技術(shù)總結(jié)
基于光學(xué)倍程法的二自由度外差光柵干涉儀位移測(cè)量系統(tǒng)，包括雙頻激光器、光柵干涉儀、測(cè)量光柵、光電轉(zhuǎn)換單元；光柵干涉儀包括偏振分光棱鏡、參考光柵、折光元件；該測(cè)量系統(tǒng)基于光柵衍射、光學(xué)多普勒效應(yīng)和光學(xué)拍頻原理實(shí)現(xiàn)位移測(cè)量。雙頻激光器的激光入射至光柵干涉儀、測(cè)量光柵后輸出兩路光信號(hào)至光電轉(zhuǎn)換單元。當(dāng)干涉儀與測(cè)量光柵做二自由度線性相對(duì)運(yùn)動(dòng)時(shí)，系統(tǒng)可輸出二個(gè)線性位移。該測(cè)量系統(tǒng)采用二次衍射原理實(shí)現(xiàn)光學(xué)倍程,提高了分辨率，能夠?qū)崿F(xiàn)亞納米甚至更高分辨率及精度，且能夠同時(shí)測(cè)量二個(gè)線性位移。該測(cè)量系統(tǒng)具有對(duì)環(huán)境不敏感、測(cè)量精度高、體積小、質(zhì)量輕等優(yōu)點(diǎn)，作為光刻機(jī)超精密工件臺(tái)位移測(cè)量系統(tǒng)可提升工件臺(tái)綜合性能。

技術(shù)研發(fā)人員：朱煜;王磊杰;張鳴;吳亞風(fēng);劉召;徐登峰;成榮;尹文生;穆海華;楊開(kāi)明;胡金春;胡楚雄;祁利山
受保護(hù)的技術(shù)使用者：清華大學(xué);北京華卓精科科技股份有限公司
文檔號(hào)碼：201410031283
技術(shù)研發(fā)日：2014.01.23
技術(shù)公布日：2017.02.08