專利名稱：用于測量容納在特別是消毒用的過程容器中的流體的測量變量的探頭系統(tǒng)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種用于測量容納在特別是消毒用的過程容器中的流體的測量變量 的探頭系統(tǒng)。
背景技術(shù)：
過程技術(shù)中用于測量介質(zhì)例如流體、特別是液體的物理或者化學(xué)測量變量的探頭 系統(tǒng)的應(yīng)用范圍是眾多的。例如，藥品或者食品加工中的消毒溶液的制造要求使用用于監(jiān) 控產(chǎn)品或者過程的測量探頭。測量探頭能夠是PH測量探頭、導(dǎo)電測量探頭、用于確定包含 在要監(jiān)控的介質(zhì)中的物質(zhì)例如02、C02、特定離子類型、有機(jī)化合物物質(zhì)的濃度的光學(xué)或電化 學(xué)測量探頭。根據(jù)現(xiàn)有技術(shù)，進(jìn)行流體例如化學(xué)過程的產(chǎn)品的在線測量是已知的，在此情形下， 使用具有保持有測量探頭的軸向可移動浸入管的探頭系統(tǒng)。這種探頭系統(tǒng)還被稱作“可縮 進(jìn)組件”。這些可縮進(jìn)組件緊固在過程容器上、例如緊固在輸送通過測量來監(jiān)控的流體的管 道上，并且包括處理腔室，測量探頭能夠在用于校準(zhǔn)或者清洗和/或漂洗目的的操作期間 暫時地利用浸入管而移動到該處理腔室中，并且在其中與校準(zhǔn)液體和/或與用于清潔的清 洗、和/或漂洗介質(zhì)形成接觸。當(dāng)校準(zhǔn)或者清洗和/或漂洗程序完成時，測量探頭此后能夠 移回要監(jiān)控的流體中，從而繼續(xù)進(jìn)行在線測量。在這種情形下，借助于密封件抵消了校準(zhǔn)液 體對于被監(jiān)控流體的污染或者相反抵消了監(jiān)控流體對于校準(zhǔn)液體的污染，所述密封件相對 于彼此地密封處理腔室和過程容器。關(guān)于用于消毒過程中使用的可縮進(jìn)組件，已經(jīng)提出了提供第二處理腔室。因此，例 如在DE 38 20 405 C2中描述了一種可縮進(jìn)組件，該可縮進(jìn)組件具有外罩，該外罩帶有能夠 連接到反應(yīng)器皿的外罩噴嘴，其中，在該外罩中，存在帶有測得數(shù)值傳感探頭的浸入管，該 傳感探頭的測量頭被帶有通道的籠罩包圍。浸入管能夠離開外罩噴嘴地從測量位置軸向行 進(jìn)到外罩中的縮進(jìn)休止位置中，并且再次返回測量位置中。在休止位置中，利用閉合體密封 外罩噴嘴的開口。在休止位置中，面向反應(yīng)器皿的、帶有探頭的測量頭的、浸入管的前部處 于外罩的第一清洗和/或漂洗腔室中，該腔室具有進(jìn)口和排放口。第二漂洗腔室與外罩中 的漂洗腔室相關(guān)聯(lián)，第二漂洗腔室進(jìn)一步遠(yuǎn)離反應(yīng)器皿并且具有其自身的進(jìn)口和其自身的 排放口。在休止位置中，通過輸送清洗、漂洗或者消毒介質(zhì)通過第一和第二漂洗腔室，能夠 進(jìn)行測量探頭和浸入管的部分的清洗和/或漂洗和/或消毒。以此方式，浸入管和/或探 頭的那些部分也能夠得到清潔和消毒，所述部分在探頭向外行進(jìn)到測量位置中的情形下進(jìn) 入第一漂洗腔室中。因此，應(yīng)該防止浸入管和探頭的未被清洗或者漂洗和消毒的部分進(jìn)入 在給定情形下容納反應(yīng)器器皿的介質(zhì)的漂洗腔室中并且引起污染。第二漂洗腔室的排放口經(jīng)由液體輸送線路與第一漂洗腔室的進(jìn)口連接，從而被引 入第二漂洗腔室中的清洗、漂洗或者消毒介質(zhì)經(jīng)由液體輸送線路和第一清洗和/或漂洗腔 室的進(jìn)口進(jìn)一步進(jìn)入第一清洗和/或漂洗腔室中，并且從那里經(jīng)由第一漂洗腔室的排放口進(jìn)給到冷凝物排放口或者清洗或者漂洗排放口。然而，這個構(gòu)造并不允許僅向單一漂洗腔 室供應(yīng)液體。 在DE 38 20 405 C2中描述的可縮進(jìn)組件的情形下，在第一和第二漂洗腔室之間 布置密封件，該密封件相對于彼此密封該兩個清洗和/或漂洗腔室。在這個密封件的區(qū)域 中，沒有保證浸入管的任何充分的清潔或者消毒。特別地，密封件自身也不能被充分地清潔 或者消毒。還在德國專利申請DE 10 2005 051 279 Al中描述了一種用于在消毒過程中使用 的可縮進(jìn)組件。這種可縮進(jìn)組件包括外罩，該外罩具有用于容納測量探頭的空間和用于容 納第一流體例如校準(zhǔn)流體或者清洗和/或漂洗流體的第一腔室。第一腔室與用于容納探頭 的空間連通。該外罩進(jìn)而包括連接部，利用該連接部，外罩能夠與容器連接或者與容器連 接，該容器用于容納一種介質(zhì)，將利用探頭測量該介質(zhì)的性質(zhì)。在該外罩中，至少存在用于 容納第二流體的第二腔室，相對于第一流體并且還相對于該介質(zhì)，該第二流體應(yīng)該是非關(guān) 鍵性的。第二流體的一個示例是消毒水。第二腔室布置在第一腔室和該外罩的連接部之間。 