技術(shù)編號：5973910
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本實用新型涉及一種磁控濺射裝置中平面靶的磁場強度的檢測設(shè)備，屬于磁控濺射鍍膜領(lǐng)域的檢測技術(shù)。背景技術(shù)磁控濺射鍍膜是通過磁場對電子作用濺射靶材沉積到基片，平面靶的磁場強度直接影響鍍膜質(zhì)量。因此需要測量新靶的磁場強度和分布，以及當(dāng)靶材消耗一定程度時，在相同位置上的測量磁場變化，尋找鍍膜出現(xiàn)問題的原因，以調(diào)整磁場。目前鍍膜工業(yè)領(lǐng)域中平面靶的磁場設(shè)計，通常將磁性大小一致的小磁鐵通過排列 組合成各種結(jié)構(gòu)的磁場，再投入生產(chǎn)中使用。理論上，由小磁鐵組合而成的磁場在同一高...
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該專利適合技術(shù)人員進行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。