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運(yùn)動(dòng)或其它行為感測系統(tǒng)的制作方法與工藝

文檔序號(hào):11734587閱讀:來源:國知局
運(yùn)動(dòng)或其它行為感測系統(tǒng)的制作方法與工藝

技術(shù)特征:
1.一種鞋制品,包括:至少部分限定足部容納腔室的鞋幫構(gòu)件;與鞋幫構(gòu)件配合的鞋底結(jié)構(gòu);以及可去除地容納電子模塊的殼體,該殼體位于鞋底結(jié)構(gòu)的中底構(gòu)件和外底構(gòu)件之間,由此形成鞋底結(jié)構(gòu)的一部分,其中殼體限定容座,其中該容座的電子模塊接收腔室至少在一方面是不對(duì)稱的,且其中殼體還位于沖擊力衰減構(gòu)件之間,所述沖擊力衰減構(gòu)件被包括做為鞋底結(jié)構(gòu)的部分。2.如權(quán)利要求1所述的鞋制品,其中殼體形成鞋底結(jié)構(gòu)的中底的一部分。3.如權(quán)利要求1所述的鞋制品,其中殼體被形成在鞋底結(jié)構(gòu)的跟部部分中。4.如權(quán)利要求1所述的鞋制品,其中電子模塊接收腔室能從足部容納腔室的外部接近。5.如權(quán)利要求1所述的鞋制品,還包括:可去除地至少部分地接合在殼體中的電子模塊。6.如權(quán)利要求5所述的鞋制品,還包括:用于將電子模塊與殼體固定的系統(tǒng)。7.如權(quán)利要求6所述的鞋制品,其中所述系統(tǒng)包括與殼體和沖擊力衰減構(gòu)件的至少之一配合的覆蓋元件,并且其中覆蓋元件延伸跨過容座。8.如權(quán)利要求6所述的鞋制品,其中所述系統(tǒng)包括保持裝置,該保持裝置與至少部分跨過容座延伸的殼體和沖擊力衰減構(gòu)件的至少之一配合。9.如權(quán)利要求6所述的鞋制品,其中所述系統(tǒng)包括用于將電子模塊相對(duì)于殼體保持在位的緊固件。10.如權(quán)利要求6所述的鞋制品,其中所述系統(tǒng)的至少一部分直接與電子模塊配合。11.如權(quán)利要求6所述的鞋制品,其中所述系統(tǒng)包括延伸進(jìn)入在電子模塊中限定的凹陷、開口或溝槽內(nèi)的構(gòu)件。12.如權(quán)利要求1所述的鞋制品,進(jìn)一步包括:與鞋幫構(gòu)件或鞋底結(jié)構(gòu)的至少之一配合的天線系統(tǒng)。13.一種鞋制品,包括:至少部分限定足部容納腔室的鞋幫構(gòu)件;與鞋幫構(gòu)件配合的鞋底結(jié)構(gòu);以及可去除地容納電子模塊的殼體,該殼體形成鞋底結(jié)構(gòu)的一部分,其中殼體限定容座,其中該容座的電子模塊接收腔室至少在一方面是不對(duì)稱的,且其中殼體還位于沖擊力衰減構(gòu)件之間,所述沖擊力衰減構(gòu)件被包括做為鞋底結(jié)構(gòu)的部分;和與鞋幫構(gòu)件或鞋底結(jié)構(gòu)的至少之一配合的天線系統(tǒng),且其中該天線系統(tǒng)從殼體延伸。14.如權(quán)利要求13所述的鞋制品,還包括:電子模塊,其至少部分地配合在殼體中且操作地與天線系統(tǒng)連接。
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