在不良密封件的情形下，所以應(yīng)該降低該介質(zhì)被第一流體污染還有第一流體被該介質(zhì)污染 的可能性。探頭被容納于浸入管中，在浸入管中設(shè)置開口，以使得介質(zhì)或者漂洗液體到達(dá)測 量頭。探頭能夠在測量位置和/或漂洗位置之間在外罩內(nèi)軸向地移動，在測量位置中，使得 其測量頭圍繞傳感器的探頭向內(nèi)凸出到介質(zhì)中，在清洗和/或漂洗位置中，測量頭布置在 第一漂洗腔室內(nèi)。為了還在清洗和/或漂洗位置中保證相對于介質(zhì)密封布置在第一漂洗腔 室和介質(zhì)之間的第二漂洗腔室，在探頭的前端和探頭的測量頭的區(qū)域中的開口之間的距離 應(yīng)該大于第二漂洗腔室的軸向長度，即大于兩個密封件之間的距離，該兩個密封件在一方 面針對介質(zhì)并且在另一方面針對第一漂洗腔室密封第二漂洗腔室。結(jié)果，這使得在測量操 作中對于測量頭在介質(zhì)中的特定浸入深度而言，浸入管的沖程應(yīng)該得以產(chǎn)生，利用第二漂 洗腔室的軸向長度放大了所述沖程。另外地，因此，以這個長度超過實際測量頭的位置的浸 入管的前端要求相應(yīng)地多的空間，從而可縮進(jìn)組件能夠僅應(yīng)用于具有特定最小容積的過程 容器。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的在于提供一種具有開口描述的類型的探頭系統(tǒng)，在緊固于過程容器 上的狀態(tài)中，該探頭系統(tǒng)允許測量探頭的校準(zhǔn)和/或浸入管和測量探頭的充分消毒。利用一種用于測量容納在過程容器中的流體、特別是液體的測量變量的探頭系統(tǒng) 實現(xiàn)了這個目的，其中該探頭系統(tǒng)包括探頭本體，該探頭本體能夠利用過程連接件連接到過程容器；浸入管，該浸入管能夠在測量位置與至少兩個不同的處理位置之間在探頭本體的 引導(dǎo)通道中軸向移位，該浸入管在其能夠浸入在流體中的前端上具有保護(hù)缸筒；測量探頭，該測量探頭保持在浸入管中，該測量探頭具有測量頭，其中該測量頭布 置在該保護(hù)缸筒的具有開口的區(qū)域內(nèi)；第一處理腔室和第二處理腔室，該第一處理腔形成在引導(dǎo)通道與浸入管之間，該第二處理腔室形成在引導(dǎo)通道與浸入管之間并且在第一處理腔室的背離過程連接件的一 側(cè)上鄰接第一處理腔室；和密 封件，該密封件布置在第一和第二處理腔室之間；其中該浸入管具有第一部分和第二部分，該第一部分具有第一外徑，該第二部分 跟隨第一部分并且具有小于第一外徑的第二外徑，使得能夠通過軸向移位浸入管來打開布 置在第一處理腔室與第二處理腔室之間的密封件。該密封件實現(xiàn)了該兩個處理腔室相互間的隔離，從而在每一種情形下，能夠利用 流體各自地清洗或者漂洗處理腔室。特別地，在其中測量探頭的測量頭布置在第一處理腔 室內(nèi)的處理位置中，能夠利用校準(zhǔn)液體清洗或者漂洗第一處理腔室，校準(zhǔn)液體還經(jīng)由在浸 入管中形成的保護(hù)缸筒的清洗和/或漂洗開口與測量頭形成接觸。以此方式，測量探頭的 校準(zhǔn)是可能的。通過打開布置在第一處理腔室與第二處理腔室之間的密封件，該兩個處理 腔室被相互連接。通過將漂洗或者消毒流體供應(yīng)到已連接的處理腔室中，然后能夠清潔或 者消毒布置在該兩個腔室中的浸入管和測量探頭的所有的部分，甚至布置在密封件的區(qū)域 中的那些部分。然后已被打開的密封件也能夠得以消毒。該測量頭包括測量探頭的基本測量轉(zhuǎn)換器。例如，該測量頭能夠包括PH玻璃電極 的PH值敏感玻璃膜、離子選擇性電極的離子選擇性隔膜、ISFET傳感器的離子敏感半導(dǎo)體 電極、安培計傳感器的隔膜、溫度傳感器、感應(yīng)導(dǎo)電性傳感器的清洗和/或漂洗裝置、傳導(dǎo) 導(dǎo)電性傳感器或者壓力傳感器的電極裝置。該引導(dǎo)通道能夠包括具有不同截面的軸向部分。因此，能夠在引導(dǎo)通道和浸入管 之間形成第一處理腔室，其中在第一測量腔室的區(qū)域中的引導(dǎo)通道能夠包括變寬軸向部 分。還能夠在引導(dǎo)通道的至少局部截面變寬部分和浸入管之間形成第二處理腔室。在探頭系統(tǒng)的一個實施例中，浸入管的第二部分沿著前端的方向鄰接第一部分， 其中，在浸入管的第一處理位置中，該密封件相對于彼此地密封第一處理腔室和第二處理 腔室，并且在浸入管沿著背離過程連接件的方向軸向移位運(yùn)動到第二處理位置中的情形 下，密封件被打開，并且在第一和第二處理腔室之間形成流體通道。在第一處理位置中，同樣還在第二處理位置中，測量頭縮進(jìn)到探頭本體中，特別是 第一處理腔室中，并且第一處理腔室相對于過程容器得以密封。在測量位置中，浸入管沿著 過程容器的方向如此遠(yuǎn)地從探頭本體移動出來，使得測量頭布置在過程容器內(nèi)并且被浸入 其測量變量將被確定的流體中。該探頭系統(tǒng)能夠被置于第一處理位置中，在此情形下第一處理腔室相對于過程容 器并且相對于第二處理腔室得以密封。