過孔的檢測方法和檢測裝置制造方法
【專利摘要】本發(fā)明公開了一種過孔的檢測方法和檢測裝置，所述過孔設置于膜層中，所述檢測方法包括：向所述過孔的內壁發(fā)射入射光線；接收由所述內壁反射形成的第一反射光線和由所述膜層的下底面反射形成的第二反射光線；根據所述第一反射光線和所述第二反射光線生成干涉圖樣；根據所述干涉圖樣檢測所述過孔的內壁參數。本發(fā)明提供的檢測方法利用了光的干涉原理，實現了對過孔的實時檢測，更重要的是，該檢測方法不用破壞待檢測的產品，有效的節(jié)約了經濟成本。
【專利說明】過孔的檢測方法和檢測裝置
【技術領域】
[0001]本發(fā)明涉及顯示面板加工領域，特別涉及一種過孔的檢測方法和檢測裝置。
【背景技術】
[0002]目前在對顯示面板進行加工時，為了部件之間的連線方便，會在顯示面板上的膜層中形成一些過孔，導線通過過孔將部件連接起來，其中，膜層會包括若干個子膜層。
[0003]在對過孔進行刻蝕的過程中，相鄰的子膜層的交界處容易出現過度刻蝕的現象，進而會在過孔的內壁出現倒角(undercut)的問題，因此，在對過孔加工完成后需要對過孔的內壁進行檢測。其中，對過孔的檢測包括對過孔的內壁平整度的檢測以及對過孔的內壁傾斜角的檢測。
[0004]圖1為過孔的結構示意圖，圖2為合格過孔的內壁的示意圖，如圖1和圖2所示，在襯底基材3上形成有膜層2，過孔設置于膜層2中，具體地，貫穿膜層2形成該過孔。其中膜層2包括多個材料相同子膜層21，合格過孔的內壁I是平整的，內壁I與襯底基材3呈一定的內壁傾斜角。其中，襯底基材3可為金屬膜層或基板。圖3為過孔的內壁出現倒角的示意圖，如圖3所示，在襯底基材3上形成有膜層2，在內壁I上出現缺口 4，即內壁I上產生了倒角的問題，使得內壁I不平整。
[0005]在現有技術中，在對過孔的內壁平整度進行檢測以及過孔的內壁傾斜角進行檢測時，需要先將帶有過孔的產品進行切割取樣，然后進行掃描電鏡(scanning electronmiCToscope，簡稱SEM)測試，進而檢測出過孔的內壁平整度為平整或不平整，或者檢測出過孔的內壁傾斜角等于預先設定角或不等于預先設定角。
[0006]由上述內容可知，現有的過孔檢測技術無法實時的檢測過孔，只能是在對過孔加工完成后才能進行檢測，更重要的是現有的過孔檢測技術是一種破壞性檢測技術，需要將帶有過孔的產品進行切割取樣后再進行檢測，從而破壞了待測試的產品，使得產品完全報廢，造成不必要的損失。
【發(fā)明內容】
[0007]本發(fā)明提供一種過孔的檢測方法和檢測裝置，該檢測方法能實現對過孔的實時檢測，更重要的是該檢測方法不用破壞待檢測的產品。
[0008]為實現上述目的，本發(fā)明提供一種過孔的檢測方法，其中，所述過孔設置于膜層中，所述檢測方法包括:
[0009]向所述過孔的內壁發(fā)射入射光線；
[0010]接收由所述內壁反射形成的第一反射光線和由所述膜層的下底面反射形成的第二反射光線；
[0011]根據所述第一反射光線和所述第二反射光線生成干涉圖樣；
[0012]根據所述干涉圖樣檢測所述過孔的內壁參數。
[0013]可選地，所述向所述過孔的內壁發(fā)射入射光線之前，還包括:獲取所述過孔的坐標位置。
[0014]可選地，所述內壁參數包括:內壁平整度，所述根據所述干涉圖樣檢測所述過孔的內壁參數包括:
[0015]判斷所述干涉圖樣中是否包括彎曲的干涉條紋；
[0016]若判斷出所述干涉圖樣中未包括彎曲的干涉條紋，則檢測出所述內壁平整度為平整；
[0017]若判斷出所述干涉圖樣中包括彎曲的干涉條紋，則檢測出所述內壁平整度為不平
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[0018]可選地，所述內壁參數包括內壁傾斜角，所述根據所述干涉圖樣檢測所述過孔的內壁參數包括:
[0019]根據所述干涉圖樣獲取所述干涉圖樣中干涉條紋的總數N ；
[0020]根據所述干涉條紋的總數，通過
【權利要求】
