專(zhuān)利名稱(chēng)：校正試樣和熒光x射線分析裝置與熒光x射線分析方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及熒光X射線分析用的校正試樣和具有它的熒光X射線分析裝置與采用該裝置的熒光X射線分析方法。
背景技術(shù)：
在過(guò)去，在測(cè)定對(duì)試樣照射一次X射線而產(chǎn)生的熒光X射線的強(qiáng)度的熒光X射線分析裝置中，定期地進(jìn)行所謂的偏差校正，其中，對(duì)同一試樣的測(cè)定X射線強(qiáng)度因各種原因產(chǎn)生的伴隨時(shí)間而發(fā)生變化(drift)的情況進(jìn)行校正。如果進(jìn)行該偏差校正，則針對(duì)比如用于形成標(biāo)準(zhǔn)曲線的全部標(biāo)準(zhǔn)試樣，針對(duì)每個(gè)元素修正測(cè)定X射線強(qiáng)度，則每當(dāng)校正時(shí)需要許多的工夫和時(shí)間。于是，在用于偏差校正時(shí)事先設(shè)定校正試樣、測(cè)定構(gòu)成基準(zhǔn)的X射線強(qiáng)度，在進(jìn)行偏差校正時(shí)，僅僅測(cè)定已設(shè)定的校正試樣，根據(jù)此時(shí)的測(cè)定X射線強(qiáng)度和構(gòu)成上述基準(zhǔn)的測(cè)定X射線強(qiáng)度，求出偏差校正系數(shù)，將該偏差校正系數(shù)用于分析對(duì)象試樣的測(cè)定X射線強(qiáng)度，進(jìn)行校正。由此，在熒光X射線分析中，采用各種校正試樣。比如，用于對(duì)在硅襯底上形成金屬膜的試樣進(jìn)行分析的場(chǎng)合，具有在硅襯底上形成Au、Pt、Co等的金屬膜的校正試樣(專(zhuān)利文獻(xiàn)I)。另外，具有裝載于薄膜上的微量粉末試樣、保持于濾紙、聚合物膜上的微量溶液試樣、薄膜試樣等的熒光X射線分析所采用的校正試樣。該校正試樣由聚酰亞胺膜、混合有該聚酰亞胺膜上的分析對(duì)象元素的聚酰亞胺膜形成(專(zhuān)利文獻(xiàn)2)。作為該校正試樣的變形例，人們知道有在金屬箔、襯底上形成混合有分析對(duì)象元素的聚酰亞胺膜的校正試樣。此外，在原油或石油制品中包含的硫磺的濃度的測(cè)定中，在硫磺的濃度是已知的重油密封于容器內(nèi)部的標(biāo)準(zhǔn)試樣的場(chǎng)合，由于因液體泄漏或沉淀等造成的濃度變化產(chǎn)生伴隨時(shí)間的變化，無(wú)法長(zhǎng)期使用，故具有采用固體的模擬試樣作為標(biāo)準(zhǔn)試樣的方法。該模擬試樣由圓板狀的鑰主體與吸收體形成，該吸收體設(shè)置于該鑰主體的一次X射線照射側(cè)上，由聚對(duì)苯二甲酸乙二酯、聚酰亞胺構(gòu)成(專(zhuān)利文獻(xiàn)3)?，F(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn)專(zhuān)利文獻(xiàn)專(zhuān)利文獻(xiàn)1:日本特開(kāi)2005—156213號(hào)公報(bào)專(zhuān)利文獻(xiàn)2 :日本特開(kāi)2010— 204087號(hào)公報(bào)專(zhuān)利文獻(xiàn)3 :日本特開(kāi)平7 — 5127號(hào)公報(bào)

發(fā)明內(nèi)容
發(fā)明要解決的課題專(zhuān)利文獻(xiàn)I中記載的校正試樣用于在硅襯底上形成金屬膜的試樣，即固體試樣的分析。在專(zhuān)利文獻(xiàn)2中記載的校正試樣用于微量粉末試樣或薄膜試樣等的固體試樣的分析，并且用于保持于濾紙或聚合物膜上的微量溶液試樣的分析。由于該校正試樣用于微量粉末試樣或微量溶液試樣等的微量試樣的分析，故由校正試樣產(chǎn)生的本底按照盡可能地小的方式構(gòu)成。在專(zhuān)利文獻(xiàn)3中記載的模擬試樣僅僅用于原油或石油制品中包含的硫磺的濃度的測(cè)定，不用于其它的元素、其它的液體試樣。