用于流式細胞術的軸向光損失傳感器系統(tǒng)的制作方法
【專利摘要】本文提供一種軸向光損失傳感器系統(tǒng)以及用于以提高的分辨率測量軸向光損失的方法。本發(fā)明的方面包括：軸向光損失傳感器，其沿照射軸定位以檢測由經(jīng)過流體流中的光源交點的顆粒所造成的軸向光損失；以及障礙物，其沿所述照射軸定位在所述光源交點與所述軸向光損失傳感器之間。所述障礙物被進一步定位以便具有同軸不透明表面。所述障礙物允許對在相對于被照射顆粒的遠場中的條紋信號的測量，以便測量由所述顆粒所產(chǎn)生的軸向光損失。本文所描述的系統(tǒng)和方法在例如流式細胞術中發(fā)現(xiàn)用途。
【專利說明】用于流式細胞術的軸向光損失傳感器系統(tǒng)
[0001]相關申請的交叉引用
[0002]按照美國法典第35篇第119條(e)款，本申請要求2011年4月26日提交的美國臨時專利申請序列號61/479，244的申請日的優(yōu)先權；所述申請的公開內(nèi)容通過引用并入本文。
[0003]介紹
[0004]流式細胞儀是用于對懸浮在一股流體中的微觀顆粒進行計數(shù)、檢查以及分選的強大工具。在流式細胞儀中，從來自由聚焦激光射束所激發(fā)的細胞和其它小顆粒的熒光和/或散射光得到信號。具體來說，光散射廣泛用于對在調(diào)查中的顆粒的尺寸、折射率以及復雜性進行表征。例如，前向散射(FSC)，即在幾乎平行于激發(fā)激光傳播的方向(例如，約1°至約20° )上的由顆粒所散射的光，與顆粒的尺寸近似地成比例。例如，側向散射(SSC)，即與激光傳播成約90°被散射的光，與顆粒的內(nèi)部結構有關。在流式細胞術應用中經(jīng)常使用的另一個參數(shù)是軸向光損失(ALL)或消光，其被測量為由于受顆粒的散射和吸收，激光功率沿其傳播方向的減小。
[0005]在所謂的點圖中的SSC和FSC的組合提供將顆粒細胞(粒細胞)與單細胞核細胞(淋巴細胞和單核細胞)區(qū)分開的強大工具，在所述點圖中，針對每個顆粒繪示出前向散射相對側向散射的強度。SSC和FSC 二者是“零背景”信號，意思是在沒有散射中心時，很少的光撞擊在被定位以檢測這些信號的光檢測器上。SSC和FSC因此廣泛用于商業(yè)流式細胞儀儀器中。然而，由于不完全的溶解/洗滌周期或可能遇到的某些細胞生理機能，在樣品中經(jīng)常存在大量的細胞碎片。所述碎片經(jīng)常阻止使用SSC-FSC點圖對白細胞(WBC)的清晰表征。參見圖1。
[0006]在20世紀80年代后期，曾提議用軸向光損失來代替FSC以用于白細胞(WBC)與碎片的分離(參見Stewart, C.C.等，CytometrylO,第426頁，1989)。如圖2中所示，在流式細胞儀中所使用的聚焦激光射束在遠場中快速地發(fā)散。為監(jiān)測沿激光傳播方向的軸向光損失，將針孔掩膜放置在激光射束路徑中，以使得僅沿光軸傳播的光被放置在所述針孔后面的光檢測器檢測到。使用專門設計的流式細胞儀，Stewart等使用不同類型的溶解/洗滌的和溶解/未洗滌的血樣、用ALL演示W(wǎng)BC與碎片的清晰分離。然而，由于專用儀器構造，這種途徑在商業(yè)儀器中的復制是困難并且昂貴的(參見Steinkamp, JA.Cytometry4,第83頁，1983)。