在這個比較小的空間內(nèi)，測量頭的清洗或者漂洗和/ 或測量探頭的校準(zhǔn)能夠發(fā)生，在此情形下，在每一種情形下，僅需要少量清洗和/或漂洗或 者校準(zhǔn)介質(zhì)。在浸入管沿著背離過程連接件的方向軸向移位的情形下，由于在浸入管的第 二部分中的更小的外徑，在第一和第二處理腔室之間的密封件被打開。因此，在浸入管或者 測量探頭的第二處理位置中，第一和第二處理腔室在起初密封位置處經(jīng)由在浸入管和引導(dǎo) 通道之間的間隙而被相互連接，從而能夠在其在第一和第二處理腔室內(nèi)布置的全部長度之 上向縮進(jìn)的浸入管供應(yīng)清洗和/或漂洗或者消毒介質(zhì)，而布置在該兩個腔室之間的密封件 不會妨礙浸入管的消毒或者清潔。而且，在這個位置中，還能夠清洗、或者漂洗或者消毒密 封件。
在一個實施例中，利用在引導(dǎo)通道內(nèi)布置的第一密封元件，例如，在環(huán)繞環(huán)形凹槽 內(nèi)布置的0形環(huán)或者成形密封件形成該密封件，其中在浸入管的第一處理位置中，第一密 封元件抵靠其具有第一外徑的第一部分。在第二處理位置中，在浸入管沿著背離過程連接 件的方向的軸向運(yùn)動的情形下，浸入管的第二部分被送到密封元件，從而在密封元件和浸 入管的第二部分之間，由于其相對于第一外徑更小的第二外徑，間隙得以打開，該間隙將第 一和第二處理腔室相互連接。進(jìn)而，該探頭系統(tǒng)能夠包括通向第一處理腔室中的至少兩條流體線路，其中一條 用作供應(yīng)線路并且另一條用作排放線路；以及通向第二處理腔室中的流體線路，該流體線 路選擇性地用作供應(yīng)線路或者排放線路。如果在浸入管的第一處理位置中將測量頭布置在 第一處理腔室中，則經(jīng)由通向第一處理腔室中的供應(yīng)線路，清洗、漂洗、消毒或者校準(zhǔn)介質(zhì) 能夠被引入第一處理腔室中，并且，然后經(jīng)由同樣地通向第一處理腔室中的排放線路而被 排出。優(yōu)選地，通向第一處理腔室中的流體線路體現(xiàn)為探頭本體內(nèi)的孔洞，并且相對于 探頭本體的縱向軸線或者浸入管的縱向軸線具有一定傾斜度。例如，孔洞軸線能夠與探頭 本體的縱向軸線形成20°到80°的角度，其中這種角度的頂點指向過程連接件。被以如此 方式傾斜的孔洞的定向允許到孔洞的清洗和/或漂洗連接的安設(shè)空間節(jié)約布置。通向第二處理腔室中的、選擇性地用作供應(yīng)線路或者排放線路的流體線路優(yōu)選是 通向第二處理腔室中的唯一流體線路。能夠同樣地被體現(xiàn)為在探頭本體內(nèi)設(shè)置并且相對于 浸入管的軸線具有一定傾斜度的孔洞。例如，流體線路的孔洞軸線能夠與探頭本體的縱向 軸線形成20°到80°的角度，其中這種角度的頂點遠(yuǎn)離過程連接件地指向。通向第一處理腔室中的供應(yīng)線路和/或排放線路能夠利用閥門關(guān)閉。在這種情形 下，例如當(dāng)浸入管被移動到第二處理位置中時，經(jīng)由電子控制單元，兩條流體線路之一的閥 門能夠被自動地關(guān)閉，電子控制單元還控制探頭系統(tǒng)的浸入管運(yùn)動。以此方式，清洗和/或 漂洗液體或者消毒介質(zhì)能夠經(jīng)由通向第二處理腔室中的流體線路而被引入，并且然后經(jīng)由 通向第一處理腔室中的、相應(yīng)地未被關(guān)閉的流體線路而被排出?？商娲兀€經(jīng)由未利用閥 門關(guān)閉的流體線路，清洗和/或漂洗液體或者消毒介質(zhì)能夠被引入第一處理腔室中并且經(jīng) 由通向第二處理腔室中的流體線路而被排出。在該實施例中，與根據(jù)現(xiàn)有技術(shù)已知的可縮進(jìn)組件相比，用于校準(zhǔn)、清洗、漂洗和 消毒介質(zhì)的供應(yīng)和排放線路僅需要三個開口，這簡化了探頭系統(tǒng)的總體結(jié)構(gòu)。 在另外的實施例中，通向第一和第二處理腔室中的一些或者所有的流體線路設(shè)有 用于清洗、漂洗、校準(zhǔn)和/或消毒介質(zhì)的一個或者多個外部蓄存器的連接的連接噴嘴，其中 所有的連接噴嘴布置于并非在探頭本體的縱向軸線上延伸而是然而與之平行的通過探頭 本體的假想縱向截平面的一側(cè)上。這具有以下優(yōu)點，即，能夠從探頭系統(tǒng)的單側(cè)達(dá)到連接噴 嘴，從而相對側(cè)自由地保持作為安設(shè)空間。在探頭系統(tǒng)的另外的實施例中，在第一處理腔室的面向過程連接件的一側(cè)上布置 第二密封件，當(dāng)浸入管處于第二處理位置中時，該第二密封件相對于過程容器密封第一處 理腔室?？蛇x地，能夠如此選擇第一處理位置，使得當(dāng)浸入管處于第一處理位置中時，第二 密封還相對于過程容器密封第一處理腔室。能夠在探頭本體的過程連接件側(cè)端部區(qū)域上從 第二密封件隔開地布置第三密封件，當(dāng)浸入管處于測量位置或者第一處理位置中時，該第三密封件相對于過程容器密封引導(dǎo)通道和第一處理腔室。在第二和第三密封件之間的距離 優(yōu)選大于浸入管的清洗和/或漂洗開口的軸向直徑。