該模擬試樣由圓板狀的鑰主體與設(shè)置于該鑰主體的一次X射線照射側(cè)的吸收體形成，但是，該吸收體用于衰減由鑰主體產(chǎn)生的熒光X射線強(qiáng)度，對(duì)于由試樣產(chǎn)生的本底沒(méi)有任何的考慮。由于在液體試樣中，在作為溶劑的水、有機(jī)溶劑等中，包含作為主成分的氫、碳、氧等的輕元素，故大量地產(chǎn)生散射X射線，在所測(cè)定的X射線中不但具有熒光X射線，而且大量地包含散射X射線，因該散射X射線而產(chǎn)生大的本底。但是,在過(guò)去,考慮了由液體試樣產(chǎn)生的本底的固體的校正試樣還沒(méi)有出現(xiàn)。像這樣，在過(guò)去還沒(méi)有下述校正試樣，即，可正確地進(jìn)行測(cè)定X射線強(qiáng)度的伴隨時(shí)間的變化(drift)的校正，并且可長(zhǎng)期使用，該測(cè)定X射線強(qiáng)度包含由液體試樣產(chǎn)生的本
。本發(fā)明是針對(duì)上述過(guò)去的問(wèn)題而提出的，本發(fā)明的目的在于提供可長(zhǎng)期使用、并且可進(jìn)行正確的偏差校正的液體試樣的熒光X射線分析用的校正試樣、具有它的熒光X射線分析裝置、采用該裝置的熒光X射線分析方法。用于解決課題的技術(shù)方案為了實(shí)現(xiàn)上述目的，本發(fā)明的校正試樣為固體的校正試樣，該校正試樣用于在液體試樣的熒光X射線分析中，對(duì)分析對(duì)象金屬元素的測(cè)定X射線強(qiáng)度的伴隨時(shí)間的變化進(jìn)行校正，其中，包括分析對(duì)象金屬元素的金屬層與厚度為Irnm以上的輕元素層重合地形成，該輕元素層中，氫、硼、碳、氮、氧和氟中的至少I(mǎi)種輕元素具有最大摩爾份數(shù)，在上述金屬層中，與上述輕元素層相對(duì)的那一面的相反側(cè)表面為分析面。
`
由于本發(fā)明的校正試樣是固體，其中，包括分析對(duì)象金屬元素的金屬層與厚度為Imm以上的輕元素層重合地形成，該輕元素層中，氫、硼、碳、氮、氧和氟中的至少I(mǎi)種輕元素具有最大摩爾份數(shù)，故不產(chǎn)生蒸發(fā)、沉淀、變質(zhì)等造成的伴隨時(shí)間的變化，可長(zhǎng)期使用。另夕卜，上述金屬層為照射一次X射線的分析面，在該金屬層中實(shí)現(xiàn)透射的一次X射線射入輕元素層，由此，輕元素層的輕元素產(chǎn)生與分析對(duì)象的液體材料相同程度的散射X射線(本底)，這樣，可進(jìn)行正確的偏差校正。在本發(fā)明的熒光X射線分析方法中，采用本發(fā)明的校正試樣進(jìn)行液體試樣的熒光X射線分析。按照本發(fā)明的熒光X射線分析方法，由于采用本發(fā)明的校正試樣，故可實(shí)現(xiàn)與本發(fā)明的校正試樣相同的效果。在本發(fā)明的熒光X射線分析方法中，最好還采用本底校正試樣，該本底校正試樣僅僅由上述校正試樣的上述輕元素層形成，用于對(duì)液體試樣的本底X射線強(qiáng)度的伴隨時(shí)間的變化進(jìn)行校正。在此場(chǎng)合，由于采用由上述金屬層和上述輕元素層形成的校正試樣、與僅僅由上述輕元素層形成的本底校正試樣的2種校正試樣，故可進(jìn)行更加正確的偏差校正。本發(fā)明的熒光X射線分析裝置包括本發(fā)明的校正試樣；偏差校正機(jī)構(gòu)，其根據(jù)上述校正試樣的分析對(duì)象金屬元素的測(cè)定X射線強(qiáng)度，對(duì)液體試樣的測(cè)定X射線強(qiáng)度的伴隨時(shí)間的變化進(jìn)行校正。按照本發(fā)明的熒光X射線分析裝置，包括本發(fā)明的校正試樣；偏差校正機(jī)構(gòu)，其根據(jù)上述校正試樣的分析對(duì)象金屬元素的測(cè)定X射線強(qiáng)度，校正液體試樣的測(cè)定X射線強(qiáng)度的伴隨時(shí)間的變化，故可實(shí)現(xiàn)與本發(fā)明的校正試樣相同的效果。最好，本發(fā)明的熒光X射線分析裝置還包括本底校正試樣，該本底校正試樣僅僅由上述輕元素層形成，用于校正液體試樣的本底X射線強(qiáng)度的伴隨時(shí)間的變化，上述偏差校正機(jī)構(gòu)根據(jù)上述校正試樣的分析對(duì)象金屬元素的測(cè)定X射線強(qiáng)度和上述本底校正試樣的測(cè)定X射線強(qiáng)度，對(duì)液體試樣的測(cè)定X射線強(qiáng)度的伴隨時(shí)間的變化進(jìn)行校正。在該場(chǎng)合，由于采用由上述金屬層和上述輕元素層形成的校正試樣、與僅僅由上述輕元素層形成的本底校正試樣的2種校正試樣，故可進(jìn)行更加正確的偏差校正。


