專利名稱：光學(xué)膜片光學(xué)性能測試臺(tái)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及一種用于檢測光學(xué)膜片的光學(xué)性能的裝置。
背景技術(shù)：
目前，隨著光纖通訊技術(shù)的不斷發(fā)展和普及使用，其中WDM (波分復(fù)用)技術(shù)相關(guān)的器件設(shè)備及其核心膜片(芯片)已經(jīng)開始大量進(jìn)入光纖敷設(shè)的骨干網(wǎng)絡(luò)和城域網(wǎng)絡(luò)，WDM膜片的生產(chǎn)使用量越來越大，生產(chǎn)企業(yè)對(duì)高效、準(zhǔn)確的測試WDM膜片光學(xué)性能提出了迫切要求。一般測試WDM反射光譜使用雙光纖準(zhǔn)直器，一光纖作為入射光，另一光纖接收反射光。 由于使用雙光纖，不能保證反射光完全沿入射光路返回，所以測試的反射光譜曲線不夠準(zhǔn)確；另外，在WDM膜片反射光譜測試中，需要保證WDM膜片下表面與入射光路徑盡量垂直，越接近90度，反射光譜的測試結(jié)果越準(zhǔn)確，由于雙光纖不容易保證垂直，所以測試反射光譜曲線重復(fù)性不好，測試結(jié)果不夠準(zhǔn)確。

實(shí)用新型內(nèi)容本實(shí)用新型的目的在于避免現(xiàn)有技術(shù)中的不足而提供一種能保證反射光完全沿入射光路返回，容易保證垂直，重復(fù)性更好、測試的光學(xué)曲線更準(zhǔn)確的光學(xué)膜片光學(xué)性能測試臺(tái)。本實(shí)用新型的目的通過以下技術(shù)方案實(shí)現(xiàn)光學(xué)膜片光學(xué)性能測試臺(tái)，包括膜片載物臺(tái)，膜片載物臺(tái)上設(shè)有可放置待測膜片的小孔，在所述的膜片載物臺(tái)的下方設(shè)有對(duì)準(zhǔn)小孔的單光纖準(zhǔn)直器，單光纖準(zhǔn)直器的下方設(shè)有耦合器，耦合器的下部接有光源和光譜測試分析設(shè)備。所述的單光纖準(zhǔn)直器裝設(shè)在準(zhǔn)直器調(diào)節(jié)架上。由于采用了上述的結(jié)構(gòu)，使用時(shí)WDM膜片放置在小孔上，光從光源發(fā)出，通過光纖，進(jìn)入耦合器，再從耦合器發(fā)出，進(jìn)入單光纖準(zhǔn)直器，從單光纖準(zhǔn)直器發(fā)出，通過膜片載物臺(tái)上的小孔，入射到WDM膜片的下表面，產(chǎn)生反射光；反射光沿入射光路返回，入射到單光纖準(zhǔn)直器，從單光纖準(zhǔn)直器出來進(jìn)入耦合器，耦合器接收到的反射光接入光譜測試分析設(shè)備，即可對(duì)膜片進(jìn)行反射光譜分析。本實(shí)用新型具有下述的有益效果(1)通過把雙光纖準(zhǔn)直器更改為單光纖準(zhǔn)直器，入射光和反射光均通過同一光纖， 保證了反射光完全沿入射光路返回，所以測試的反射光譜曲線更準(zhǔn)確；(2)在WDM膜片反射光譜測試中，需要保證WDM膜片下表面與入射光路徑盡量垂直，越接近90度，反射光譜的測試結(jié)果越準(zhǔn)確；本發(fā)明中通過把雙光纖改為單光纖，在調(diào)節(jié)保證入射光路與WDM膜片下表面垂直的過程中，更容易保證垂直，所以測試反射光譜曲線重復(fù)性更好。

[0011]利用附圖對(duì)本實(shí)用新型作進(jìn)一步說明，但附圖中的實(shí)施例不構(gòu)成對(duì)本實(shí)用新型的任何限制，對(duì)于本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員，在不付出創(chuàng)造性勞動(dòng)的前提下，還可以根據(jù)以下附圖獲得其它的附圖。圖1是光學(xué)膜片光學(xué)性能測試臺(tái)的結(jié)構(gòu)示意圖。