[0007]將WBC與碎片區(qū)別開的另一種途徑是對存在于所有WBC中而不是碎片中的⑶45標記染色。CD45+細胞的識別提供WBC與碎片的清晰劃分。然而，染色法測定比散射圖測定更加昂貴并且費時。因此，F(xiàn)SC和SSC依然是在大多數(shù)流式細胞術應用中用于將WBC與碎片區(qū)分開的主導工具。
[0008]概述
[0009]本發(fā)明的方面提供用于軸向光損失(ALL)的測量的簡單實現(xiàn)方式，其中，這種實現(xiàn)方式與SSC結合允許流式細胞術應用中WBC與碎片的改進的分離。本發(fā)明的實施方案在對被廣泛接受的使用FSC和SSC的流式細胞術實驗方案的影響最小的情況下實施簡單的ALL。例如，與采用常規(guī)針孔掩膜的那些系統(tǒng)相比，本發(fā)明的實施方案在測量ALL中提供提高的分辨率。
[0010]在一個實施方案中，雙狹縫光掩膜代替常規(guī)針孔光掩膜被放置在軸向光損失光檢測器的前面。因為在遠場處的激光強度分布是在焦點處的那個強度的傅里葉變換，通過雙狹縫的光因此源自具有圖5中的曲線501所指示的強度圖樣的聚焦激光射束的一部分。所述圖樣類似于基于楊氏雙狹縫實驗的信號。與圖5中的曲線501相反，曲線501指示激光射束在與單狹縫(類似于在常規(guī)ALL檢測器中所使用的那些)相匹配的焦點處的強度分布。與常規(guī)針孔掩膜相比，雙狹縫掩膜提供在焦斑處的更精細的分辨率。
[0011 ] 在本發(fā)明的一個實現(xiàn)方式中，并行電線連接并且彼此機械分離的兩個矩形光電二極管被用于FSC檢測。通過介于兩個FSC光電二極管之間的間隙的激光由雙狹縫遮蔽。通過所述掩膜的光然后撞擊在ALL檢測器上。
[0012]當基于本發(fā)明的所得的未洗滌白細胞(WBC)的SSC-ALL點圖與在相同條件下使用常規(guī)針孔掩膜所獲得的類似的點圖相比時，很顯然:從雙狹縫掩膜所獲得的結果提供WBC亞群的最佳分辨率。
[0013]附圖簡述
[0014]并入本文的附圖形成本說明書的一部分。與本書面說明一起，所述附圖進一步用于解釋具有根據(jù)本發(fā)明的軸向光損失傳感器系統(tǒng)的流式細胞儀的原理，并且使得相關領域中的技術人員能夠?qū)λ隽魇郊毎麅x進行制造和使用。
[0015]圖1是示出使用前向散射對比側向散射的細胞表征的點圖。
[0016]圖2是示出使用針孔掩膜對流體流進行激光照射以及所得到的發(fā)散射束的示意圖。
[0017]圖3示出流式細胞儀系統(tǒng)的示意圖。
[0018]圖4是示出利用根據(jù)本文所提出的一個實施方案的掩膜對流體流進行激光照射以及所得到的發(fā)散射束的示意圖。
[0019]圖5示出從被照射流體流發(fā)射出的兩個照明信號。
[0020]圖6A顯示基于本文所提出的實施方案所得到的未洗滌WBC的SSC-ALL點圖。
[0021 ] 圖6B顯示基于針孔掩膜所得到的未洗滌WBC的SSC-ALL點圖。
[0022]圖7是根據(jù)本文所提出的一個實施方案的示意圖。
[0023]圖8是根據(jù)本文所提出的一個實施方案的示意性電路圖。
[0024]詳述
[0025]本文提供軸向光損失傳感器系統(tǒng)以及用于以提高的分辨率測量軸向光損失的方法。所描述的系統(tǒng)和方法的方面在例如流式細胞儀系統(tǒng)中發(fā)現(xiàn)用途。例如，在一個實施方案中，提供流式細胞儀系統(tǒng)，其包括:流體導管；光源，其被定位以沿照射軸照射存在于所述流體導管中的流體流；以及軸向光損失傳感器，其沿所述照射軸定位以檢測由經(jīng)過所述流體流中的光源交點的顆粒所造成的軸向光損失。所述流式細胞儀系統(tǒng)進一步包括障礙物(或掩膜)，其沿照射軸定位在光源交點與軸向光損失傳感器之間。所述掩膜被進一步定位以便具有同軸不透明表面。所述掩膜允許流式細胞儀系統(tǒng)測量在相對于被照射顆粒的遠場中的條紋信號，以便測量由所述顆粒所產(chǎn)生的軸向光損失。