圖1為本發(fā)明的第I實(shí)施方式的熒光X射線分析裝置的外觀結(jié)構(gòu)圖；圖2為該熒光X射線分析裝置所具有的校正試樣的側(cè)視圖；圖3為表示求出該校正試樣的金屬層和輕元素層的厚度的流程的圖；圖4為該校正試樣的變形例子的側(cè)面剖視圖；圖5為該校正試樣的另一變形例子的側(cè)視圖；圖6為本發(fā)明的第2實(shí)施方式的熒光X射線分析裝置所具有的本底校正試樣的立體圖。
具體實(shí)施例方式下面對(duì)本發(fā)明的第I實(shí)施方式的熒光X射線分析裝置進(jìn)行說(shuō)明。像圖1所示的那樣，該熒光X射線分析裝置包括試樣臺(tái)3，在該試樣臺(tái)3上裝載液體試樣S或校正試樣20 ；X射線源1，該X射線源I為對(duì)液體試樣S或校正試樣20照射一次X射線2的比如銠X射線管；分光兀件5,該分光兀件5對(duì)由液體試樣S或校正試樣20產(chǎn)生的二次X射線4進(jìn)行分光；檢測(cè)器7，該檢測(cè)器7檢測(cè)通過(guò)分光元件5分光的二次X射線6 ;偏差校正機(jī)構(gòu)9。分光兀件5和檢測(cè)器7構(gòu)成檢測(cè)機(jī)構(gòu)8。偏差校正機(jī)構(gòu)9根據(jù)校正試樣20的分析對(duì)象金屬兀素的測(cè)定X射線強(qiáng)度，對(duì)液體試樣S的測(cè)定X射線強(qiáng)度的伴隨時(shí)間的變化進(jìn)行校正。二次X射線4和6包括該熒光X射線和散射X射線。另外，最好，校正試樣20事先裝載于試樣交換機(jī)(圖中未示出)的規(guī)定位置或內(nèi)
置有裝置。對(duì)第I實(shí)施方式的熒光X射線分析裝置的動(dòng)作，即構(gòu)成本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施方式的熒光X射線分析方法進(jìn)行說(shuō)明。如果使熒光X射線分析裝置動(dòng)作，則在最初測(cè)定校正試樣20，偏差校正機(jī)構(gòu)9將分析對(duì)象金屬元素的二次X射線6的測(cè)定X射線強(qiáng)度作為基準(zhǔn)強(qiáng)度Is而存儲(chǔ)。此后，依次地測(cè)定液體試樣S，在校正分析對(duì)象金屬元素的測(cè)定X射線強(qiáng)度時(shí)測(cè)定校正試樣20，求出分析對(duì)象金屬元素的二次X射線6的強(qiáng)度IM。如果求出強(qiáng)度IM，則根據(jù)偏差校正機(jī)構(gòu)9求出的Im和在先存儲(chǔ)的基準(zhǔn)強(qiáng)度Is，由下述式(I)計(jì)算偏差校正系數(shù)a。a = IS/IM(1)此外，偏差校正機(jī)構(gòu)9將偏差校正系數(shù)a與所測(cè)定的液體試樣S的分析對(duì)象金屬元素的測(cè)定X射線強(qiáng)度In相乘，進(jìn)行偏差校正。在上述例子中，將偏差校正系數(shù)a與測(cè)定X射線強(qiáng)度In相乘，進(jìn)行偏差校正，但是，也可將偏差校正系數(shù)a與一次式標(biāo)準(zhǔn)曲線的梯度常數(shù)a相乘，對(duì)標(biāo)準(zhǔn)曲線進(jìn)行校正，進(jìn)行偏差校正。下面對(duì)第I實(shí)施方式的熒光X射線分析裝置所具有的固體的校正試樣20進(jìn)行具體說(shuō)明。