在第一處理腔室和測量流體之間兩個密封件處于彼此后面的這種布置，具有兩個 優(yōu)點一方面，在浸入管的軸向運(yùn)動的情形下，在此情形下，清洗和/或漂洗開口在每一種 情形在密封件之一之上滑過，在每一種情形下，其他密封件用于在浸入管的每一個位置中 保證第一處理腔室相對于過程容器的密封。另一方面，以此方式，這兩個密封件在每一種情 形下 在彼此之后地得到清洗和/或漂洗和/或消毒，而不必從過程移除探頭系統(tǒng)。甚至能 夠在進(jìn)行加工時清洗和/或漂洗和/或消毒第二密封件。在有利于第二密封件的消毒的探頭系統(tǒng)的實施例的 情形下，浸入管的第三部分在 其背離浸入管的前端的一側(cè)上在浸入管的具有第一外徑的第一部分上鄰接，相對于第一外 徑，該第三部分具有更小的第三外徑，其中該第三外徑特別與第二外徑即浸入管的第二部 分的外徑一樣大，從而，通過浸入管沿著過程連接件的方向到測量位置中的軸向移位，第二 密封件打開。能夠例如利用布置在引導(dǎo)通道內(nèi)的第二密封元件例如布置在環(huán)形凹槽中的0形 環(huán)或者成形密封件形成第二密封件，其中在第二處理位置中的密封元件抵靠浸入管的第一 部分，而在浸入管朝向過程連接件到浸入管的測量位置中的軸向運(yùn)動的情形下，在第二密 封元件和浸入管的第三部分之間，間隙打開，這使得經(jīng)由供應(yīng)線路供應(yīng)到第一處理腔室中 的液體能夠到達(dá)第二密封元件。以此方式，在測量探頭在過程容器中處于測量位置中并且被浸入要監(jiān)控的流體中 時，來自第一處理腔室的清洗、漂洗或者消毒介質(zhì)能夠經(jīng)由該間隙達(dá)到第二密封元件并且 從而使得能夠?qū)Φ诙芊庠M(jìn)行清洗、漂洗或者消毒。在第一處理腔室和測量流體之間，第三部分優(yōu)選具有大于在第二和第三密封件之 間即在處于彼此后面地布置的兩個密封件之間的軸向距離的軸向長度。浸入管的第四部分能夠在其背離前端的一側(cè)上鄰接浸入管的第三部分，第四部分 的外徑對應(yīng)于第一部分的外徑，并且因此大于第三部分的外徑。如果浸入管處于測量位置 中，則最靠近探頭本體的過程連接件側(cè)端部地在引導(dǎo)通道內(nèi)布置的第三密封元件抵靠浸入 管的第一部分。布置在第一和第二處理腔室之間的密封元件同時地抵靠浸入管的第四部 分，而在第二密封元件和浸入管的第三部分之間保持清洗、漂洗或者消毒介質(zhì)能夠達(dá)到的 間隙。通過在浸入管的這個位置中將清洗、漂洗或者消毒介質(zhì)供應(yīng)到第一處理腔室中，第一 處理腔室、第二密封元件和在浸入管的第三部分的區(qū)域中在浸入管和引導(dǎo)通道之間的間隙 能夠被清洗、漂洗和/或消毒。在探頭系統(tǒng)緊固于過程容器上時，在前描述的探頭系統(tǒng)允許在浸入管中保持的測 量探頭的大的數(shù)目的處理步驟。因此，用于操作浸入管能夠軸向移位到測量位置、第一處理 位置和第二處理位置中的這種探頭系統(tǒng)的可能的方法包括如下步驟-將浸入管移位到第二處理位置中，在第二處理位置中，第一和第二處理腔室之間 的密封件被打開，從而第一和第二處理腔室相互連接；_在浸入管處于第二處理位置中時，將測量探頭緊固在浸入管內(nèi)；以及該方法還包括以下步驟中的至少一個-在浸入管處于第二處理位置中時，將消毒介質(zhì)供應(yīng)到已連接的處理腔室中，并且消毒浸入管的處于第一和第二處理腔室內(nèi)的部分，且消毒能夠經(jīng)由浸入管的前端上的保護(hù) 缸筒內(nèi)的清洗和/或漂洗開口達(dá)到的測量探頭的測量頭；-在浸入管處于第一處理位置中時，在第一處理位置中第一和第二處理腔室相對 于彼此地密封，將消毒介質(zhì)供應(yīng)到第一處理腔室中，并且消毒浸入管的處于第一處理腔室 內(nèi)的部分，且消毒能夠經(jīng)由 在浸入管的前端上的保護(hù)缸筒內(nèi)的清洗和/或漂洗開口達(dá)到的 測量探頭的測量頭；-在浸入管處于第一處理位置中時，將清洗和/或漂洗液體供應(yīng)到第一處理腔室 中，并且清洗和/或漂洗浸入管的處于第一處理腔室內(nèi)的部分，且消毒能夠經(jīng)由在浸入管 的前端上的保護(hù)缸筒內(nèi)的清洗和/或漂洗開口達(dá)到的測量探頭的測量頭；-在浸入管處于第一處理位置中時，將校準(zhǔn)液體供應(yīng)到第一處理腔室中并且校準(zhǔn) 測量探頭，經(jīng)由浸入管的前端上的保護(hù)缸筒內(nèi)的清洗和/或漂洗開口向測量探頭的測量頭 供應(yīng)了校準(zhǔn)液體。能夠例如在進(jìn)行加工時，優(yōu)選在浸入管處于第二處理位置中時更換測量探頭，因 為在浸入管和引導(dǎo)通道并且由此還有第一和第二處理腔室之間的間隙在浸入管相對于過 程容器的每一個位置中得以密封。在第二處理位置中，浸入管和測量頭能夠被清洗、漂洗和消毒。在這種情形下，浸 入管的所有的部分被清洗、漂洗和消毒，所述部分處于相互連接的第一和第二處理腔室內(nèi)。在第一處理位置中，相對于過程容器以及還相對于第二處理腔室密封了第一處理 腔室。