大面積玻片的物體表面輪廓的處理方法
【專利摘要】本發(fā)明涉及一種處理多陣列顯微鏡系統(tǒng)成像物體輪廓的系統(tǒng)和方法。物體被外力調(diào)整來貼合支撐基片的一個表面，基片用吸力固定物體，支撐基片被外力彎曲，使用至少一個執(zhí)行器通過改變基片曲率來減少物體表面輪廓與預(yù)設(shè)的相關(guān)表面的偏差。特別是，被選定的物體的表面可以平整以便于該表面可使用多陣列顯微鏡的多個物鏡同時成像。本發(fā)明的有益效果體現(xiàn)為：通過本發(fā)明的系統(tǒng)及方法，可以處理物體輪廓的偏差，使之與成像表面相一致，使成像更清楚。
【專利說明】大面積玻片的物體表面輪廓的處理方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及一種陣列顯微鏡成像系統(tǒng)，具體來說，是用來處理一個多物鏡陣列顯微鏡成像的物體表面輪廓的測量系統(tǒng)及方法，以及用于成像系統(tǒng)中的支撐系統(tǒng)。
【背景技術(shù)】
[0002]在陣列顯微鏡的多軸成像系統(tǒng)中，大量的光學(xué)元件在整體上是可移動的，并且處于同一個陣列中，這樣可以成像一般物體的各個部分，如美國專利6842290, 6958464，7061584, 7482566和7864369等中所述的。因?yàn)楸怀上竦奈矬w的輪廓(例如一個表面)不一定完全在物鏡陣列的聚焦范圍的深度內(nèi)，大量的物鏡同時沿著光軸轉(zhuǎn)換，來成像物體的不同部分。然而，當(dāng)被成像的物體的輪廓不完全在聚焦范圍的深度內(nèi)時，陣列顯微鏡的成像至少有一部分會是模糊的。因?yàn)橐粋€物體的輪廓通常是不可預(yù)見的，成像也有可能偏離物鏡聚焦的物體表面，這就需要一個系統(tǒng)或方法來處理物體輪廓的偏差，使之與成像表面相一致。
[0003]技術(shù)內(nèi)容
本發(fā)明提供一種新的調(diào)整陣列顯微鏡的多個物鏡成像的物體表面輪廓的測量系統(tǒng)及方法，可以解決現(xiàn)有技術(shù)中存在的被成像的物體的輪廓不完全在聚焦范圍的高度內(nèi)時，陣列顯微鏡的成像至少有一部分會是模糊的問題。
[0004]本發(fā)明的技術(shù)方案是:
一個用來成像物體的顯微鏡系統(tǒng)，其中包括支撐物體第一個表面的支撐基片，具有一個流體端口和連接流體端口與第一表面的通道；顯微鏡的第一物鏡和第二物鏡可以同時沿著一個光軸移動(在成像過程中)來取得物體的成像；一組執(zhí)行器連接在支撐基片的第二表面上，可以聚焦第二表面，通過改變曲率使表面變平。這個系統(tǒng)可以選擇性地包括一個程序，該程序可以操作一組執(zhí)行器中的至少一個，來評估代表由第一物鏡和第二物鏡沿光軸掃描的物體輪廓的成像數(shù)據(jù)。
[0005]一個用來成像物體的顯微鏡系統(tǒng)，其中包含可操作的多個物鏡與之連接在一起，可以同時沿著一個光軸離焦掃描一個物體，一個有尺寸的支撐基片，使物體的第一表面同時貼合支撐基片的第一表面，因此使支撐基片與物體表面有一個吸力。這個系統(tǒng)還包括一個改變基片第二表面曲率的方法；和一個具有計(jì)算機(jī)可讀程序產(chǎn)品的有形非臨時計(jì)算機(jī)可讀存儲介質(zhì)。這個有形的存儲介質(zhì)是可調(diào)節(jié)地連接在多個物鏡上的，這個計(jì)算機(jī)可讀程序產(chǎn)品包括(i)在存儲介質(zhì)中存儲成像數(shù)據(jù)的程序編碼；和(ii)決定基于成像數(shù)據(jù)的糾正數(shù)據(jù)的程序編碼，其中糾正數(shù)據(jù)代表第二表面曲率改變的圖。這個系統(tǒng)的多個物鏡可以在空間上配合，他們相關(guān)的標(biāo)準(zhǔn)表面可以在成像過程中同時被移動。加之，改變曲率的方法可以包括一組執(zhí)行器(包括一個或多個執(zhí)行器)在第一表面末端連接基片的第二表面。這組執(zhí)行器可以嵌在嵌入式的框架內(nèi)，應(yīng)用于基片第二表面正面或負(fù)面的壓力。