像圖2所示的那樣，校正試樣20按照下述方式形成，該方式為將包括分析對(duì)象金屬元素的金屬層21與輕元素層22重合，該輕元素層22使氫、硼、碳、氮、氧和氟中的至少I(mǎi)種輕元素為最大摩爾份數(shù)，厚度為1_以上，金屬層21通過(guò)粘接劑而粘接于輕元素層22上。在上述金屬層21中，與輕元素層22相對(duì)的那一面的相反側(cè)表面為分析面23。最好，在第I實(shí)施方式的熒光X射線分析裝置所具有的校正試樣20中，金屬層21按照下述厚度2倍以?xún)?nèi)的方式而形成，該厚度產(chǎn)生相當(dāng)于在液體試樣S中的分析對(duì)象元素為最大含量時(shí)產(chǎn)生的熒光X射線強(qiáng)度的熒光X射線強(qiáng)度，輕元素層22按照產(chǎn)生等同于液體試樣S的本底X射線強(qiáng)度的厚度而形成。根據(jù)圖3所示的流程，對(duì)像上述那樣，適合于液體試樣S的金屬層21的厚度和輕元素層22的厚度的求解方式進(jìn)行說(shuō)明。在第I階段SI，為了求出金屬層21的厚度和輕元素層22的厚度，確定由金屬層21而產(chǎn)生的熒光X射線強(qiáng)度(純X射線強(qiáng)度)和由輕元素層22而產(chǎn)生的本底X射線強(qiáng)度的相應(yīng)的目標(biāo)值。將在形成液體試樣S的標(biāo)準(zhǔn)曲線用的多個(gè)標(biāo)準(zhǔn)試樣中產(chǎn)生最大突光X射線強(qiáng)度的標(biāo)準(zhǔn)試樣的熒光X射線強(qiáng)度(純X射線強(qiáng)度)確定為金屬層21的目標(biāo)值。將作為已形成的標(biāo)準(zhǔn)曲線的截距的X射線強(qiáng)度的本底X射線強(qiáng)度作為輕元素層22的目標(biāo)值。在第2階段S2，采用在第I階段SI中作為目標(biāo)值而確定的金屬層21的熒光X射線強(qiáng)度，通過(guò)FP法(Fundamental parametermethod)理論強(qiáng)度計(jì)算，計(jì)算構(gòu)成該突光X射線強(qiáng)度的目標(biāo)值的允許范圍內(nèi)(比如，在目標(biāo)值100 200%以?xún)?nèi))的X射線強(qiáng)度的金屬層21的厚度。在第3階段S3，形成在第2階段S2計(jì)算的厚度的金屬層21，將該金屬層21重合于Imm以上的任意的厚度的輕元素層22上，形成校正試樣20。針對(duì)已形成的校正試樣20，通過(guò)熒光X射線分析裝置測(cè)定金屬層21的熒光X射線強(qiáng)度和輕元素層22的本底X射線強(qiáng)度。另外，關(guān)于將金屬層21和輕兀素層22重合而形成校正試樣20的方式,將在后面描述。在第4階段S4，判斷金屬層21的熒光X射線強(qiáng)度是否到達(dá)在第I階段SI中確定的目標(biāo)值的允許范圍內(nèi)的強(qiáng)度。如果金屬層21的熒光X射線強(qiáng)度到達(dá)目標(biāo)值的允許范圍內(nèi)的強(qiáng)度，則進(jìn)行第5階段S5。如果在第4階段S4判斷金屬層21的熒光X射線強(qiáng)度沒(méi)到第I階段SI中確定的目標(biāo)值的允許范圍內(nèi)的強(qiáng)度，則進(jìn)行第4A階段S4A。在第4A階段S4A，按照金屬層21的熒光X射線強(qiáng)度到達(dá)在第I階段SI中確定的目標(biāo)值的允許范圍內(nèi)的強(qiáng)度的方式改變金屬層21的厚度，返回到第3階段S3，在第4階段S4，在判定金屬層21的熒光X射線強(qiáng)度到達(dá)第I階段SI中確定的目標(biāo)值的允許范圍內(nèi)的強(qiáng)度之前，反復(fù)進(jìn)行從第4A階段S4A到第4階段S4的流程。在第5階段S5，判定輕元素層22的本底X射線強(qiáng)度是否到達(dá)在第I階段SI中確定的目標(biāo)值的允許范圍內(nèi)的強(qiáng)度。如果判定輕元素層22的本底X射線強(qiáng)度到達(dá)目標(biāo)值的允許范圍內(nèi)的強(qiáng)度，則進(jìn)行第6階段S6。