第一處理腔室形成用于清洗和/或漂洗介質(zhì)、消毒介質(zhì)和/或校準(zhǔn)介質(zhì)的供應(yīng)和排 放線路通向其中的、比較小的空間。因此，保證了涉及小的液體消耗量的、測量頭的集中清 洗和/或漂洗。因此，在這個處理位置中，優(yōu)選進(jìn)行測量探頭的校準(zhǔn)。如果浸入管處于測量位置中，則對于如下情形，S卩，浸入管的相對于第一外徑具有 更小外徑的第三外徑的第三部分在其背離浸入管的前端的一側(cè)處在浸入管的具有第一外 徑的第一部分上鄰接，從而通過浸入管到測量位置中的軸向移位打開第二密封件，能夠通 過將清洗、漂洗或者消毒介質(zhì)供應(yīng)到第一處理腔室中而清洗、漂洗和/或消毒第二密封件。當(dāng)前認(rèn)為有利于探頭系統(tǒng)的操作、特別是有利于啟用新的測量探頭的第一方法包 括如下步驟-在第二處理位置中定位浸入管，其中，在第二處理位置中，第一處理腔室與第二 處理腔室連接，第一處理腔室相對于過程容器密封，并且測量頭處于第一處理腔室內(nèi)；_將測量探頭緊固在浸入管內(nèi)；-沿著過程連接件的方向移位浸入管直至到達(dá)測量位置，其中，在浸入管的測量位 置中，測量頭處于過程容器內(nèi)，并且第一處理腔室相對于第二處理腔室被密封，并且在第一 處理腔室和相對于過程容器密封間隙的另外的密封件之間的區(qū)域中與引導(dǎo)通道和浸入管 之間的間隙連接；-將消毒介質(zhì)供應(yīng)到第一處理腔室中，并且消毒第一處理腔室、浸入管的布置在其 中的部分和與第一處理腔室連接的間隙；-沿著背離過程連接件的方向移位浸入管，直至到達(dá)第一處理位置，其中，在第一 處理位置中，第一處理腔室相對于第二處理腔室并且相對于過程容器被密封，并且測量頭 處于第一處理腔室內(nèi)；
-將消毒介 質(zhì)供應(yīng)到第一處理腔室中并且消毒測量頭和保護(hù)缸筒的圍繞布置在第 一處理腔室內(nèi)的測量頭的部分；-將消毒介質(zhì)供應(yīng)到過程容器中并且消毒過程容器和浸入管的與過程容器接觸的 前區(qū)域；-沿著背離過程連接件的方向移位浸入管，直至到達(dá)第二處理位置；_將消毒介質(zhì)供應(yīng)到過程容器中并且消毒過程容器和浸入管的與過程容器接觸 的前區(qū)域和引導(dǎo)通道的與通過將浸入管移位到第二處理位置中打開的過程容器接觸的部 分；-將消毒介質(zhì)供應(yīng)到相互連接的第一和第二處理腔室中，并且消毒浸入管的布置 在第一和第二處理腔室中的部分、測量頭和保護(hù)缸筒，以及通過將浸入管移位到第二處理 位置中打開的并且消毒介質(zhì)能夠達(dá)到的第一和第二處理腔室之間的密封件；-沿著過程連接件的方向?qū)⒔牍芤莆坏綔y量位置中；-利用測量探頭進(jìn)行測量?？蛇x地，在消毒步驟之后并且在將浸入管移位到測量位置中之前，浸入管能夠首 先被移位到第一處理位置中，校準(zhǔn)介質(zhì)被進(jìn)給到第一處理腔室中，并且進(jìn)行測量探頭的校 準(zhǔn)。當(dāng)前地認(rèn)為有利于探頭系統(tǒng)的操作，特別地有利于啟用新的測量探頭的第二方 法，包括如下步驟-在第二處理位置中定位浸入管，其中，在第二處理位置中，第一處理腔室與第二 處理腔室連接，第一處理腔室相對于過程容器密封，并且測量頭處于第一處理腔室內(nèi)；_將測量探頭緊固在浸入管內(nèi)；-將消毒介質(zhì)供應(yīng)到相互連接的第一和第二處理腔室中，并且消毒布置在第一和 第二處理腔室中的浸入管的部分、測量頭和保護(hù)缸筒，以及通過將浸入管移位到第二處理 位置中打開的并且消毒介質(zhì)能夠達(dá)到的第一和第二處理腔室之間的密封件；-將消毒介質(zhì)供應(yīng)到過程容器中，并且消毒過程容器和浸入管的與過程容器接觸 的前區(qū)域和引導(dǎo)通道的與通過將浸入管移位到第二處理位置中打開的過程容器接觸的部 分；-將浸入管移位到第一處理位置中，其中，在第一處理位置中，第一處理腔室相對 于第二處理腔室并且相對于過程容器密封，并且測量頭處于第一處理腔室內(nèi)；-將消毒介質(zhì)供應(yīng)到第一處理腔室中并且消毒浸入管的布置在第一處理腔室中的 部分和通過浸入管從第二處理位置到第一處理位置中的運(yùn)動打開的引導(dǎo)通道的部分；-將消毒介質(zhì)供應(yīng)到過程容器中，并且消毒過程容器和浸入管的與過程容器接觸 的前區(qū)域和保護(hù)缸筒的與過程容器接觸的區(qū)域；-沿著過程連接件的方向?qū)⒔牍芤莆坏綔y量位置中；并且-利用測量探頭進(jìn)行測量?？蛇x地，在消毒步驟之后并且在將浸入管移位到測量位置中之前，浸入管能夠首 先保持在第一處理位置中，校準(zhǔn)介質(zhì)能夠被進(jìn)給到第一處理腔室中，并且進(jìn)行校準(zhǔn)測量探 頭。