[0006]一個支撐物體的系統(tǒng)，其成像系統(tǒng)可以使用多個物鏡同時成像一個物體。這個系統(tǒng)包括一個有尺寸的基片來支撐物體的第一表面，和可調(diào)的支撐基片來評估代表多個物鏡同時離焦掃描物體的數(shù)據(jù)。在一個特定的應(yīng)用中，方法包括第一和第二執(zhí)行器被調(diào)整來連接基片的第二表面，基片可以在第一表面形成負(fù)氣壓來使物體的一個表面與第一表面相貼合。
[0007]—個處理物體表面輪廓的方法，其中包括把物體放置在有一個連接點(diǎn)的支撐基片的表面；同時聚焦第一第二物鏡掃描物體來確定物體輪廓與相關(guān)表面的不同。這個方法還包括彎曲支撐基片來減少誤差。
[0008]本發(fā)明的有益效果體現(xiàn)為:通過本發(fā)明的系統(tǒng)及方法，可以處理物體輪廓的偏差，使之與成像表面相一致，使成像更清楚。
【專利附圖】

【附圖說明】
[0009]圖1說明了現(xiàn)有技術(shù)中使用一個陣列顯微鏡產(chǎn)生的玻片的表面輪廓的偏差。
[0010]圖2為本發(fā)明系統(tǒng)的一個方案的側(cè)面圖。
[0011]圖3為本發(fā)明實(shí)施的流程示意圖。
[0012]圖4A是一個系統(tǒng)的一部分，展示了貼合相關(guān)基片的玻片的輪廓，在輪廓操作中實(shí)現(xiàn)真空。
[0013]圖4B是圖4A中系統(tǒng)的一部分，在操作過程中玻片的輪廓被處理了。
[0014]圖5展示了空間二維矩形執(zhí)行器陣列的蹤跡，根據(jù)本發(fā)明的一個方案，使用了大面積的相關(guān)基片和玻片。
【具體實(shí)施方式】
[0015]在這個詳細(xì)描述中引用的“一個方案”、“一個相關(guān)的方案”，或者其他類似的語句代表一個特定的特性、結(jié)構(gòu)或者特征。因此，像“一個方案”、“一個相關(guān)的方案”這樣語句的出現(xiàn)可能是，也不一定指的是同一個方案。可以理解為本發(fā)明展示的任何信息都不是一個完整的特性的描述。
[0016]另外，以下展示的內(nèi)容描述了本發(fā)明的特征，配合相關(guān)的圖片，盡可能地用相同的數(shù)字表示相同或相似的元件。在圖片中，結(jié)構(gòu)性的元素一般沒有被覆蓋到，特定的部分被放大了來顯示其重要性。單獨(dú)的一張圖不能顯示本發(fā)明的所有完整特征。不過，圖中的這些細(xì)節(jié)和特征可以被應(yīng)用，除非上下文中另有所指。在其他的例子中，已知的結(jié)構(gòu)、細(xì)節(jié)、材料或者操作可以在圖中展示或者被描述來避免本發(fā)明方案中有模糊的概念。
[0017]大面積的玻片通常用來固定被成像的大面積的組織。通常矩形玻片的厚度為I到2mm，橫截面為I到3英寸，也可以是6到8英寸。成像大面積組織玻片的其中一個難點(diǎn)是大多數(shù)大面積玻片(包括蓋玻片)不是完全平整的。對于展示和所附的聲明，詞“玻片”指的是有蓋玻片的載玻片，除了上下文特別指出的。