如果在第5階段S5判斷輕元素層22的本底X射線強(qiáng)度沒(méi)到在第I階段SI中確定的目標(biāo)值的允許范圍內(nèi)的強(qiáng)度，則進(jìn)行第5A階段S5A。在第5A階段S5A中，為了使輕元素層22的本底X射線強(qiáng)度到達(dá)在第I階段SI中確定的目標(biāo)值的允許范圍內(nèi)的強(qiáng)度，改變輕元素層22的厚度，返回到第3階段S3，在于第5階段S5判定輕元素層22的熒光X射線強(qiáng)度到達(dá)在第I階段SI中確定的目標(biāo)值的允許范圍內(nèi)的強(qiáng)度之前，反復(fù)進(jìn)行從第5A階段S5A到第5階段S5的流程。在第6階段S6,確定金屬層21和輕兀素層22的厚度。作為校正試樣20的變形例子，對(duì)作為鎳鍍液的液體試樣S中的鎳進(jìn)行分析的場(chǎng)合的校正試樣20進(jìn)行說(shuō)明。在該校正試樣20的場(chǎng)合，像圖4所示的那樣，比如，作為厚度IOum的鎳箔21的金屬層21按照與密貼于輕元素層22的頂面上的方式通過(guò)環(huán)狀固定件50而固定,該輕元素層22作為比如厚度(高度)IOmm的長(zhǎng)方體狀的丙烯酸樹(shù)脂22,該金屬層21的外表面構(gòu)成分析面23。長(zhǎng)方體狀的丙烯酸樹(shù)脂22由作為輕元素的碳、氫、氧構(gòu)成，氫具有最大的摩爾份數(shù)。長(zhǎng)方體狀的丙烯酸樹(shù)脂22的尺寸為比如橫向100mm、縱向100mm、厚度(高度)10mm。作為該鎳鍍液的液體試樣S用的校正試樣20的金屬層21和輕元素層22的厚度為通過(guò)圖3所示的流程而求出的值。環(huán)狀固定件50由環(huán)狀板51和固定螺釘52構(gòu)成，固定螺釘52與形成于輕元素層22的頂部(固定環(huán)狀固定件50的部分)上的螺紋孔25螺合，金屬層21按照夾持于輕元素層22的頂面和環(huán)狀固定件50的底面(與輕元素層22面對(duì)的面)之間的方式固定。另外，金屬層21的固定方法不限于上述那樣的環(huán)狀固定件50，也可通過(guò)其它的固定件而固定。在圖2的校正試樣20中，金屬層21采用I個(gè)厚度IOOiim的鎳箔，但是，也可比如像圖5所示的那樣，按照通過(guò)粘接劑而粘接多個(gè)鎳箔21a、21b、21c中的相應(yīng)鎳箔而將它們重合的方式形成，還可通過(guò)圖4所示的環(huán)狀固定件50將多個(gè)金屬箔固定。另外，在用于多個(gè)分析對(duì)象金屬元素的校正試樣20的場(chǎng)合，金屬層21既可按照將不同的分析對(duì)象金屬元素的金屬箔重合的方式形成，也可通過(guò)具有多個(gè)分析對(duì)象金屬元素的I個(gè)金屬箔形成。此夕卜，金屬層21也可不為金屬箔，還可按照在輕元素層22上通過(guò)蒸鍍(PVD、CVD等)、鍍覆等的方式疊置分析對(duì)象金屬元素的薄膜的方式形成。最好，金屬層21根據(jù)圖3所示的流程，按照與在液體試樣S中包含的分析對(duì)象金屬元素的濃度相對(duì)應(yīng)的厚度而形成，作為厚度的具體的數(shù)值，比如，如果為高濃度則較厚，厚度最好在10 300 ii m的范圍內(nèi)，如果為低濃度則較薄，厚度最好在I 10 ii m的范圍內(nèi)，如果為極低濃度則最好在大于0不足10 ii m的范圍。在本實(shí)施方式中，校正試樣20按照在輕元素層22上進(jìn)行粘接、密貼、蒸鍍金屬層21等的處理的方式形成，但是，還可按照在輕元素層22和金屬層21之間具有間隙的狀態(tài)進(jìn)行重合的方式形成。輕元素層22采用丙烯酸樹(shù)脂，但是，可為氫、硼、碳、氮、氧和氟中的至少I(mǎi)種輕元素具有最大的摩爾份數(shù)的厚度為Imm以上的物質(zhì)，還可為高分子有機(jī)化合物(聚丙烯、聚乙烯、聚酰亞胺、氟樹(shù)脂等)、石墨、氮化硼、金屬硼、石英、玻璃等。在石墨的場(chǎng)合，碳具有最大的摩爾份數(shù)，在氮化硼的場(chǎng)合，氮和硼均具有最大的摩爾份數(shù)。