[0026]在一個實施方案中，掩膜被定位并且被取向，以使得所述掩膜允許軸向光損失傳感器測量在相對于被照射顆粒的遠場中的條紋信號。例如，雙狹縫掩膜一般被定位以便具有包括兩個相反的離軸狹縫的同軸不透明表面。所述離軸狹縫中的每一個可以具有范圍從1-4_、如約2_的寬度。在一個實施方案中，掩膜可以定位在離光源交點一定距離處，所述距離比在所述光源交點處所形成的斑點尺寸大兩倍或更多、或十倍或更多。另外，在一個實施方案中，雙狹縫掩膜的不透明表面阻擋百分之十或更多、或百分之二十或更多的來自光源的射束強度。
[0027]流式細胞儀系統(tǒng)可以進一步包括:(I)第一前向散射傳感器，其被定位以檢測來自經(jīng)過光源交點的顆粒的、處于離所述照射軸為約1-20度的角度的光散射；(2)第二前向散射傳感器，其被定位成相對所述照射軸與所述第一前向散射傳感器相反，以檢測來自經(jīng)過所述光源交點的顆粒的、處于離照射軸為約1-20度的角度的光散射；和/或(3) —個或多個側向散射傳感器，其被定位以檢測來自經(jīng)過所述光源交點的顆粒的、處于離所述照射軸為約90度的角度的光散射。
[0028]在一個實施方案中，提供流式細胞儀系統(tǒng)，其包括:流體導管；光源，其被定位以沿照射軸照射流體流；以及軸向光損失傳感器，其沿所述照射軸定位以檢測由經(jīng)過所述流體流中的光源交點的顆粒所造成的軸向光損失。為了測量遠場中的條紋信號，流式細胞儀進一步包括沿照射軸定位在光源交點與軸向光損失傳感器之間的掩膜。所述掩膜被定位以便具有阻擋至少約百分之十的來自光源的射束強度的同軸不透明表面。在一個實施方案中，所述掩膜定位在離光源交點一定距離處，所述距離比在所述光源交點處所形成的斑點尺寸大至少約兩倍。
[0029]以下對圖的詳述是指闡明用于流式細胞儀的軸向光損失傳感器系統(tǒng)的示例性實施方案的附圖。其它實施方案是可能的。在不脫離本發(fā)明的精神和范圍的情況下，可以對本文所描述的實施方案做出修改。因此，以下詳述不意指是限制性的。
[0030]圖3示出流式細胞儀系統(tǒng)(如美國專利號4，284，412中所描述，所述專利通過引用整體并入在此)的示意圖。
[0031]如圖3中所示，流式細胞儀包括流動通道106，其中液體懸浮液中的顆粒在流體流中成單行地穿過感測區(qū)。感測區(qū)或光源交點由流體流與入射光射束沿照射軸的相交來界定。在顆粒通過感測區(qū)時，它以多種方式與入射光相互作用。一些光被顆粒吸收，其它光以相對照射軸成一定范圍的角度被散射。此外，取決于顆粒本身的性質(zhì)和所述顆粒可能預先已經(jīng)受的任何著色或染色，還可能發(fā)生熒光發(fā)射。
[0032]因此，在相對流體流和照射軸的不同取向處被定位的光傳感器允許檢測針對每種給定類型的顆粒的一組獨特的響應。例如，圖3包括第一激光器101和第二激光器102，其中由各自所發(fā)射的相干光經(jīng)由鏡子103和104以及透鏡105各自不同地轉向到流動通道106的感測區(qū)。流體流以層流方式在流動的流體鞘內(nèi)被運輸，以確保顆粒成單行地排列起來并且在感測區(qū)中被單獨照射。因此，在每個顆粒被來自透鏡的光照射時，可以感測顆粒與光的相互作用。