[0018]大面積的玻片通常被用來固定大面積的組織樣品，用低空間頻率的顯微鏡系統(tǒng)成像，蓋玻片和載玻片造成了高度的差異和波動。當(dāng)頻率和表面高度差異的大小是基于玻片的大小和不同制造商產(chǎn)生的大小差異時，經(jīng)驗(yàn)測量表明典型的高度波動在空間上有I英寸或者更短的差異，I英寸內(nèi)的空間和振幅可以超過50微米。這些高度差異的振幅大于50微米(D0F)，一個數(shù)值孔徑(NA)的顯微鏡物鏡用來成像，數(shù)值孔徑的計(jì)算方法為:
DGF = (η?^/ΝΛ2 其中λ是光線的波長，η是物體的空間折射率。對于展示和所附的聲明，詞“玻片”指的是有蓋玻片的載玻片，除了特別指出的。
[0019]用來成像的組織樣品可能在幾何上是不規(guī)則的，也可能有一個表面有高度大小的波動。在使用單個物鏡的傳統(tǒng)顯微鏡成像一個物體時(不管是玻片本身還是固定有組織的玻片)，這種類型的物體成像表面的低空間頻率高度波動可以通過連續(xù)調(diào)整物體和玻片間的距離來緩解。然而，當(dāng)使用具有多個物鏡的陣列顯微鏡成像時，物體距離的單獨(dú)調(diào)整是不可能的。在這種情況下，陣列顯微鏡的物理維度在很大程度上與玻片高度差異的波動和范圍有關(guān)，因此，陣列顯微鏡至少有一些光學(xué)通道是失焦的。因此，確定成像組織整體區(qū)域的成像最佳狀態(tài)是存在一些問題的，從而在一些區(qū)域?qū)е铝顺上裆系哪：?br> [0020]根據(jù)本發(fā)明的一個優(yōu)選方案，展示了解決上述缺點(diǎn)的方法和設(shè)備，通過操作玻片的輪廓來減少玻片表面的高度差異。
[0021]圖1對稱展示了一個顯微鏡系統(tǒng)100，采用了一陣列連接于物鏡120的機(jī)械元素，用來在高速下成像大面積的組織樣品。在理想狀況下，所有物鏡120的焦距處在同一表面上，物體表面的偏差(如玻片130)阻止了顯微鏡系統(tǒng)100的每個物鏡同時獲得最佳成像條件。更加普遍地，次級最佳成像導(dǎo)致的結(jié)果是成像表面的高度偏差導(dǎo)致物體的一部分不在相關(guān)物鏡的自由度內(nèi)。
[0022]本發(fā)明的方案源于對成像物體區(qū)域表面的理解(也就是物體的輪廓)，依靠于至少多個物鏡的一個相關(guān)方向上。特別地，當(dāng)壓力被應(yīng)用到玻片上來改變曲率時，無壓力物體的高度偏差范圍和幅度會改變。因?yàn)閭鹘y(tǒng)的玻片比他們的橫截面尺寸要薄，玻片就容易彎曲。根據(jù)本發(fā)明的一個方案，玻片或者成像物體的輪廓可以通過在范圍內(nèi)彎曲玻片來調(diào)整，在這個范圍內(nèi)固定在玻片上的組織樣品不會被扭曲。
[0023]如圖2所示，提供了本發(fā)明一個方案的圖解，玻片130固定在顯微鏡物鏡120下，支撐基片210的相關(guān)表面210a的上面，通過一個流體輸出端口 212有一個吸力V (被調(diào)整來輸送氣體或液體)，通過連接輸出端口 212到玻片背面的基片210的一組管道(沒有展示出來)。相關(guān)的基片210相比于玻片130較硬，因此當(dāng)有吸力時，負(fù)面的流動壓力(例如，氣體壓力和液體壓力)被應(yīng)用到玻片130的背面。玻片130的底面就是被這樣的負(fù)壓力吸住來貼合相關(guān)表面210a的輪廓，相關(guān)表面在沒有壓力的情況下被調(diào)整預(yù)先設(shè)定的輪廓。預(yù)先確定的表面輪廓是完全平整的，或者是有一個選定的曲率。
[0024]相關(guān)表面210a的最初的輪廓可以改變，例如通過使用至少一個執(zhí)行器220使基片210彎曲(如圖，具有大量的壓電執(zhí)行器)，可以選擇性地在一個或多個預(yù)設(shè)的位置拉推基片的表面。相關(guān)表面210a的輪廓被改變，貼合相關(guān)表面210的玻片130被彎曲，因此導(dǎo)致玻片130的表面輪廓有差異。