圖2、圖4、圖5所示的校正試樣20的輕元素層22可根據(jù)圖3所示的流程，按照與液體試樣S的種類(lèi)相對(duì)應(yīng)的厚度(高度)H而形成，厚度H的具體的數(shù)值最好比如，在I IOOmm的范圍內(nèi)。輕元素層22的形狀不限于長(zhǎng)方體狀,也可為圓柱、多棱柱等,還可接納于注入有液體試樣S的液體試樣容器內(nèi)部?？赏ㄟ^(guò)像這樣形成輕元素層22，形成與液體試樣S相同程度的本底，與測(cè)定熒光X射線強(qiáng)度與散射X射線強(qiáng)度的比的液體試樣S達(dá)到相同的程度，故可進(jìn)行正確的偏差校正。采用圖2、圖4、圖5，在上面已說(shuō)明的校正試樣20均分別構(gòu)成本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施方式。如果按照第I實(shí)施方式的熒光X射線分析裝置，該熒光X射線分析裝置所具有的校正試樣20為下述的固體，即金屬層21由分析對(duì)象金屬元素形成，輕元素層22由氫、硼、碳、氮、氧和氟中的至少I(mǎi)種輕元素具有最大的摩爾份數(shù)的厚度為1_以上的物質(zhì)形成，并且輕元素層22的輕元素產(chǎn)生與液體試樣S相同程度的散射X射線(本底)，故可長(zhǎng)期地使用，并且可正確地校正分析對(duì)象金屬元素的測(cè)定X射線強(qiáng)度的偏差。下面，對(duì)作為本發(fā)明的第2實(shí)施方式的熒光X射線分析裝置進(jìn)行說(shuō)明。第2實(shí)施方式的熒光X射線分析裝置與作為第I實(shí)施方式的熒光X射線分析裝置的區(qū)別在于前者包括第I實(shí)施方式的熒光X射線分析裝置具有的校正試樣20與本底校正試樣40 (圖6)的2種的校正試樣，該本底校正試樣40僅僅由校正試樣20的輕元素層22形成，用于對(duì)液體試樣S的本底X射線強(qiáng)度的伴隨時(shí)間的變化進(jìn)行校正，偏差校正機(jī)構(gòu)9根據(jù)校正試樣20的分析對(duì)象金屬元素的測(cè)定X射線強(qiáng)度和裝載于試樣臺(tái)3上的本底校正試樣40的測(cè)定X射線強(qiáng)度，對(duì)液體試樣S的測(cè)定X射線強(qiáng)度的伴隨時(shí)間的變化進(jìn)行校正。但是由于其它的結(jié)構(gòu)是相同的，故對(duì)不同點(diǎn)進(jìn)行描述。另外，2種校正試樣20、40與第I實(shí)施方式的熒光X射線分析裝置相同，最好，事先裝載于試樣交換機(jī)的規(guī)定位置，或內(nèi)置有裝置。對(duì)第2實(shí)施方式的熒光X射線分析裝置的動(dòng)作，即構(gòu)成本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施方式的熒光X射線分析方法進(jìn)行說(shuō)明。如果使熒光X射線分析裝置動(dòng)作，則最初測(cè)定本底校正試樣40，偏差校正機(jī)構(gòu)9將本底X射線強(qiáng)度作為本底基準(zhǔn)強(qiáng)度Ib而存儲(chǔ)。接著，在校正本底X射線強(qiáng)度時(shí)，測(cè)定本底校正試樣40，求出本底X射線強(qiáng)度I。。如果求出本底X射線強(qiáng)度I。，則偏差校正機(jī)構(gòu)9根據(jù)已求出的強(qiáng)度I。和在先存儲(chǔ)的基準(zhǔn)強(qiáng)度IB，由下述的式(2)計(jì)算本底校正系數(shù)3。3 = Ib/Ic(2)接著，如果與第I實(shí)施方式的熒光X射線分析裝置的動(dòng)作相同測(cè)定校正試樣20，則偏差校正機(jī)構(gòu)9計(jì)算偏差校正系數(shù)Ct。偏差校正機(jī)構(gòu)9通過(guò)已計(jì)算的偏差校正系數(shù)Ct、本底校正系數(shù)P校正一次式標(biāo)準(zhǔn)曲線的梯度常數(shù)a和截距常數(shù)b，校正標(biāo)準(zhǔn)曲線。