[0033]如圖3中所示，軸向光損失傳感器108檢測由顆粒所阻擋的光的量。由光傳感器109和110檢測處于在約1-20度之間的角度的前向光散射。由傳感器108、109以及110所生成的電信號與放大器120和121耦合，所述放大器為隨后的分析和/或顯示提供電信號。
[0034]如圖3中所示，憑借熒光響應而從顆粒發(fā)射出的光或處于約90度的角度的側向散射在與流體流的方向并且與照射軸二者成直角處被感測。在圖3中，球面鏡125和聚光透鏡107收集此光，并且使此光通過孔111相繼地與分色鏡112并且與第二鏡子113耦合。第一濾色器114 (例如,來傳遞相對長波長的光)將選定光從分色鏡112傳輸至光傳感器117(例如，光電倍增管)。第二過濾器115有選擇地將不同顏色的光(例如，相對短波長的光)從第二鏡子113傳遞至第二光傳感器116。來自傳感器116和117的電信號稱合至放大器118和119，并且從而還被提供用于隨后的處理。
[0035]傳感器選擇器122利用來自放大器118至121的信號生成輸出直方圖。在顯示器123處示出示例性直方圖，其中所述直方圖上的每個點表示一個單獨的顆粒。直方圖上的指示物的群集或聚集表示相似類型的顆粒的群組。
[0036]圖4是示出本文所提出的一個實施方案的示意圖。代替如圖2中所示的常規(guī)針孔光掩膜，將雙狹縫掩膜放置在ALL光傳感器的前面。因為在遠場處的激光強度分布是在光源交點處的那個激光強度的傅里葉變換，通過雙狹縫掩膜的光因此源自具有圖5中的曲線501所指示的強度圖樣的聚焦激光射束的一部分。與曲線501相反，曲線502指示激光射束在相對光源交點的近場處的強度分布，并且將會匹配由針孔掩膜ALL傳感器系統(tǒng)所感知的曲線。雙狹縫掩膜因此提供與用常規(guī)針孔掩膜所能實現(xiàn)的相比更大的在焦斑處的分辨率。
[0037]圖6A顯示根據(jù)本文所提出的一個實施方案的基于雙狹縫掩膜的未洗滌WBC樣品的SSC-ALL點圖。為了進行比較，在圖6B中示出使用針孔掩膜在相同條件下獲得的相似的圖。雖然兩個圖與圖1中所示的SSC-FSC圖相比提高了淋巴細胞群與碎片的分離和單核細胞的分辨率，但是很明顯:從雙狹縫掩膜所獲得的結果提供WBC亞群的最佳分辨率。
[0038]圖7是根據(jù)本文所提出的一個實施方案的示意圖。圖8是根據(jù)圖7中所示的實施方案的示意性電路圖。
[0039]如圖所不，發(fā)散光射束780在兩個光傳感器(例如,光電二極管)710和709之間被傳輸。發(fā)散光射束780撞擊在掩膜770 (如圖4中所示的雙狹縫掩膜)上。在掩膜770的后面提供ALL光傳感器(例如，光電二極管)708以測量光射束780的條紋信號。來自ALL光傳感器708的信號然后通過如圖8中所示的增益放大器來處理。
[0040]每個光傳感器710和709由圖8中的并行電線連接的光電二極管FSC_L和FSC_R表不。在一個實施方案中，光傳感器710和709彼此機械分離,各自相對照射軸是相反的。光傳感器710和709用于處于離照射軸為約1-20度的角度的FSC檢測。
[0041]方法