[0025]彎曲相關(guān)基片210需要克服它的硬度。相關(guān)基片210的硬度與給定的材料有關(guān)，一般增加基片的厚度。(因此，調(diào)整相關(guān)基片210硬度使之超過玻片120的硬度，可以通過改變基片的厚度來實(shí)現(xiàn)。)基片210越硬，執(zhí)行器需要的吸力就越大?；诮?jīng)驗(yàn)測量，為了使玻片130貼合相關(guān)基片210a，剛度比(即相關(guān)基片210的硬度數(shù)值與玻片120的硬度數(shù)值之比)最好在100以上。
[0026]根據(jù)圖2，基片210可以固定大量通道連接流體端口 212 (可以使液體或者氣體)到上表面210a上，可以在端口 212和表面210之間建立流動關(guān)系(流體可以在通道之間傳播)。例如在一個方案中，至少一部分通道分布在相關(guān)表面210a上，可以取得好的流動吸力來使玻片120和表面210a吸牢。在這種情況下，基片的材料可以包括金屬(例如鋁合金)或者是非金屬(例如硬質(zhì)玻璃或陶瓷)。在一個可選的方案中，基片210由一種多孔材料制成(例如多孔銅、多孔碳和多孔聚合物)，通過微管道和孔，吸力的影響在玻片120的反面被放大。多孔材料的使用可以統(tǒng)一玻片120背面的吸力分布。
[0027]如上關(guān)于圖2所示，一個玻片表面的高度差異可以通過使用相關(guān)表面210a和玻片120背面的吸力來緩解。玻片的表面輪廓通過一組執(zhí)行器220來操作，執(zhí)行器鑲嵌在一個硬質(zhì)支撐框架210上。操縱玻片輪廓的一個方案如圖3所示。步驟302中玻片放在支撐基片210上后，步驟310中基片上的吸力(如疏松的吸力)被打開，結(jié)果，玻片130的背面貼合相關(guān)表面210a的最初輪廓。在步驟320中，玻片130的離焦掃描(沿著物鏡120的光軸)使用了物鏡陣列顯微鏡系統(tǒng)100來確定物體的最初輪廓(例如組織玻片的表面)。最初輪廓的計(jì)算是基于代表物鏡位置的經(jīng)驗(yàn)數(shù)值，對應(yīng)通過每個物鏡的最佳成像(最佳聚焦位置)。可選擇的，在步驟330中，在聚焦時或聚焦后，掃描數(shù)據(jù)被收集起來，系統(tǒng)100 (沒有展示)創(chuàng)造了一個在成像物體xy區(qū)域的最佳聚焦位置的二維圖。對于大塊的玻片，離焦掃描可以使用多次來覆蓋物體的整個區(qū)域，縫合物體各個小部分的輪廓圖。物體的輪廓造成玻片的高度差異，當(dāng)物體本身的輪廓偏離相關(guān)表面時，對于物體輪廓的差異也是如此。多個物鏡同時掃描物體，物體給定表面和相關(guān)表面的輪廓差異是確定的。
[0028]系統(tǒng)處理器可以計(jì)算基片210的相關(guān)表面210a的輪廓處理，改變最初物體輪廓到需要的值?；诓襟E340的處理(例如需要平整的物體沿著z軸的移位)可以作為橫向坐標(biāo)(例如根據(jù)基片210和執(zhí)行器220的連接協(xié)調(diào))，執(zhí)行器被軸向移動，在步驟350中，推拉基片210來變形或彎曲表面210b。表面210a的變形傳遞到表面210使相關(guān)表面210a和玻片130粘附到相關(guān)表面上。進(jìn)一步使用顯微鏡系統(tǒng)100成像時，執(zhí)行器使玻片變形，減少或消除了玻片輪廓的高度差異，因此減少了確定的物體與選定表面間的差異(在具體的應(yīng)用中，使物體平整)。物體調(diào)整表面的成像的另一個步驟將會在下文展示。
