專利名稱：一種組合式全電波暗室的制作方法
技術領域：
本實用新型涉及一種組合式全電波暗室。
背景技術：
在EMC(Electro Magnetic Compatibility，電磁兼容)測試實驗中，往往要求待測設備或系統(tǒng)在其電磁環(huán)境中符合一定的測試條件，并且不會給環(huán)境中的任何其他設備造成無法容忍的電磁干擾。為了滿足上述需要，技術人員設計出一種全電波暗室，該全電波暗室是鋪設有吸波材料的封閉式屏蔽室，其中的吸波材料用來降低屏蔽室的內表面的電波反射?，F有技術中，全電波暗室包括一扇門，供測試人員進出和搬運測試設備，諸如測試平臺和天線元件等預先放入該全電波暗室內。但是，全電波暗室中經常需要做不同的電磁測試項目，比如，RF周檢測項目，Throughout項目、RS測試和UFA場地均勻性檢驗等。一般來說，上述每項測試都對全電波暗室內的測試平臺與天線元件之間的間隔距離有著明確的要求，例如，RF周檢測要求測試平臺的正中心距該天線元件的前端3米，而Throughput要求測試平臺的正中心距該天線元件的前端1米，以及RS測試要求測試平臺的前邊沿距該天線元件的前端3米，因而進行不同的測試項目時，需要移動天線架和調整天線的高度，以符合各自的測試距離要求。圖IA示出現有技術中的全電波暗室的外部輪廓示意圖，以及圖IB示出圖IA中的全電波暗室的內部測試示意圖。參照圖1A，該全電波暗室包括一進出門104、兩個轉接板 100和102。如前所述，進口門104用于測試人員進出和搬運測試設備，諸如測試平臺和天線元件等預先放入該全電波暗室內，此外，當采用如下方式，即通過挪動暗室內部的地面所鋪設的吸波材料來配合移動天線元件時，在每次測試前均需要重新對全電波暗室內的場地均勻性進行校驗，這也需要測試人員進入暗室內進行人工處理。另外，轉接板100和102分別位于全電波暗室的屏蔽墻，該屏蔽墻由吸波材料和/或屏蔽材料構成。從圖IA可以看出，轉接板100和102各自設置于屏蔽墻的不同位置處，這是由于，移動天線和調整天線架以便使暗室內的測試平臺與天線元件間保持一預設的間隔距離 (諸如1米或3米)時，來自天線架的信號線到轉接板100的長度不同于該信號線到轉接板 102的長度，為了減少信號在電纜上的損耗并節(jié)約連接線成本，一般將天線架的信號線電性連接至相對較近的轉接板100或102。然而，如上所述，由于全電波暗室的地面鋪設有吸波材料，為了合理地調整天線和天線架的位置，首先必須挪動對應位置的吸波材料，為天線和天線架的挪動騰出一定的空間，這勢必是造成整個暗室內的場地均勻性發(fā)生變化，影響電磁測試的測試效率。進一步結合圖1B，不同的測試項目對應于測試轉桌106與天線元件108之間的預設距離，并且在全電波暗室的地面鋪設有吸波材料110，用于吸收該全電波暗室內的電波反射。例如，RF周檢測要求測試平臺的正中心距該天線元件的前端為3米，而Throughput要求測試平臺的正中心距該天線元件的前端為1米，以及RS測試要求測試平臺的前邊沿距該天線元件的前端為3米，并且UFA場地均勻性校驗，當用到16點場強法時，要求測試轉桌前邊沿距離天線元件前端的長度為3米。上述測試項目均需要調整天線元件的架設位置，因而會頻繁地對全電波暗室內進行場地均勻性校驗，降低測試效率。有鑒于此，如何設計一種組合式全電波暗室，無需通過挪動暗室內的地面上所鋪設的吸波材料來調整測試平臺與天線元件的相對位置，并且在同一暗室中完成不同的測試項目，是業(yè)內相關技術人員面臨的一項課題。