現(xiàn)在將基于圖中示意的實施例的示例更加詳細(xì)地解釋本發(fā)明，如下示出附圖中的 各圖圖1是概略地示出的在第一或者第二處理位置中的探頭系統(tǒng)的總體視圖；圖2a)是在測量位置中的探頭系統(tǒng)的概略縱向截面圖示；圖2b)是具有圖2a)中的圓的特征的區(qū)域的細(xì)節(jié)視圖；圖3a)是在第一處理位置中的探頭系統(tǒng)的概略縱向截面圖示；圖3b)是具有圖3a)中的圓的特征的區(qū)域的細(xì)節(jié)視圖；圖4a)是在第二處理位置中的探頭系統(tǒng)的概略縱向截面圖示；圖4b)是具有圖4a)中的圓的特征的區(qū)域的細(xì)節(jié)視圖。
具體實施例方式圖1示出探頭系統(tǒng)1的總體視圖。其包括過程連接件2，過程連接件2在本示例中 被實現(xiàn)為連接噴嘴，并且能夠利用聯(lián)管螺母5而緊固到過程容器4上的互補(bǔ)連接噴嘴3 (在 圖1中未示出；參見圖2到4)。進(jìn)而，探頭系統(tǒng)1包括探頭本體6，探頭本體6能夠被形成 為一體件或者如在所示意的示例中由相互連接的多個部分形成。在其中引導(dǎo)浸入管8的軸 向引導(dǎo)通道7(在圖1中未示出；參見圖2-4)在探頭本體6內(nèi)，浸入管8能夠沿著過程連接 件2的方向或者沿著背離過程連接件2的方向軸向地移位。利用自動、優(yōu)選地氣動驅(qū)動設(shè) 備9實現(xiàn)了浸入管8的移位，驅(qū)動設(shè)備9在這里未予詳細(xì)描述，然而，其操作例如根據(jù)DElO 2005 051 279 Al是已知的。還能夠如在未公開的德國專利申請DElO 2008 054884. 7中描 述的那樣實現(xiàn)驅(qū)動設(shè)備9?？商娲兀牍艿囊莆贿€能夠通過人工致動發(fā)生。引導(dǎo)通道7包括具有不同截面的多個軸向部分。在探頭本體6內(nèi)，因此，在引導(dǎo)通 道7和浸入管8之間存在第一處理腔室10和在第一處理腔室10的背離過程連接件2的一 側(cè)上鄰接第一處理腔室10的第二處理腔室11，其中該引導(dǎo)通道在處理腔室10、11的區(qū)域中 具有帶有擴(kuò)大的截面的部分(再參見圖2-4)。在每一種情形下，引導(dǎo)通道在第一和第二處 理腔室的區(qū)域中截面變寬。能夠經(jīng)由通向處理腔室中的流體輸送線路15(參見圖2-4)將 流體例如液體、蒸氣或者氣體引入處理腔室中。流體輸送線路15被實現(xiàn)為在探頭本體內(nèi)的 孔洞，所述孔洞與連接噴嘴12、13和14連接，以連接到流體供應(yīng)線路諸如、例如軟管、管道 或者管子。連接噴嘴12、13、14和相應(yīng)地在探頭本體內(nèi)的流體輸送線路15布置于通過探頭 本體6的假想、縱向切割平面的一側(cè)上，該切割平面并不通過探頭本體6的縱向軸線A而是 與該軸線平行地延伸。這具有以下優(yōu)點，即，能夠從探頭系統(tǒng)1的單側(cè)達(dá)到連接噴嘴12、13、 14，從而相對側(cè)自由地保持為安設(shè)空間。整體上，探頭系統(tǒng)1以此方式因此要求比傳統(tǒng)探頭 系統(tǒng)更少的安設(shè)空間，在此情形下，用于清洗和/或漂洗介質(zhì)的連接噴嘴布置于探頭系統(tǒng) 的相對側(cè)上。與通向第一處理腔室10中的流體輸送線路15連接的連接噴嘴12、13并且還有流 體輸送線路自身相對于探頭本體6的縱向軸線A傾斜，即每一條流體輸送線路15的孔洞軸 線Bl與其連接噴嘴12、13的軸線相一致，并且與探頭本體6的縱向軸線A形成銳角α，優(yōu) 選角度α處于20°和80°之間，其頂點朝向過程連接件2。在探頭本體6內(nèi)作為孔洞延伸的并且通向第二處理腔室(在縱向截面中未示出)中的連接噴嘴14或者與其連接的流體輸送線路同樣地相對于探頭本體6的或者浸入管8的縱向軸線A傾斜。在這種情形下，流體輸送線路的孔洞軸線B2與連接噴嘴14的軸線相 一致并且與縱向軸線A形成銳角β，銳角β優(yōu)選地等于在20°和80°之間的角度。角度 β的頂點遠(yuǎn)離過程連接件2地指向。在圖2a)中，在測量位置中在縱向截面中示出探頭系統(tǒng)1。圖2b)示出由圖2a)中 的圓標(biāo)記的區(qū)域的細(xì)節(jié)視圖。測量探頭16被保持在浸入管8中，測量探頭16在其面向浸入管8的前端19的端 部上具有測量頭17并且在其背離前端19的端部上具有探頭插頭18。測量頭17包括測量 探頭16的基本測量轉(zhuǎn)換器。基本測量轉(zhuǎn)換器產(chǎn)生與要確定的測量變量相關(guān)的原始信號，該 原始信號被前送到測量頭17并且在給定情形下在其中被在那里容納的測量電子設(shè)備轉(zhuǎn)換 并且被從測量頭17傳輸?shù)脚c插頭以機(jī)械方式連接并且例如被以流電、光學(xué)或者感應(yīng)方式 耦接以用于信號和能量傳輸?shù)纳霞墕卧?，例如，測量發(fā)射器。在其前端19上，浸入管8被形成為圍繞測量頭17的保護(hù)缸筒20。從前端19隔開 地，保護(hù)缸筒20具有帶有形式為清洗和/或漂洗開口 21的通道的區(qū)域。