[0042]以上所描述的系統(tǒng)可以用于測量例如流式細胞儀系統(tǒng)中的軸向光損失的方法。在一個實施方案中，提供一種方法，其包括:(I)用光源照射在流體流內(nèi)的顆粒；以及(2)測量在相對于被照射顆粒的遠場中的條紋信號，以便測量由所述顆粒所產(chǎn)生的軸向光損失。所述方法可以進一步包括:(3)將雙狹縫掩膜定位在所述被照射顆粒與軸向光損失傳感器之間，以使得所述雙狹縫掩膜包括具有兩個相反的離軸狹縫的同軸不透明表面；(4)將所述掩膜定位在離所述被照射顆粒一定距離處，所述距離比在照射點處所形成的斑點尺寸大至少約二至十倍；和/或(5)將所述掩膜定位，以使得所述雙狹縫掩膜的不透明表面阻擋至少約百分之十至百分之二十的來自所述光源的射束強度。
[0043]在另一個實施方案中，提供測量流式細胞儀系統(tǒng)中的軸向光損失的方法，所述方法包括:(1)將顆粒樣品插入至流式細胞儀系統(tǒng)中；(2)用光源照射所述顆粒；以及(3)讀出在相對于被照射顆粒的遠場中的條紋信號，以便測量由所述顆粒所產(chǎn)生的軸向光損失。流式細胞儀系統(tǒng)可以包括雙狹縫掩膜，其被定位在所述被照射顆粒與軸向光損失傳感器之間，以使得所述雙狹縫掩膜包括具有兩個相反的離軸狹縫的同軸不透明表面。在各個實施方案中，所述掩膜可以定位在離被照射顆粒一定距離處，所述距離比在照射點處所形成的斑點尺寸大兩倍或更多、或十倍或更多。雙狹縫掩膜的不透明表面可以阻擋百分之十或更多、或百分之二十或更多的來自光源的射束強度。
[0044]在又一個實施方案中，提供一種建立流式細胞儀的方法，所述方法是通過沿照射軸將障礙物定位在光源與軸向光損失傳感器之間，以使得所述障礙物包括阻擋從所述光源發(fā)射的光的同軸不透明表面。所述障礙物允許軸向光損失傳感器讀出在相對于被照射顆粒的遠場中的條紋信號，并且由此測量由所述被照射顆粒所產(chǎn)生的軸向光損失。所述方法可以進一步包括:(I)將所述障礙物定位在離被照射顆粒一定距離處，所述距離比在照射點處所形成的斑點尺寸大兩倍或更多、或十倍或更多；和/或(2)將所述障礙物定位，以使得所述障礙物的不透明表面阻擋百分之十或更多、或百分之二十或更多的來自所述光源的射束強度。
[0045]總結
[0046]前述對本發(fā)明的描述已經(jīng)出于解釋和說明的目的被提出。不意圖是詳盡的或?qū)⒈景l(fā)明限制于所公開的精確形式。鑒于以上教義，其它修改和變化也是可能的。選擇并且描述實施方案以便最佳解釋本發(fā)明的原理及其實際應用，并且從而使得本領域中的其他技術人員能夠以如適用于預期的特定用途的各種實施方案和各種修改來最佳地利用本發(fā)明。意圖是，所附權利要求應理解為包括本發(fā)明的其它替代實施方案；包括等效結構、部件、方法以及手段。
[0047]應理解，詳述部分而不是概述和摘要部分意圖用于解釋所述權利要求。概述和摘要部分可以陳述如本發(fā)明人所預期的本發(fā)明的示例性實施方案中的一個或多個而不是所有，并且因此概述和摘要部分不意圖以任何方式限制本發(fā)明和所附權利要求。
[0048]應理解，本發(fā)明不限制于所描述的具體實施方案，當然因而可以發(fā)生變化。還應理解，本文所使用的術語僅出于描述具體實施方案的目的，并且不意圖是限制性的，因為本發(fā)明的范圍將僅受到所附權利要求的限制。