實用新型內容針對現有技術中的上述缺陷，本實用新型提供了一種組合式全電波暗室。依據本實用新型的一個方面，提供了一種組合式全電波暗室，所述組合式全電波暗室的地面上鋪設有第一吸波材料，且于所述鋪設有第一吸波材料的地面上配置有一測試轉桌，所述測試轉桌上放置有待測元件，所述組合式全電波暗室的一第一屏蔽墻上開設有多個框口，該組合式全電波暗室包括多對第一導軌和多個推拉模組。其中，多對第一導軌與所述多個框口逐一對應，配置于所述鋪設有第一吸波材料的地面上，沿所述第一屏蔽墻朝著與其垂直的方向延伸。多個推拉模組與所述多個框口逐一對應，每一推拉模組通過相對應的所述第一導軌推進或拉出于所述組合式全電波暗室，其中每一所述推拉模組上架設有一測試天線，每一測試天線與所述測試轉桌保持一預設距離，且各預設距離不同。優(yōu)選地，每一所述推拉模組還包括一第一板體和一第二板體，其中，所述第一板體平行于所述第一屏蔽墻設置，與所述多個框口中的一個框口相對應。所述第二板體垂直連接于所述第一板體，所述第二板體上鋪設有第二吸波材料，其中所述第二板體底部兩側各裝設有一滑輪，并與所述多對第一導軌中的一對導軌相對應，所述推拉模組通過所述滑輪與所述多對導軌的配合推進或拉出于所述組合式全電波暗室。 在一實施例中，所述第一板體與所述第一屏蔽墻中對應的框口的上方接觸區(qū)域填充有金屬銅片。在另一實施例中，所述第二吸波材料的厚度小于所述第一吸波材料的厚度，當所述推拉模組推進所述組合式全電波暗室時，所述第二吸波材料緊密結合于所述第一吸波材料，并與所述第一吸波材料的上表面平齊。優(yōu)選地，所述第一板體的外側還具有一推拉手柄，方便將所述推拉模組推進或拉出于所述組合式全電波暗室。優(yōu)選地，所述第一板體上還裝設有一轉接板，所述轉接板的兩側具有插接端口，且所述插接端口外漏于所述第一板體，所述測量天線及外部連接線插接于所述轉接板兩側的插接端口，達成信號傳輸。優(yōu)選地，所述組合式全電波暗室還具有一操作門，方便測試人員進出暗室。此外， 所述操作門位于所述第一屏蔽墻上。優(yōu)選地，所述框口和所述推拉模組各為2個，所述第一導軌為2對，以及所述2個推拉模組上的測試天線分別與所述測試轉桌保持一第一預設距離和不同于所述第一預設距離的一第二預設距離。進一步，所述第一預設距離為3米，以及所述第二預設距離為1米。采用本實用新型的組合式全電波暗室，設置多個推拉模組與第一屏蔽墻上開設的多個框口相對應，每一推拉模組通過相對應的第一導軌推進或拉出于所述組合式全電波暗室，并且所述每一推拉模組上架設的測試天線與所述組合式全電波暗室的地面上配置的測試轉桌保持不同的預設距離，從而在同一全電波暗室中無需挪動地面上的吸波材料即可完成不同的測試項目。此外，所述第一板體上還裝設有一轉接板，所述轉接板兩側的插接端口外漏于所述第一板體，所述測量天線及外部連接線插接于所述轉接板兩側的插接端口，達成信號傳輸，可有效地減少連接線的長度，在節(jié)約導線成本的同時還可提高其使用壽命。

讀者在參照附圖閱讀了本實用新型的具體實施方式
以后，將會更清楚地了解本實用新型的各個方面。其中，圖IA示出現有技術中的全電波暗室的外部輪廓示意圖；圖IB示出圖IA中的全電波暗室的內部測試示意圖；圖2A示出依據本實用新型一優(yōu)選實施例的組合式全電波暗室的外部輪廓示意圖；以及圖2B示出圖2A中的組合式全電波暗室的推拉模組的側面剖視圖。
具體實施方式
下面參照附圖，對本實用新型的具體實施方式
作進一步的詳細描述。本領域的普通技術人員應當理解，下文中的實施例只是對本實用新型的技術方案進行示意性說明，并且優(yōu)選地介紹本實用新型的具體實施方式
和本實用新型的組合式全電波暗室的結構，但本實用新型并不只局限于此。圖2A示出依據本實用新型一優(yōu)選實施例的組合式全電波暗室的外部輪廓示意圖，以及圖2B示出圖2A中的組合式全電波暗室的推拉模組的側面剖視圖。結合圖2A和圖 2B，本實用新型的組合式全電腦暗室的地面上鋪設有第一吸波材料217，并且，在鋪設有該第一吸波材料217的地面上配置有一測試轉桌(未示出)，以及該測試轉桌上放置有待測元件(未示出)。此外，該組合式全電波暗室的一第一屏蔽墻2上開設有多個框口 26，并且所述第一屏蔽墻2可由例如屏蔽材料、鐵氧體、吸波泡棉以及它們的任意組合構成。需要特別指出的是，該組合式全電波暗室還包括多對第一導軌215和多個推拉模組，如推拉模組20和推拉模組22。