[0029]圖4A和4B提供了操作玻片輪廓的處理過程。如圖4A，在默認(rèn)最初的狀態(tài)下，玻片130貼合相關(guān)基片210的表面210a (如圖，平整的)。物體被成像的表面和相關(guān)的玻片130是不平整的，導(dǎo)致玻片130的高度差異。在通過使用執(zhí)行器220軸向推拉基片210處理了玻片130之后，物體被成像的表面輪廓被調(diào)整到完全平整。因?yàn)閳?zhí)行器220鑲嵌在硬質(zhì)框架230上，執(zhí)行器220的力量被傳遞到框架230上。經(jīng)驗(yàn)數(shù)據(jù)表明當(dāng)框架220的硬度超過基片210的硬度大約兩個數(shù)量級時，這樣的力量傳遞在操作中可以被忽略。
[0030]執(zhí)行器220和基片210的空間配合可以是不同的。在一個方案中，執(zhí)行器被放置在表面210b上，對應(yīng)于圖5中的空間二維矩形陣列。執(zhí)行器220的數(shù)量，執(zhí)行器和基片210接觸點(diǎn)的密度(A，B，C這樣類似的點(diǎn))可以預(yù)設(shè)來增加或減少空間分辨率，處理的力量可以被傳遞到玻片130上。例如，執(zhí)行器220的數(shù)量越大，玻片高度偏差的空間頻率就越大。由于大塊玻片的高度差異空間頻率，一平方英寸內(nèi)一個執(zhí)行器的密度就足夠了。
[0031]執(zhí)行器可以在一個模式中被控制，當(dāng)執(zhí)行器被選擇性激活時，作為一個陣列來處理彎曲基片的本征模。玻片表面輪廓通過一系列的本征模表達(dá)，執(zhí)行器就開始處理這些本征模。在一個相關(guān)的方案中，需要的處理可以用澤尼克多項(xiàng)式來表達(dá)?；蛘?，執(zhí)行器220可以被單獨(dú)控制來緯向處理，在玻片預(yù)定位置操縱玻片的輪廓。[0032]根據(jù)一些方案的例子，本發(fā)明的一個系統(tǒng)和方法已經(jīng)被討論。技術(shù)員將會欣賞本發(fā)明對系統(tǒng)偏差操縱的方法。例如，當(dāng)圖2中連接基片210上表面210a的通道內(nèi)不是空氣而是液體時，通過端口 212的負(fù)壓力在表面210a物體上會產(chǎn)生吸力。
[0033]值得一提的是，本發(fā)明的系統(tǒng)還包括了一個光學(xué)探測器，可以取得一個物鏡下物體表面的代表性的光學(xué)數(shù)據(jù)，一個選擇和處理這個來自檢測器或者自動化系統(tǒng)的電路的數(shù)據(jù)的處理器。因此，本發(fā)明的方法可以應(yīng)用于一個處理器，這個處理器被存儲有上述操作步驟的記憶器所控制。這個記憶器可以是隨機(jī)存取儲存器(RAM)，只讀存儲器(R0M)，快閃記憶體或其他任何記憶器，或者是它們的結(jié)合體，只要是適于存儲控制軟件和其他指令和數(shù)據(jù)的就可以。在另一個方案中，發(fā)明的系統(tǒng)和方法可以被用作一個計(jì)算機(jī)程序產(chǎn)品，配合計(jì)算機(jī)系統(tǒng)使用。這樣的方案包括一系列的計(jì)算機(jī)指令，固定在有形非臨時介質(zhì)中，例如一個計(jì)算機(jī)可讀媒介(如軟盤、光盤、只讀存儲器、或固定盤)或者傳遞到一個計(jì)算機(jī)系統(tǒng)中，通過一個交互設(shè)備(例如一個連接到網(wǎng)絡(luò)的調(diào)整器)。本發(fā)明方法的一些功能以圖表和圖解的方式展示出來了。熟練的技術(shù)員們應(yīng)該會欣賞這些功能與方法的結(jié)合。另外，本發(fā)明可以應(yīng)用到一些軟件中，例如程序編碼，那些實(shí)現(xiàn)本發(fā)明所必要的功能可以在使用固件和/或硬件組件體現(xiàn)出來，例如組合邏輯。特定應(yīng)用的集成電路(ASICs);可編程門陣列(FPGAs)或者其他硬件或硬件、軟件、固件的結(jié)合。