[0049]在提供值的范圍時，應了解，在那個范圍的上限與下限以及所規(guī)定的范圍內(nèi)的任何其它所規(guī)定值或居中值之間的每一個居中值(除非上下文另外明確指示，否則直至下限單位的十分之一)都涵蓋在本發(fā)明內(nèi)。這些更小范圍的上限和下限可獨立地包括于所述更小范圍內(nèi)并且也涵蓋于本發(fā)明中，這取決于在所規(guī)定的范圍內(nèi)的任何特定排除的極限值。當所規(guī)定的范圍包括所述極限值中的一個或兩個時，排除那些所包括的極限值中的任一個或兩個的范圍也包括在本發(fā)明內(nèi)。
[0050]本文提出某些范圍時所使用的數(shù)值之前冠以術語“約”。術語“約”在本文使用來為它之后的確切數(shù)字以及接近于或近似所述術語之后的數(shù)字的一個數(shù)字提供文字支持。在確定一個數(shù)字是否接近于或近似確切敘述的數(shù)字時，所述接近或近似的未敘述的數(shù)字可以是以下一個數(shù)字:在其中提出它的上下文中，所述數(shù)字提供所述確切敘述的數(shù)字的實質(zhì)等效值。
[0051]除非另外定義，本文所使用的所有技術和科學術語具有與本發(fā)明所屬的領域中的普通技術人員通常理解的相同的含義。盡管類似于或等效于本文所描述的那些的任何方法和材料也可以用于本發(fā)明的實踐或測試，但是現(xiàn)在描述了代表性的說明性方法和材料。
[0052]本說明書中所引證的所有出版物和專利通過引用并入本文，猶如每個單獨的出版物或?qū)＠淮_切地并單獨地指示為通過引用并入并且現(xiàn)通過引用并入本文，以便結合被引證的出版物來公開和描述所述方法和/或材料。任何出版物的引證是為了它在申請日之前的公開內(nèi)容并且不應理解為對本發(fā)明無權憑借先前發(fā)明而先于所述出版物的承認。另夕卜，所提供的出版物的日期可以不同于可能需要獨立確認的實際出版日期。
[0053]應注意，如本文和所附權利要求中所使用，單數(shù)形式“一種”、“一個”以及“所述”包括復數(shù)對象，除非上下文另外清晰地指明。應進一步注意，所述權利要求可以被起草以排除任何任選的要素。因而，本聲明意圖用作與權利要求要素的敘述有關的如“只是”、“僅僅”等這類排除性術語的使用或“否定”限制的使用的前提基礎。
[0054]應理解，出于清晰目的而在分開的實施方案的上下文中所描述的本發(fā)明的某些特征也可以在單個實施方案中組合提供。相反，出于簡潔目的而在單個實施方案的上下文中所描述的本發(fā)明的各種特征也可以分開地或以任何適合的子組合來提供。實施方案的所有組合確切地由本發(fā)明包含并且就猶如每個組合被單獨地并明確地公開一樣而在本文中公開，其公開程度為:這類組合包含可操作的過程和/或裝置/系統(tǒng)/套件。此外，在描述這類變量的實施方案中所列舉的所有子組合也明確地由本發(fā)明包含，并且就猶如每個這樣的化學基團子組合被單獨地并明確地公開在本文中一樣而在本文中公開。
[0055]如本領域的普通技術人員在閱讀本公開后將會明白的，本文所描述和說明的單獨的實施方案中的每個具有離散的部件和特征，在不脫離本發(fā)明的范圍或精神的情況下其可以容易地與任何其它若干實施方案的特征分離或組合。任何所敘述的方法可以按照所敘述的事件的順序或按照邏輯上可能的任何其它順序來執(zhí)行。
【權利要求】
1.一種軸向光損失傳感器系統(tǒng),所述系統(tǒng)包括: 同軸軸向光損失傳感器；以及 同軸障礙物，其沿照射軸定位在所述軸向光損失傳感器與光源之間，以便在所述軸向光損失傳感器處測量遠場條紋信號。