具體地，多對第一導軌215與所述多個框口 26逐一對應，配置于所述鋪設有第一吸波材料217的地面上，沿所述第一屏蔽墻2朝著與其垂直的方向延伸。以推拉模組20為例，推拉模組20與所述多個框口中的相應框口 26對應，并且推拉模組20通過相對應的所述第一導軌215推進或拉出于所述組合式全電波暗室，其中推拉模組20上架設有一測試天線207，每一測試天線207與所述測試轉桌保持一預設距離，且各預設距離不同。優(yōu)選地，所述框口的數量和所述推拉模組的數量各為2個，所述第一導軌為 2對，以及所述2個推拉模組上的測試天線分別與所述測試轉桌保持一第一預設距離和不同于所述第一預設距離的一第二預設距離。進一步，例如，所述第一預設距離設置為3米， 以及所述第二預設距離設置為1米，因而通過將測試天線與所述組合式全電波暗室的地面上配置的測試轉桌設置為不同的預設距離，從而能夠在同一組合式全電波暗室中無需挪動地面上的第一吸波材料217即可完成不同的測試項目。本領域的技術人員應當理解，雖然該優(yōu)選實施例描述了組合式全電波暗室包括兩個推拉模組20和22的情形，但本實用新型并不只局限于此，例如，該組合式全電波暗室還可包括單個的推拉模組，或者兩個以上的推拉模組。在一優(yōu)選實施例中，所述推拉模組20還包括一第一板體201和一第二板體203。 其中，所述推拉模組20的第一板體201平行于所述第一屏蔽墻2而設置，與所述多個框口中的一個框口 26相對應。所述推拉模組20的第二板體203垂直連接于所述第一板體201， 所述第二板體203上鋪設有第二吸波材料205，其中所述第二板體203底部兩側各裝設有一滑輪213，并與所述多對第一導軌中的一對導軌215相對應，所述推拉模組20通過所述滑輪 213與所述一對導軌215的配合推進或拉出于所述組合式全電波暗室。在一實施例中，所述第一板體201與所述第一屏蔽墻2中對應的框口 26的上方接觸區(qū)域填充有金屬銅片，以便推拉模組20與所述第一屏蔽墻2的上方接觸區(qū)域的門縫隙對電磁測試不造成影響。在另一實施例中，所述第二吸波材料205的厚度小于所述第一吸波材料217的厚度，當所述推拉模組20推進所述組合式全電波暗室時，所述第二吸波材料205緊密結合于所述第一吸波材料217，并與所述第一吸波材料217的上表面平齊。如此一來，測試人員在每次進行不同測試項目的時候，只需將推拉模組20拉出或推進所述組合式全電波暗室，而無需挪動組合式全電波暗室內的地面上的第一吸波材料217，保證了場地均勻性不會被破壞，從而能夠避免每次測試前都要花費大量時間來進行場地均勻性校驗。優(yōu)選地，所述第一板體201的外側還具有一推拉手柄209 (或推拉模組22所對應的推拉手柄223)，方便將所述推拉模組20推進或拉出于所述組合式全電波暗室。優(yōu)選地，所述第一板體201上還裝設有一轉接板211 (或推拉模組22所對應的轉接板221)，所述轉接板211的兩側具有插接端口(未示出)，且所述插接端口外漏于所述第一板體201，所述測量天線207及外部連接線插接于所述轉接板211兩側的插接端口，達成信號傳輸。優(yōu)選地，所述組合式全電波暗室還具有一操作門24，方便測試人員進出暗室，以進行更換測試零部件等維護工作。例如，所述操作門24可設置與所開設的多個框口 26位于同一面屏蔽墻，即，所述操作門24也位于所述第一屏蔽墻2。采用本實用新型的組合式全電波暗室，設置多個推拉模組與第一屏蔽墻上開設的多個框口相對應，每一推拉模組通過相對應的第一導軌推進或拉出于所述組合式全電波暗室，并且所述每一推拉模組上架設的測試天線與所述組合式全電波暗室的地面上配置的測試轉桌保持不同的預設距離，從而在同一全電波暗室中無需挪動地面上的吸波材料即可完成不同的測試項目。此外，所述第一板體上還裝設有一轉接板，所述轉接板兩側的插接端口外漏于所述第一板體，所述測量天線及外部連接線插接于所述轉接板兩側的插接端口，達成信號傳輸，可有效地減少連接線的長度，在節(jié)約導線成本的同時還可提高其使用壽命。上文中，參照附圖描述了本實用新型的具體實施方式
