專利名稱：一種平面靶磁場強度的檢測裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實用新型涉及一種磁控濺射裝置中平面靶的磁場強度的檢測設(shè)備，屬于磁控濺射鍍膜領(lǐng)域的檢測技術(shù)。
背景技術(shù)：
磁控濺射鍍膜是通過磁場對電子作用濺射靶材沉積到基片，平面靶的磁場強度直接影響鍍膜質(zhì)量。因此需要測量新靶的磁場強度和分布，以及當(dāng)靶材消耗一定程度時，在相同位置上的測量磁場變化，尋找鍍膜出現(xiàn)問題的原因，以調(diào)整磁場。目前鍍膜工業(yè)領(lǐng)域中平面靶的磁場設(shè)計，通常將磁性大小一致的小磁鐵通過排列 組合成各種結(jié)構(gòu)的磁場，再投入生產(chǎn)中使用。理論上，由小磁鐵組合而成的磁場在同一高度的靶平面上分布均勻，但實際上由于人為組裝的失誤或靶陰極的平整情況等因素的影響，使得組裝之后靶面磁場的分布不均勻，基于這種情況，需要對靶面磁場的大小進行監(jiān)控測量，以調(diào)整磁場分布。磁場的測量一般是由手工操作，得到的數(shù)據(jù)再現(xiàn)性差，誤差大，很容易誤導(dǎo)生產(chǎn)。中國專利200980128084. 4公開了一種“用于檢測磁性的測量裝置”，主要用于識別與有價證券上的圖案，例如具有軟磁和/或硬磁圖案的紙幣、支票，不適合用于檢測磁控濺射平面靶的磁場強度。
發(fā)明內(nèi)容針對上述現(xiàn)有技術(shù)存在的問題，本使用新型設(shè)計一種用于測量磁場強度的檢測裝置，解決如何實現(xiàn)平面靶測量位置的一致性，保證測量數(shù)據(jù)的準(zhǔn)確性和再現(xiàn)性。為了實現(xiàn)以上任務(wù)，本實用新型采用的技術(shù)方案發(fā)明一種平面靶磁場強度的檢測裝置，包括檢測機構(gòu)、機架及其平臺，平面靶放置在機架的平臺上，主要技術(shù)特征是機架上設(shè)有移動裝置，檢測機構(gòu)安裝在移動裝置的滑動架上，滑動架帶動檢測機構(gòu)做X向和Y向運動。本實用新型采用的檢測機構(gòu)為磁強計或其他用于測量磁場強度的儀器，磁強計端部的探頭具有一定的彈性。移動裝置的滑動架包括立柱、滑軌、橫梁以及滑塊，橫梁安裝在立柱上，立柱安裝在滑軌上做Y向運動，滑塊安裝在橫梁上做X向運動。橫梁位于平臺上方，且橫梁上標(biāo)有刻度。磁強計安裝移動裝置的滑塊上，該滑塊上標(biāo)有刻度。磁強計可以垂直或傾斜安裝在滑塊上，磁強計在滑塊上的位置可調(diào)。平面靶放在平臺上，由定位塊限定位置。移動裝置的滑軌為圓柱軸，其上標(biāo)有刻度，滑軌由機架兩端的支撐塊固定。移動裝置的立柱上設(shè)有滑軌和橫梁的安裝孔，立柱沿滑軌移動。移動裝置的滑動架由電氣控制系統(tǒng)控制自動移動及定位。本實用新型產(chǎn)生的積極效果I.由于檢測機構(gòu)是安裝在移動裝置上，將平面靶放置在檢測裝置的平臺上，測量磁場強度的磁強計可以做X向及Y向移動，通過控制滑動架的移動位置，來控制磁強計的位置，實現(xiàn)測量位置的一致性，保證測量數(shù)據(jù)的準(zhǔn)確性和再現(xiàn)性，操作簡便，成本低，可避免人工手握檢測的不確定性。2.設(shè)計靈活，可用于檢測各種大小和規(guī)格的平面靶，磁強計可在滑塊上下移動，可測試不同厚度的平面靶。 3.測量位置準(zhǔn)確，在靶消耗一定程度后，仍然能對同一位置進行準(zhǔn)確測量，保證獲得準(zhǔn)確的磁場分布。4.當(dāng)所鍍膜層出現(xiàn)質(zhì)量問題時，可以很方便地檢測磁場情況，判斷是否因磁場變化導(dǎo)致。

圖I :本實用新型的結(jié)構(gòu)示意圖圖2:本實用新型的主視圖圖中1、平臺，2、立柱，3、滑軌，4、滑軌支撐塊，5、滑塊，6、橫梁，7、磁強計，8、定位塊，9、機架，10、平面靶。
具體實施方式