在標(biāo)準(zhǔn)曲線的校正后測(cè)定的液體試樣S根據(jù)校正的標(biāo)準(zhǔn)曲線而定量。由于第2實(shí)施方式的熒光X射線分析裝置包括與第I實(shí)施方式的熒光X射線分析裝置所具有的校正試樣20相同的校正試樣20、與僅僅由輕元素層22形成的本底校正試樣40，通過(guò)高濃度區(qū)域用的校正試樣20和低濃度區(qū)域用的本底校正試樣40的2種的校正試樣，對(duì)梯度常數(shù)a和截距常數(shù)b進(jìn)行校正，校正標(biāo)準(zhǔn)曲線，故可更加正確地校正標(biāo)準(zhǔn)曲線。特別是，在分析對(duì)象金屬元素的測(cè)定X射線強(qiáng)度的伴隨時(shí)間的變化和本底X射線強(qiáng)度的伴隨時(shí)間的變化不同的場(chǎng)合，其效果很大。以上描述的熒光X射線分析裝置具有的圖2、圖4、圖5所示的校正試樣20也可采用將由校正試樣20產(chǎn)生的散射X射線作為內(nèi)標(biāo)準(zhǔn)線而測(cè)定的散射線監(jiān)視法(散射線內(nèi)標(biāo)準(zhǔn)法)。散射線監(jiān)視法為多用于散射X射線大量發(fā)生的液體試樣、有機(jī)化合物等的分析，通過(guò)采用分析對(duì)象金屬元素的測(cè)定X射線強(qiáng)度和本底(散射X射線)的X射線強(qiáng)度的比，對(duì)試樣S中的共存元素的影響進(jìn)行補(bǔ)償?shù)臒晒釾射線分析方法。在比如，可進(jìn)行散射線監(jiān)視法的多元素同時(shí)型熒光X射線分析裝置中包括測(cè)定由液體試樣S產(chǎn)生的分析對(duì)象金屬元素的二次X射線的測(cè)定通道(具有適合于分析對(duì)象金屬元素的分光元件和X射線檢測(cè)器)；測(cè)定由液體試樣S產(chǎn)生的散射X射線的本底通道(具有適合于本底測(cè)定的分光元件和X射線檢測(cè)器)，制作將通過(guò)測(cè)定通道測(cè)定的X射線強(qiáng)度Ia和通過(guò)本底通道測(cè)定的X射線強(qiáng)度Id的比Ia/Id作為縱軸，將所測(cè)定的液體試樣S的分析對(duì)象金屬元素的濃度作為橫軸的標(biāo)準(zhǔn)曲線，分析液體試樣S。最初，通過(guò)測(cè)定通道和本底通道，同時(shí)地對(duì)校正試樣20進(jìn)行測(cè)定，計(jì)算通過(guò)測(cè)定通道測(cè)定的作為X射線強(qiáng)度的基準(zhǔn)強(qiáng)度Ip與通過(guò)本底通道測(cè)定的作為X射線強(qiáng)度的基準(zhǔn)強(qiáng)度Ig的比Ip/Ig。在校正測(cè)定X射線強(qiáng)度時(shí)，通過(guò)測(cè)定通道和本底通道同時(shí)地對(duì)校正試樣20進(jìn)行測(cè)定，計(jì)算通過(guò)測(cè)定通道測(cè)定的X射線強(qiáng)度^與通過(guò)本底通道測(cè)定的X射線強(qiáng)度I,的比iyiq。采用已計(jì)算的比ip/ig和已計(jì)算的比iyiq的比ap/ig)/(iyg校正標(biāo)準(zhǔn)曲線，進(jìn)行偏差校正。校正試樣20可產(chǎn)生與分析對(duì)象的液體試樣S相同程度的本底，由于突光X射線強(qiáng)度與散射X射線強(qiáng)度的比與分析對(duì)象的液體試樣S的程度相同，故即使對(duì)于散射監(jiān)視法，仍可進(jìn)行正確的偏差校正。在第1、第2實(shí)施方式的熒光X射線分析裝置中，將校正試樣20用于標(biāo)準(zhǔn)曲線的校正，但是也可用于評(píng)價(jià)熒光X射線分析裝置的靈敏度穩(wěn)定度的靈敏度穩(wěn)定度試驗(yàn)。最好，用于熒光X射線分析裝置的靈敏度穩(wěn)定度試驗(yàn)的穩(wěn)定度試驗(yàn)試樣產(chǎn)生與液體試樣S相同程度的強(qiáng)度的熒光X射線，具有與液體試樣S相同程度的熒光X射線與散射X射線強(qiáng)度的比，最好，比如金屬層21的厚度為5 i! m,輕元素層22的厚度為5mm。