受光光學(xué)系統(tǒng)內(nèi)部的開(kāi)口光圈處于共軛關(guān) 系， 所述光源為發(fā)光二極管。
12. 根據(jù)權(quán)利要求11所述的形狀測(cè)量裝置，其特征在于， 所述投光光學(xué)系統(tǒng)使所述桿積分器的光射出面與所述設(shè)置面成為共軛關(guān)系。
13. 根據(jù)權(quán)利要求11或12所述的形狀測(cè)量裝置，其特征在于， 所述光射出面的外周形狀與所述設(shè)置面的外周形狀相似。
14. 根據(jù)權(quán)利要求13所述的形狀測(cè)量裝置，其特征在于， 形成于所述設(shè)置面的所述光射出面的影像大于等于所述設(shè)置面的外周形狀。
【文檔編號(hào)】G01B11/25GK203837664SQ201420204535
【公開(kāi)日】2014年9月17日 申請(qǐng)日期:2014年4月24日 優(yōu)先權(quán)日:2013年4月24日
【發(fā)明者】吉田太郎, 大淵一人, 上原誠(chéng) 申請(qǐng)人:株式會(huì)社V技術(shù)