技術特征：
1.一種渦流式流量測量設備，帶有可被介質至少部分地流過且被設備壁（1）限定的介質腔（2）、至少一個設置在介質腔（2）中的阻擋體和至少一個設置在阻擋體作用區(qū)域內的壓力傳感器，其中，該壓力傳感器的偏轉在測量技術上被考慮用于探測在與壓力傳感器相鄰的介質中的壓力，其中，為了檢測壓力傳感器的偏轉，在壓力傳感器上和/或中設置有至少一個光纖（3），其中，該光纖（3）在設備壁（1）中穿過耐壓的光纖套管（4）從介質腔伸入到無介質的外腔（5）中，其特征在于，光纖套管（4）包括位于設備壁（1）內的光纖通道（6）、伸入到光纖通道（6）中的帶有用于光纖（3）的接觸面（8）的第一密封件（7）和至少一個帶有用于光纖的接觸面（10）的第二密封件（9），其中，第二密封件（9）在構造于設備壁（1）內的引導件（11）中導向，且在光纖套管（4）的密封狀態(tài)下，第二密封件（9）以其接觸面（10）利用調節(jié)機構（12）頂壓到第一密封件（7）的接觸面（8）上；設置在第一密封件（7）的接觸面（8）與第二密封件（9）的接觸面（10）之間的光纖（3）被第一密封件（7）的接觸面（8）和/或第二密封件（9）的接觸面（10）環(huán)繞地貼靠，從而利用第一密封件（7）、第二密封件（9）和在第一密封件（7）與第二密封件（8）之間引導的光纖（3）將光纖通道（6）封閉。2.如權利要求1所述的渦流式流量測量設備，其特征在于，第一密封件（7）在構造于設備壁（1）中的引導件（13）內導向，且可通過調節(jié)機構（14）定位。3.如權利要求1或2所述的渦流式流量測量設備，其特征在于，在光纖套管（4）的密封狀態(tài)下，第一密封件（7）的引導件（13）密封地封閉，和/或第二密封件（9）的引導件（11）密封地封閉。4.如權利要求2所述的渦流式流量測量設備，其特征在于，第一密封件（7）的引導件（13）和/或第二密封件（9）的引導件（11）垂直于光纖通道（6）。5.如權利要求2所述的渦流式流量測量設備，其特征在于，第一密封件（7）的調節(jié)機構（14）和/或第二密封件（9）的調節(jié)機構（12）均被實現(xiàn)為分別在設置于設備壁（1）中的螺紋導程（15、16）內的絲杠。6.如權利要求2所述的渦流式流量測量設備，其特征在于，在用于第一密封件（7）的調節(jié)機構（14）與第一密封件（7）之間，和/或在用于第二密封件（9）的調節(jié)機構（12）和第二密封件（9）之間，分別設置有壓緊墊（17）。7.如權利要求1所述的渦流式流量測量設備，其特征在于，第一密封件（7）和/或第二密封件（9）由彈性體構成。8.如權利要求1所述的渦流式流量測量設備，其特征在于，第一密封件（7）和/或第二密封件（9）由金屬或合金構成。9.如權利要求4所述的渦流式流量測量設備，其特征在于，第一密封件（7）的引導件（13）和第二密封件（9）的引導件（11）位于一個軸線A上。10.如權利要求4所述的渦流式流量測量設備，其特征在于，第一密封件（7）的引導件（13）和/或第二密封件（9）的引導件（11）被設計成孔。11.如權利要求7所述的渦流式流量測量設備，其特征在于，第一密封件（7）和/或第二密封件（9）由丙烯腈-丁二烯生膠、氟彈性體或全氟彈性體構成。12.如權利要求8所述的渦流式流量測量設備，其特征在于，第一密封件（7）和/或第二密封件（9）具有由鉭和/或銀構成的組分。13.如權利要求5所述的渦流式流量測量設備，其特征在于，螺紋導程（15、16）分別位于配屬的密封件（7、9）的引導件（11、13）的軸線A上。14.一種光纖套管（4），用于使得光纖（3）穿過設備壁（1），其特征在于，光纖套管（4）包括位于設備壁（1）內的光纖通道（6）、伸入到光纖通道（6）中的帶有用于光纖（3）的接觸面（8）的第一密封件（7）和至少一個帶有用于光纖的接觸面（10）的第二密封件（9），其中，第二密封件（9）在構造于設備壁（1）內的引導件（11）中導向，且在光纖套管（4）的密封狀態(tài)下，第二密封件（9）以其接觸面（10）利用調節(jié)機構（12）頂壓到第一密封件（7）的接觸面（8）上；設置在第一密封件（7）的接觸面（8）與第二密封件（9）的接觸面（10）之間的光纖（3）被第一密封件（7）的接觸面（8）和/或第二密封件（9）的接觸面（10）環(huán)繞地貼靠，從而利用第一密封件（7）、第二密封件（9）和在第一密封件（7）與第二密封件（8）之間引導的光纖（3）將光纖通道（6）封閉。