技術(shù)編號：5959688
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。本發(fā)明涉及熒光X射線分析用的校正試樣和具有它的熒光X射線分析裝置與采用該裝置的熒光X射線分析方法。背景技術(shù)在過去，在測定對試樣照射一次X射線而產(chǎn)生的熒光X射線的強度的熒光X射線分析裝置中，定期地進行所謂的偏差校正，其中，對同一試樣的測定X射線強度因各種原因產(chǎn)生的伴隨時間而發(fā)生變化(drift)的情況進行校正。如果進行該偏差校正，則針對比如用于形成標準曲線的全部標準試樣，針對每個元素修正測定X射線強度，則每當校正時需要許多的工夫和時間。于是，在用于偏差校正時...
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該專利適合技術(shù)人員進行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。