2.如權利要求1所述的軸向光損失傳感器系統(tǒng)，其中所述障礙物是雙狹縫掩膜，其被定位以便具有包括兩個相反的離軸狹縫的同軸不透明表面。
3.如權利要求2所述的軸向光損失傳感器系統(tǒng)，其中所述雙狹縫掩膜的所述不透明表面阻擋百分之十或更多的來自所述光源的射束強度。
4.如權利要求2所述的軸向光損失傳感器系統(tǒng)，其中所述離軸狹縫中的每個具有范圍從l-4mm的寬度。
5.如權利要求1至4中任一項所述的軸向光損失傳感器系統(tǒng)，其中所述障礙物包括阻擋百分之十或更多的來自所述光源的射束強度的同軸不透明表面。
6.如權利要求1至5中任一項所述的軸向光損失傳感器系統(tǒng)，其中所述障礙物定位在離被照射光源交點一定距離處，所述距離比在所述光源交點處所形成的斑點尺寸大兩倍或更多。
7.一種流式細胞儀系統(tǒng)，所述系統(tǒng)包括: 流體導管； 光源，其被定位以沿照射軸照射存在于所述流體導管內(nèi)的流體流；` 根據(jù)權利要求1至6中任一項所述的軸向光損失傳感器，其沿所述照射軸定位以檢測由經(jīng)過所述流體流中的光源交點的顆粒所造成的軸向光損失；以及 障礙物，其沿所述照射軸定位在所述光源交點與所述軸向光損失傳感器之間。
8.如權利要求7所述的流式細胞儀系統(tǒng)，其進一步包括: 第一前向散射傳感器，其被定位以檢測來自經(jīng)過所述光源交點的所述顆粒的、處于離所述照射軸為1-20度的角度的光散射。
9.如權利要求8所述的流式細胞儀系統(tǒng)，其進一步包括: 第二前向散射傳感器，其被定位成相對所述照射軸與所述第一前向散射傳感器相反，以檢測來自經(jīng)過所述光源交點的所述顆粒的、處于離所述照射軸為1-20度的角度的光散射。
10.如權利要求7至9中任一項所述的流式細胞儀系統(tǒng)，其進一步包括: 側向散射傳感器，其被定位以檢測來自經(jīng)過所述光源交點的所述顆粒的、處于離所述照射軸為約90度的角度的光散射。
11.一種建立流式細胞儀系統(tǒng)的方法，所述方法包括: 沿照射軸將障礙物定位在光源與根據(jù)權利要求1至6中任一項所述的軸向光損失傳感器之間，以使得所述障礙物包括同軸不透明表面，所述同軸不透明表面阻擋從所述光源發(fā)射的光并且允許所述軸向光損失傳感器讀出相對于被照射顆粒的遠場中的條紋信號，并且由此測量由所述被照射顆粒所產(chǎn)生的軸向光損失。
12.如權利要求11所述的方法，其進一步包括: 將所述障礙物定位在離所述被照射顆粒一定距離處，所述距離比在照射點處所形成的斑點尺寸大兩倍或更多。
13.—種測量流式細胞儀系統(tǒng)中的軸向光損失的方法，所述方法包括: 將顆粒樣品插入至流式細胞儀系統(tǒng)中； 用光源照射所述顆粒；以及 讀出相對于所述被照射顆粒的遠場中的條紋信號，以便測量由所述顆粒所產(chǎn)生的軸向光損失。
14.如權利要求13所述的方法，其中將雙狹縫掩膜定位在所述被照射顆粒與軸向光損失傳感器之間，以使得所述雙狹縫掩膜包括具有兩個相反的離軸狹縫的同軸不透明表面。
15.如權利要求13或14所述的方法，其中所述離軸狹縫中的每個具有范圍從l-4mm的覽 。
【文檔編號】G01N15/14GK103430009SQ201280011968
【公開日】2013年12月4日 申請日期:2012年4月25日 優(yōu)先權日:2011年4月26日
【發(fā)明者】陳勇, 戴維·W·霍克 申請人:貝克頓·迪金森公司