[0034]本發(fā)明尚有多種實(shí)施方式，凡采用等同變換或者等效變換而形成的所有技術(shù)方案，均落在本發(fā)明的保護(hù)范圍之內(nèi)。
【權(quán)利要求】
1.一種處理物體表面輪廓的方法，其特征在于，該方法包括以下步驟: 步驟一，放置物體在一個含有流體端口和通道的支撐基片的一個表面上； 步驟二，測量物體表面輪廓和相關(guān)表面的不同； 步驟三，使支撐基片彎曲來減少確定的偏差。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于:所述步驟二中測量物體表面輪廓的過程包括通過聚焦掃描物體。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于:所述步驟一中放置物體的過程包括把物體放置在所述流體端口連接到表面的基片上。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于:所述支撐基片在流體端口和表面間之間通過一個流體通道連接，利用吸力把物體固定在表面上。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于:所述步驟一的放置物體的過程包括把物體放在支撐基片上，使物體的一個表面與基片的一個表面相貼合。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于:所述步驟三的使支撐基片彎曲的過程包括利用在預(yù)設(shè)位置上的作用力穿過基片，改變支撐基片的曲率，使之與物體相貼合。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于:所述步驟三的使支撐基片彎曲的過程包括通過彎曲的支撐基片來誘導(dǎo)物體表面彎曲的步驟。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于:所述步驟二中測量物體表面輪廓的過程包括通過使用第一、第二物鏡同時聚焦掃描物體。
9.一個配合成像系統(tǒng) 使用的支撐物體的系統(tǒng)，可以同時使用一組物鏡來成像，其特征在于:所述支撐系統(tǒng)包括: 一個已知尺寸的可在成像過程中把物體固定在其第一表面上的支撐基片； 一個配合使用支撐基片的裝置，可以根據(jù)代表物體輪廓的評估數(shù)據(jù)來彎曲所述支撐基片。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的系統(tǒng)，其特征在于:所述的裝置包括第一、第二執(zhí)行器，兩者結(jié)合起來接觸所述支撐基片的第二表面并向其提供作用力。
11.根據(jù)權(quán)利要求9所述的系統(tǒng)，其特征在于:還包含一個處理器，所述的處理器可以根據(jù)物鏡離焦掃描物體得到的評估數(shù)據(jù)來提供作用力至所述支撐基片的第二表面的預(yù)設(shè)位置。
12.根據(jù)權(quán)利要求9所述的系統(tǒng)，其特征在于:所述的支撐基片包含一個使在其第一表面形成負(fù)壓力來使物體與其表面貼合的裝置。