。但是，本領域中的普通技術人員能夠理解，在不偏離本實用新型的精神和范圍的情況下，還可以對本實用新型的具體實施方式
作各種變更和替換。這些變更和替換都落在本實用新型權利要求書所限定的范圍內。
權利要求1.一種組合式全電波暗室，所述組合式全電波暗室的地面上鋪設有第一吸波材料，且于所述鋪設有第一吸波材料的地面上配置有一測試轉桌，所述測試轉桌上放置有待測元件，所述組合式全電波暗室的一第一屏蔽墻上開設有多個框口，其特征在于，該組合式全電波暗室包括多對第一導軌，與所述多個框口逐一對應，配置于所述鋪設有第一吸波材料的地面上， 沿所述第一屏蔽墻朝著與其垂直的方向延伸；以及多個推拉模組，與所述多個框口逐一對應，每一推拉模組通過相對應的所述第一導軌推進或拉出于所述組合式全電波暗室，其中每一所述推拉模組上架設有一測試天線，每一測試天線與所述測試轉桌保持一預設距離，且各預設距離不同。
2.如權利要求1所述的組合式全電波暗室，其特征在于，每一所述推拉模組還包括一第一板體，平行于所述第一屏蔽墻設置，與所述多個框口中的一個框口相對應；一第二板體，垂直連接于所述第一板體，所述第二板體上鋪設有第二吸波材料，其中所述第二板體底部兩側各裝設有一滑輪，并與所述多對第一導軌中的一對導軌相對應，所述推拉模組通過所述滑輪與所述多對導軌的配合推進或拉出于所述組合式全電波暗室。
3.如權利要求2所述的組合式全電波暗室，其特征在于，所述第一板體與所述第一屏蔽墻中對應的框口的上方接觸區(qū)域填充有金屬銅片。
4.如權利要求2所述的組合式全電波暗室，其特征在于，所述第二吸波材料的厚度小于所述第一吸波材料的厚度，當所述推拉模組推進所述組合式全電波暗室時，所述第二吸波材料緊密結合于所述第一吸波材料，并與所述第一吸波材料的上表面平齊。
5.如權利要求2所述的組合式全電波暗室，其特征在于，所述第一板體的外側還具有一推拉手柄，方便將所述推拉模組推進或拉出于所述組合式全電波暗室。
6.如權利要求2所述的組合式全電波暗室，其特征在于，所述第一板體上還裝設有一轉接板，所述轉接板的兩側具有插接端口，且所述插接端口外漏于所述第一板體，所述測量天線及外部連接線插接于所述轉接板兩側的插接端口，達成信號傳輸。
7.如權利要求1所述的組合式全電波暗室，其特征在于，所述組合式全電波暗室還具有一操作門，方便測試人員進出暗室。
8.如權利要求7所述的組合式全電波暗室，其特征在于，所述操作門位于所述第一屏蔽墻上。
9.如權利要求1所述的組合式全電波暗室，其特征在于，所述框口和所述推拉模組各為2個，所述第一導軌為2對，以及所述2個推拉模組上的測試天線分別與所述測試轉桌保持一第一預設距離和不同于所述第一預設距離的一第二預設距離。
10.如權利要求9所述的組合式全電波暗室，其特征在于，所述第一預設距離為3米，以及所述第二預設距離為1米。
專利摘要本實用新型提供了一種組合式全電波暗室，于鋪設有第一吸波材料的地面上配置有一測試轉桌，在第一屏蔽墻上開設有多個框口，其中，多對第一導軌與多個框口對應，沿第一屏蔽墻朝著與其垂直的方向延伸；多個推拉模組與多個框口對應，每一推拉模組通過相應的第一導軌推進或拉出于所述暗室，其中每一推拉模組上架設有一測試天線，每一測試天線與測試轉桌保持一預設距離，且各預設距離不同。采用本實用新型，每一推拉模組通過相應的第一導軌推進或拉出于組合式全電波暗室，并且每一推拉模組上架設的測試天線與組合式全電波暗室的地面上配置的測試轉桌保持不同的預設距離，從而在同一全電波暗室中無需挪動地面上的吸波材料即可完成不同的測試項目。
文檔編號G01R1/02GK202083751SQ201120154620
公開日2011年12月21日 申請日期2011年5月16日 優(yōu)先權日2011年5月16日
發(fā)明者丁瓊華, 劉宏徹, 徐昭娣, 楊麗媛, 韓兆祥 申請人:英業(yè)達股份有限公司, 英順達科技有限公司