1.一種過孔的檢測方法，其特征在于，所述過孔設置于膜層中，所述檢測方法包括: 向所述過孔的內壁發(fā)射入射光線； 接收由所述內壁反射形成的第一反射光線和由所述膜層的下底面反射形成的第二反射光線； 根據所述第一反射光線和所述第二反射光線生成干涉圖樣； 根據所述干涉圖樣檢測所述過孔的內壁參數。
2.根據權利要求1所述的過孔的檢測方法，其特征在于，所述向所述過孔的內壁發(fā)射入射光線之前，還包括: 獲取所述過孔的坐標位置。
3.根據權利要求1所述的過孔的檢測方法，其特征在于，所述內壁參數包括:內壁平整度，所述根據所述干涉圖樣檢測所述過孔的內壁參數包括: 判斷所述干涉圖樣中是否包括彎曲的干涉條紋； 若判斷出所述干涉圖樣中未包括彎曲的干涉條紋，則判定所述內壁平整度為平整； 若判斷出所述干涉圖樣中包括彎曲的干涉條紋，則判定所述內壁平整度為不平整。
4.根據權利要求1所述的過孔的檢測方法，其特征在于，所述內壁參數包括內壁傾斜角，所述根據所述干涉圖樣檢測所述過孔的內壁參數包括: 根據所述干涉圖樣獲取所述干涉圖樣中干涉條紋的總數N ；
IN 根據所述干涉條紋的總數，通過Y計算出所述內壁傾斜角，其中λ為入射
n L光線的波長，η為膜層的折射率，L為發(fā)射到所述內壁上的入射光線的水平寬度。
5.根據權利要求4所述的過孔的檢測方法，其特征在于，所述向所述過孔的內壁發(fā)射入射光線之前還包括: 調整發(fā)射所述入射光線的光源的位置，使得發(fā)射到所述內壁上的入射光線的水平寬度為設定寬度L。
6.根據權利要求4所述的過孔的檢測方法，其特征在于，所述根據所述干涉條紋的總
XN數,通過a=arctan —計算出所述內壁傾斜角之后，還包括:
n L 判斷所述內壁傾斜角是否等于預先設定角； 若判斷出所述內壁傾斜角等于預先設定角，則判定所述內壁傾斜角合格； 若判斷出所述內壁傾斜角不等于預先設定角，則判定所述內壁傾斜角不合格。
7.—種過孔的檢測裝置，其特征在于，所述過孔設置于膜層中，所述檢測裝置包括: 發(fā)射裝置，用于向所述過孔的內壁發(fā)射入射光線； 接收裝置，用于接收由所述內壁反射形成的第一反射光線和由所述膜層的下底面反射形成的第二反射光線； 生成裝置，用于根據所述第一反射光線和所述第二反射光線生成干涉圖樣； 檢測子裝置，用于根據所述干涉圖樣檢測所述過孔的內壁參數。
8.根據權利要求7所述的過孔的檢測裝置，其特征在于，所述內壁參數包括:內壁平整度，所述檢測子裝置包括: 第一判斷裝置，用于判斷所述干涉圖樣中是否包括彎曲的干涉條紋；第一判定裝置，用于若判斷出所述干涉圖樣中未包括彎曲的干涉條紋，則判定所述內壁平整度為平整； 第二判定裝置，用于若判斷出所述干涉圖樣中包括彎曲的干涉條紋，則判定所述內壁平整度為不平整。
9.根據權利要求7所述的過孔的檢測裝置，其特征在于，所述內壁參數包括內壁傾斜角，所述檢測子裝置包括: 獲取模塊，用于根據所述干涉圖樣獲取所述干涉圖樣中干涉條紋的總數N ; 計算模塊，用于根據所述干涉條紋的總數，通過α=arctanλN/nL計算出所述內壁傾斜角， 其中λ為入射光線的波長，η為膜層的折射率，L為發(fā)射到所述內壁上的入射光線的水平寬度。
10.根據權利要求9所述的過孔的檢測裝置，其特征在于，所述檢測裝置還包括: 調整裝置，用于調整發(fā)射所述入射光線的光源的位置，使得發(fā)射到所述內壁上的入射光線的水平寬度為設定寬度L。
11.根據權利要求9所述的過孔的檢測裝置，其特征在于，所述檢測裝置還包括: 第二判斷裝置，用于判斷所述內壁傾斜角是否等于預先設定角； 第三判定裝置，用于若判斷出所述內壁傾斜角等于預先設定角，則判定所述內壁傾斜角合格； 第四判定裝置，用于若判斷出所述內壁傾斜角不等于預先設定角，則判定所述內壁傾斜角不合格。
【文檔編號】G01B11/30GK103471505SQ201310421903
【公開日】2013年12月25日 申請日期:2013年9月16日 優(yōu)先權日:2013年9月16日
【發(fā)明者】王守坤, 郭會斌, 劉曉偉, 郭總杰 申請人:京東方科技集團股份有限公司, 北京京東方顯示技術有限公司