具體實(shí)施方式
以下結(jié)合附圖對(duì)本實(shí)用新型的具體實(shí)施方式
作進(jìn)一步詳細(xì)的描述。如圖1所示，本實(shí)用新型所述的光學(xué)膜片光學(xué)性能測試臺(tái)，包括膜片載物臺(tái)1，膜片載物臺(tái)ι上設(shè)有可放置待測膜片的小孔2，在所述的膜片載物臺(tái)1的下方設(shè)有對(duì)準(zhǔn)小孔2 的單光纖準(zhǔn)直器3，所述的單光纖準(zhǔn)直器3裝設(shè)在準(zhǔn)直器調(diào)節(jié)架7上，準(zhǔn)直器調(diào)節(jié)架7可為三維調(diào)節(jié)架，用以調(diào)節(jié)單光纖準(zhǔn)直器3的位置。所述的單光纖準(zhǔn)直器3的下方設(shè)有耦合器 4，耦合器4用于分離入射光和反射光。耦合器4的下部接有光源5和光譜測試分析設(shè)備6。本實(shí)用新型使用時(shí)，WDM膜片放置在小孔2上，光從光源5發(fā)出，通過光纖，進(jìn)入耦合器4，再從耦合器2發(fā)出，進(jìn)入單光纖準(zhǔn)直器3，從單光纖準(zhǔn)直器3發(fā)出，通過膜片載物臺(tái) 1上的小孔2，入射到WDM膜片的下表面，產(chǎn)生反射光；反射光沿入射光路返回，入射到單光纖準(zhǔn)直器3，從單光纖準(zhǔn)直器3出來進(jìn)入耦合器4，耦合器4接收到的反射光接入光譜測試分析設(shè)備6，即可對(duì)膜片進(jìn)行反射光譜分析。總之，本實(shí)用新型雖然例舉了上述優(yōu)選實(shí)施方式，但是應(yīng)該說明，雖然本領(lǐng)域的技術(shù)人員可以進(jìn)行各種變化和改型，除非這樣的變化和改型偏離了本實(shí)用新型的范圍，否則都應(yīng)該包括在本實(shí)用新型的保護(hù)范圍內(nèi)。
權(quán)利要求1.一種光學(xué)膜片光學(xué)性能測試臺(tái)，包括膜片載物臺(tái)(1)，膜片載物臺(tái)(1)上設(shè)有可放置待測膜片的小孔(2)，其特征在于在所述的膜片載物臺(tái)(1)的下方設(shè)有對(duì)準(zhǔn)小孔(2)的單光纖準(zhǔn)直器(3)，單光纖準(zhǔn)直器(3)的下方設(shè)有耦合器(4)，耦合器(4)的下部接有光源(5) 和光譜測試分析設(shè)備(6)。
2.按照權(quán)利要求1所述的光學(xué)膜片光學(xué)性能測試臺(tái)，其特征在于所述的單光纖準(zhǔn)直器(3 )裝設(shè)在一準(zhǔn)直器調(diào)節(jié)架(7 )上。
專利摘要本實(shí)用新型公開了一種光學(xué)膜片光學(xué)性能測試臺(tái)。光學(xué)膜片光學(xué)性能測試臺(tái)，包括膜片載物臺(tái)(1)，膜片載物臺(tái)(1)上設(shè)有可放置待測膜片的小孔(2)，其特征在于在所述的膜片載物臺(tái)(1)的下方設(shè)有對(duì)準(zhǔn)小孔(2)的單光纖準(zhǔn)直器(3)，單光纖準(zhǔn)直器(3)的下方設(shè)有耦合器(4)，耦合器(4)的下部接有光源(5)和光譜測試分析設(shè)備(6)。本實(shí)用新型能保證反射光完全沿入射光路返回，容易保證垂直，重復(fù)性更好、測試的光學(xué)曲線更準(zhǔn)確。
文檔編號(hào)G01M11/02GK202216828SQ201120299230
公開日2012年5月9日 申請日期2011年8月17日 優(yōu)先權(quán)日2011年8月17日
發(fā)明者范衛(wèi)星, 董興華, 趙勝平 申請人:奧普鍍膜技術(shù)(廣州)有限公司