13.一個用來成像物體的顯微鏡系統(tǒng)，其特征在于，包括: 一個已知尺寸的支撐基片，物體在其具有端口和通道的第一表面上固定； 第一物鏡和第二物鏡，所述的第一物鏡和第二物鏡在成像物體的過程中沿著光軸同時移動，并提供物體的一致成像； 被連接到所述支撐基片的第二表面上的一組執(zhí)行器，可以施加作用力到第二表面上來改變所述支撐基片的曲率，從而使物體的表面平整。
14.根據(jù)權(quán)利要求13所述的顯微鏡系統(tǒng)，其特征在于:還包含一個處理器，所述的處理器根據(jù)從第一物鏡和第二物鏡沿軸同時掃描而得來的代表物體表面輪廓的攝像數(shù)據(jù)驅(qū)動所述的一組執(zhí)行器中的至少一個執(zhí)行器操作。
15.根據(jù)權(quán)利要求14所述的顯微鏡系統(tǒng)，其特征在于:所述的處理器用于計(jì)算代表相關(guān)物體輪廓的圖解數(shù)值。
16.根據(jù)權(quán)利要求13所述的顯微鏡系統(tǒng)，其特征在于:當(dāng)物體粘附在第一表面上時，為了改變端口和第一表面間的流動連接，所述的一組執(zhí)行器中至少一個執(zhí)行器使支撐基片彎曲進(jìn)而減少物體表面輪廓與預(yù)設(shè)的相關(guān)表面的偏差。
17.根據(jù)權(quán)利要求13所述顯微鏡系統(tǒng)，其特征在于:還包括一個連接到所述支撐基片的端口上、并用于在通道中創(chuàng)造流動壓力的真空單元。
18.根據(jù)權(quán)利要求14所述的顯微鏡系統(tǒng)，其特征在于:所述的處理器被進(jìn)一步設(shè)置沿著光軸移動所述第一物鏡和第二物鏡來獲得成像數(shù)據(jù)。
19.一個用來成像物體的顯微鏡系統(tǒng)，其特征在于，包括: 連接在一起并沿著一個光軸同時成像物體的一組物鏡； 一個具有第一表面、第二表面的支撐基片，可以在第一表面上支撐物體，所述支撐基片施加一個吸力粘附所述支撐基片的第一表面和物體的第一表面；使物體的第一表面貼合所述支撐基片的第一表面； 一個改變所述支撐基片的第二表面曲率的裝置，所述裝置與基片的第二表面并列； 一個具有計(jì)算機(jī)可讀程序產(chǎn)品的有形的非暫存的計(jì)算機(jī)可讀存儲介質(zhì)，這個存儲介質(zhì)連接所述一組物鏡中的其中一個，計(jì)算機(jī)可讀程序產(chǎn)品包含存儲在存儲介質(zhì)中的程序編碼，成像數(shù)據(jù)代表同時掃描物體的數(shù)據(jù)；決定處理數(shù)據(jù)的程序編碼是基于成像數(shù)據(jù)的，處理數(shù)據(jù)代表基片第二表面曲率的改變的映射。
20.根據(jù)權(quán)利要求19所述的顯微鏡系統(tǒng)，其特征在于:所述的一組物鏡在空間上是相互配合的，且其標(biāo)準(zhǔn)表面在成像時被同時重新定位。
21.根據(jù)權(quán)利要求19所述的顯微鏡系統(tǒng)，其特征在于:所述的改變所述支撐基片第二表面曲率的裝置包括一組執(zhí)行器，所述執(zhí)行器機(jī)械地與支撐基片的第二表面在其第一末端相配合，第二末端鑲嵌在嵌入式框架內(nèi)，這組執(zhí)行器在第二表面上形成正面或負(fù)面的壓力。
22.根據(jù)權(quán)利要求19所述的顯微鏡系統(tǒng)，其特征在于:包含一個具有存儲介質(zhì)和改變曲率的裝置的處理器，這個處 理器使改變曲率的裝置施加正負(fù)壓力應(yīng)用到第二表面上，來使物體第二表面的輪廓平整。
【文檔編號】G01B11/24GK103575231SQ201310137437
【公開日】2014年2月12日 申請日期:2013年4月19日 優(yōu)先權(quán)日:2013年4月19日
【發(fā)明者】周丕軒 申請人:帝麥克斯(蘇州)醫(yī)療科技有限公司