測量探頭16被以 如此方式保持，使得在浸入管中，其測量頭17布置在保護(hù)缸筒20內(nèi)，并且，浸入保護(hù)缸筒的 介質(zhì)通過清洗和/或漂洗開口與測量頭17形成接觸。浸入管8包括具有不同的外徑的多個部分。第一部分22擁有第一外徑。具有第 二外徑的第二部分23在第一部分22的面向前端19的一側(cè)上鄰接，第二外徑小于第一部分 22的外徑。而且，第三部分24在第一部分22的背離前端19的一側(cè)上鄰接，第三部分24具 有小于第一部分22的外徑的外徑。在所示意的示例中，第二部分23和第三部分24的外徑 是一樣大的。第四部分25在第三部分24的背離前端19的一側(cè)上鄰接，第四部分25具有 比第二部分23和第三部分24更大的外徑。在浸入管的前端19和第二部分23之間的區(qū)域 形成第五部分26，第五部分26在前端19和帶有形式為清洗和/或漂洗開口 21的通道的區(qū) 域之間延伸。第五部分26的外徑大于第二部分23的外徑。在所示意的示例中，第一部分 22、第四部分25和第五部分的26外徑是一樣大的。如此確定第一部分22、第四部分25和第五部分26的外徑的尺寸，使得其們接觸一 個或者多個密封元件，密封元件布置在引導(dǎo)通道7內(nèi)，并且從而當(dāng)所述部分之一處于具有 密封元件之一的水平處時形成密封件。相反，如此確定第二部分23和第三部分24的外徑 的尺寸，使得在這些部分的區(qū)域中，在浸入管8和一個或者多個密封元件之間保持間隙，經(jīng) 由流體輸送線路15引入處理腔室10、11中的流體能夠通過該間隙流動。在引導(dǎo)通道7內(nèi)，在環(huán)形凹槽中，第一密封元件27布置在第一處理腔室10和第二 處理腔室11之間。第二密封元件28布置在第一處理腔室10的面向過程連接件2的一側(cè)上 的環(huán)形凹槽中的引導(dǎo)通道內(nèi)。在過程容器4和第二密封元件28之間，第三密封元件29布 置在連接噴嘴2的過程側(cè)端部區(qū)域中的引導(dǎo)通道7中的環(huán)形凹槽中。在所示意的示例中， 密封元件被實現(xiàn)為0形環(huán)；可替代地，密封元件還能夠被實現(xiàn)為具有其他形狀的密封件。將 密封元件置于浸入管8上而不是引導(dǎo)通道7上也是可能的。在圖2a)和b)中示意的浸入管8的測量位置中，帶有測量頭17的保護(hù)缸筒凸出 到填充有其測量變量將被確定的流體的過程容器4中，從而測量頭17經(jīng)由清洗和/或漂洗 開口 21與流體形成接觸。在浸入管的這個位置中，浸入管的第一部分22以其背離前端19的端部區(qū)域抵靠第三密封元件29，從而在密封元件29的背離過程容器4的一側(cè)上在浸入管 8和引導(dǎo)通道7之間延伸的間隙相對于過程容器4被密封。浸入管8的在第一部分22的 背離前 端19的一側(cè)上鄰接第一部分22的第三部分24，因為其更小的直徑，并不抵靠第二 密封元件28，從而在測量位置中，在密封元件28和部分24之間形成間隙，通過該間隙，在 處于第二密封元件28的背離過程容器4的一側(cè)上的第一處理腔室10中容納的流體能夠滲 透。在浸入管的測量位置中，因此可能的是，經(jīng)由供應(yīng)線路15引入清洗和/或漂洗液體或 者消毒介質(zhì)例如過熱蒸氣，并且以此方式，不僅對于第一處理腔室，而且還對于密封元件28 和在浸入管的第三部分24和引導(dǎo)通道之間延伸至密封元件29的間隙進(jìn)行清洗和/或漂洗 和消毒。在圖3a)中，在第一處理位置中以縱向截面圖示示出了探頭系統(tǒng)1。圖3b)示出利 用圖3a)中的圓標(biāo)記的區(qū)域的細(xì)節(jié)視圖。在第一處理位置中，浸入管8沿著背離過程連接件2的方向如此遠(yuǎn)地縮進(jìn)，使得測 量頭17處于第一處理腔室10內(nèi)。浸入管8的第五部分26抵靠第三密封元件29和第二密 封元件28，從而在浸入管8和引導(dǎo)通道7之間的間隙相對于過程容器4被密封?？蛇x地，能 夠如此選擇第一處理位置，使得浸入管8的第五部分26也并不抵靠第二密封元件28。浸入管的第一部分22在第一處理位置中抵靠第一密封元件27，從而第一處理腔 室10和第二處理腔室11彼此密封。在這個位置中，經(jīng)由供應(yīng)線路15，清洗和/或漂洗液 體、校準(zhǔn)介質(zhì)或者消毒介質(zhì)能夠被引入第一處理腔室10中。所述引入是經(jīng)由分配溝道30 發(fā)生的，分配溝道30使得能夠?qū)崿F(xiàn)到測量頭17上的均勻流動。經(jīng)由與連接噴嘴12連接的 排放線路(在圖2中未示出)，供應(yīng)到處理腔室中的介質(zhì)得以排出。當(dāng)?shù)诙芊庠?8抵靠浸入管8的第五部分26時，存在于第一處理腔室中的介 質(zhì)不能滲入在如此形成的密封件的面向過程容器4的一側(cè)上在浸入管8和引導(dǎo)通道7之間 的間隙中。然而，當(dāng)浸入管8的第五部分26被確定為具有短的尺寸或者在第一處理位置中 并不抵靠密封元件28時，介質(zhì)能夠流動經(jīng)過密封元件28并且填充該間隙直至密封元件27。 以此方式，密封元件28能夠被清洗、漂洗和消毒。