第1、第2實(shí)施方式的熒光X射線 分析裝置作為波長(zhǎng)分散型熒光X射線分析裝置而進(jìn)行了說(shuō)明，但是，本發(fā)明的裝置也可為能量分散型熒光X射線分析裝置。標(biāo)號(hào)說(shuō)明標(biāo)號(hào)I表不X射線源；標(biāo)號(hào)2表不一次X射線；標(biāo)號(hào)3表不試樣臺(tái)；標(biāo)號(hào)4、6表示二次X射線；標(biāo)號(hào)5表不分光兀件；標(biāo)號(hào)7表不檢測(cè)器；標(biāo)號(hào)8表示檢測(cè)機(jī)構(gòu)；標(biāo)號(hào)9表不偏差校正機(jī)構(gòu)；標(biāo)號(hào)20表不校正試樣；標(biāo)號(hào)21表不金屬層;標(biāo)號(hào)22表示輕元素層；標(biāo)號(hào)23表不分析面；標(biāo)號(hào)40表不本底校正試樣；符號(hào)S表不液體試樣。
權(quán)利要求
1.一種校正試樣，其為固體校正試樣，該校正試樣用于在液體試樣的熒光X射線分析中，對(duì)分析對(duì)象金屬元素的測(cè)定X射線強(qiáng)度的伴隨時(shí)間的變化進(jìn)行校正， 其中，包含分析對(duì)象金屬元素的金屬層與厚度為1_以上的輕元素層重合地形成，該輕元素層中，氫、硼、碳、氮、氧和氟中的至少I(mǎi)種輕元素具有最大摩爾份數(shù)， 在上述金屬層中，與上述輕元素層相對(duì)的那一面的相反側(cè)表面為分析面。
2.—種熒光X射線分析方法,其采用權(quán)利要求1所述的校正試樣進(jìn)行液體試樣的分析。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的熒光X射線分析方法，其還采用本底校正試樣，該本底校正試樣僅僅由上述輕元素層形成，用于對(duì)液體試樣的本底X射線強(qiáng)度的伴隨時(shí)間的變化進(jìn)行校正。
4.一種熒光X射線分析裝置，該熒光X射線分析裝置包括 權(quán)利要求1所述的校正試樣； 偏差校正機(jī)構(gòu)，其根據(jù)上述校正試樣的分析對(duì)象金屬元素的測(cè)定X射線強(qiáng)度，對(duì)液體試樣的測(cè)定X射線強(qiáng)度的伴隨時(shí)間的變化進(jìn)行校正。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的熒光X射線分析裝置，還包括本底校正試樣，該本底校正試樣僅僅由上述輕元素層形成，用于對(duì)液體試樣的本底X射線強(qiáng)度的伴隨時(shí)間的變化進(jìn)行校正， 上述偏差校正機(jī)構(gòu)根據(jù)上述校正試樣的分析對(duì)象金屬元素的測(cè)定X射線強(qiáng)度和上述本底校正試樣的測(cè)定X射線強(qiáng)度，對(duì)液體試樣的測(cè)定X射線強(qiáng)度的伴隨時(shí)間的變化進(jìn)行校正。
全文摘要
本發(fā)明的課題在于提供一種校正試樣和熒光X射線分析裝置與熒光X射線分析方法，提供液體試樣的熒光X射線分析用的校正試樣等，其可長(zhǎng)期使用，且可進(jìn)行正確的偏差校正。本發(fā)明的校正試樣為固體的校正試樣，該校正試樣用于在液體試樣的熒光X射線分析中，校正分析對(duì)象金屬元素的測(cè)定X射線強(qiáng)度的伴隨時(shí)間的變化，其中，包含分析對(duì)象金屬元素的金屬層與厚度為1mm以上的輕元素層重合地形成，該輕元素層中，氫、硼、碳、氮、氧和氟中的至少1種輕元素具有最大摩爾份數(shù)，在上述金屬層中，與輕元素層相對(duì)的那一面的相反側(cè)表面為分析面。
文檔編號(hào)G01N23/223GK103048346SQ20121039235
公開(kāi)日2013年4月17日 申請(qǐng)日期2012年10月16日 優(yōu)先權(quán)日2011年10月17日
發(fā)明者小林寬 申請(qǐng)人:株式會(huì)社理學(xué)