本實用新型設(shè)計的平面靶磁場強度的檢測裝置，主要由平臺I、立柱2、滑軌3、滑軌支撐塊4、滑塊5、橫梁6、磁強計7、定位塊8和機架9組成，平臺I安裝在機架9上，滑軌3為圓柱軸，滑軌支撐塊4固定在機架9的兩端，滑軌3安裝在滑軌支撐塊4的軸孔內(nèi)，立柱2上的軸孔套在滑軌3上，可在滑軌3上移動，橫梁6為兩根圓柱軸，兩頭插接在立柱2的軸孔內(nèi)，滑塊5套在橫梁6的軸上，可在橫梁6上自由移動，磁強計7安裝在滑塊5上，調(diào)整好位置后由頂絲固定，平臺I上安裝有定位塊9，測量時將平面靶10放在平臺I上，由定位塊9限定位置，這樣實現(xiàn)對平面靶10的任意位置的磁場強度測量。當(dāng)平面靶10為新靶時，調(diào)整磁強計7在滑塊5上的高度，使磁強計7的前端探頭剛好接觸平面靶10表面，記下此時磁強計7在滑塊5的刻度值，該值作為這支平面靶10以后測量時磁強計7的參考高度，由于磁強計7前端探頭有一定的彈性，同時靶材供應(yīng)商對靶材平面的平整度有著嚴(yán)格控制，因此可以實現(xiàn)磁強計7的左右前后移動。本實用新型的技術(shù)方案不限于上述實施例，在本領(lǐng)域普通技術(shù)人員所具備的知識范圍內(nèi)，還可以在不脫離本實用新型宗旨的前提下作出各種變化，從本實用新型公開的內(nèi)容直接導(dǎo)出或聯(lián)想到的所有變形，均應(yīng)認(rèn)為是本實用新型的保護范圍。
權(quán)利要求1.一種平面靶磁場強度的檢測裝置，包括檢測機構(gòu)、機架及其平臺，平面靶放置在機架的平臺上，其特征在于機架上設(shè)有移動裝置，檢測機構(gòu)安裝在移動裝置的滑動架上，滑動架帶動檢測機構(gòu)做X向和Y向運動。
2.根據(jù)權(quán)利要求I所述的平面靶磁場強度的檢測裝置，其特征在于所述檢測機構(gòu)為磁強計，其端部的探頭具有一定的彈性。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的平面靶磁場強度的檢測裝置，其特征在于所述移動裝置的滑動架包括立柱、滑軌、橫梁以及滑塊，橫梁安裝在立柱上，立柱安裝在滑軌上做Y向運動，滑塊安裝在橫梁上做X向運動。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的平面靶磁場強度的檢測裝置，其特征在于所述移動裝置的橫梁位于平臺上方，且橫梁上標(biāo)有刻度。
5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的平面靶磁場強度的檢測裝置，其特征在于所述磁強計安裝移動裝置的滑塊上，該滑塊上標(biāo)有刻度。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的平面靶磁場強度的檢測裝置，其特征在于所述磁強計垂直或傾斜安裝在滑塊上，磁強計在滑塊上的位置可調(diào)。
7.根據(jù)權(quán)利要求I所述的平面靶磁場強度的檢測裝置，其特征在于所述平面靶放在平臺上，由定位塊限定位置。
8.根據(jù)權(quán)利要求3所述的平面靶磁場強度的檢測裝置，其特征在于所述移動裝置的滑軌為圓柱軸，其上標(biāo)有刻度，滑軌由機架兩端的支撐塊固定。
9.根據(jù)權(quán)利要求3所述的平面靶磁場強度的檢測裝置，其特征在于所述移動裝置的滑動架由電氣控制系統(tǒng)控制自動移動及定位。
10.根據(jù)權(quán)利要求3所述的平面靶磁場強度的檢測裝置，其特征在于所述移動裝置的立柱上設(shè)有滑軌和橫梁的安裝孔，立柱沿滑軌移動。
專利摘要本實用新型涉及一種磁控濺射裝置中平面靶的磁場強度的檢測設(shè)備，屬于磁控濺射鍍膜領(lǐng)域的檢測技術(shù)。平面靶磁場強度的檢測裝置，包括檢測機構(gòu)、機架及其平臺，平面靶放置在機架的平臺上，機架上設(shè)有移動裝置，檢測機構(gòu)安裝在移動裝置的滑動架上，滑動架帶動檢測機構(gòu)做X向和Y向運動，實現(xiàn)測量位置的一致性，保證測量數(shù)據(jù)的準(zhǔn)確性和再現(xiàn)性，操作簡便，成本低。
文檔編號G01R33/02GK202548307SQ201220108299
公開日2012年11月21日 申請日期2012年3月21日 優(yōu)先權(quán)日2012年3月21日
發(fā)明者李毅, 盛國浩 申請人:深圳市創(chuàng)益科技發(fā)展有限公司