在圖4a)中，在第二處理位置中以縱向截面圖示示出探頭系統(tǒng)1。圖4b)示出利用 圖4a)中的圓標(biāo)記的區(qū)域的細(xì)節(jié)視圖。在第二處理位置中，浸入管8進(jìn)一步沿著背離過程連接件2的方向稍稍地相對于 第一處理位置縮進(jìn)。由于浸入管8的在第一部分22的面向前端19的一側(cè)上鄰接浸入管的 第一部分22的第二部分23的更小(相對于第一部分22)的直徑，通過將浸入管8從第一 處理位置移位到第二處理位置中，在第二部分23和密封元件27之間的間隙打開。這個間 隙將第一處理腔室10和第二處理腔室11相互連接。密封件31在其背離第一處理腔室10的端部上密封第二處理腔室。在第一處理腔 室的面向過程連接件2的一側(cè)上，利用在浸入管8的第五部分26上應(yīng)用的第二密封元件28 形成處理腔室相對于過程容器4的密封件。在浸入管的這個位置中，第三密封元件29被浸 入管8的在其后面縮進(jìn)的前端19打開，從而其與處于過程容器中的介質(zhì)接觸。因此，在這 個位置中，通過將清潔和/或消毒介質(zhì)引入過程容器4中，第三密封元件29和引導(dǎo)通道7 的打開區(qū)域的清洗、清潔和/或消毒是可能的。由于第一和第二處理腔室在浸入管8的第二處理位置中的連接，通過流體輸送線路15引入第一處理腔室10中的清洗、漂洗或者消毒介質(zhì)能夠達(dá)到浸入管8和在第一和第 二處理腔室10、11中容納的測量探頭16的全部區(qū)域。還能夠通過通向第二處理腔室11中 的供應(yīng)線路14而不是通過流體輸送線路15進(jìn)給所述介質(zhì)。有利地，利用閥門(未示出)關(guān) 閉通向第一處理腔室10中的流體輸送線路之一。經(jīng)由僅在圖1中而非在圖4中的縱向截 面中示出的供應(yīng)線路14，清洗和/或漂洗或者消毒介質(zhì)能夠被沖注到第二處理腔室11中， 并且經(jīng)由流體輸送線路15而排出第一處理腔室。為了在基于圖1到4描述的探頭系統(tǒng)1的情形下，進(jìn)行測量探頭的更換和隨后的 對新的測量探頭16以及在更換的情形下在給定情形下被污染的浸入管8進(jìn)行消毒，能夠例 如進(jìn)行如下將描述的程序。在第一變型中，首先，浸入管8移位到第二處理位置中(圖4)。在第二處理位置 中，新的測量探頭16被安設(shè)到浸入管8中。然后，浸入管8移位到測量位置中(圖2)。在 第一處理腔室10中，消毒介質(zhì)得以引入，并且連同在處理腔室和密封元件29之間的間隙一 起地消毒第一處理腔室10。此后，浸入管8移位到第一處理位置中(圖3)。在這個位置 中，浸入管8的部分22抵靠密封元件27，從而第一處理腔室被從第二處理腔室密封。現(xiàn)在 將消毒介質(zhì)引入第一處理腔室中。同時或者此后，在過程容器4中引入消毒介質(zhì)，從而消毒 浸入管8的前端19和過程容器4。然后，浸入管重新移位到第二處理位置中。在這個位置 中，再次進(jìn)行過程容器4的消毒，其中在浸入管8的第二處理位置中，用于過程容器4的密 封元件29還被暴露出來，從而密封元件29也被消毒。此后，消毒介質(zhì)被引入在第二處理位 置中被打開的密封元件27的區(qū)域中的間隙相互連接的第一和第二處理腔室10、11中，并 且對于布置在處理腔室10、11中的所有部分、特別是還有密封元件27消毒。然后，浸入管 8能夠或者被即刻地移動到測量位置中，或者首先同樣地移動到第一處理位置中，其中能夠 通過將校準(zhǔn)介質(zhì)供應(yīng)到第一處理腔室10中進(jìn)行測量探頭16的校準(zhǔn)。在校準(zhǔn)之后，然后能 夠?qū)⒔牍芤苿拥綔y量位置中。在第二變型中，首先浸入管8被移位到第二處理位置中，并且新的測量探頭16被 置于浸入管8中。此后，浸入管8首先保持在第二處理位置中，其中消毒介質(zhì)被引入相互連 接的處理腔室10、11中，并且對于布置在兩個處理腔室中的所有部分以及密封元件27消 毒。在下面的步驟中或者同時地，在過程容器4中同樣地能夠引入消毒介質(zhì)并且對于過程 容器4、密封元件29和引導(dǎo)通道7的端部區(qū)域以及浸入管的前端19進(jìn)行消毒。然而，僅在 測量點的首次啟用時需要這樣。在進(jìn)行測量操作時，當(dāng)在浸入管的第二處理位置中更換測 量探頭16時，過程容器和探頭系統(tǒng)1的與其接觸的部分保持是無菌的。然后，浸入管被移 位到第一處理位置中。在這個位置中，消毒介質(zhì)被引入第一處理腔室中并且進(jìn)行消毒。在 測量點的首次啟用的情形下，然后浸入管8被進(jìn)一步沿著過程容器4的方向移位，從而至少 保護(hù)缸筒20的端部區(qū)域，即浸入管的部分26向內(nèi)凸出到過程容器中。然后能夠通過將消 毒介質(zhì)供應(yīng)到過程容器4中，對這個端部區(qū)域消毒。 為了進(jìn)行消毒步驟，探頭系統(tǒng)1和過程容器4是能夠被加熱的并且可以被置于壓 力下。傳感器能夠被置于用于清洗、漂洗、校準(zhǔn)和消毒介質(zhì)的供應(yīng)和排放線路上，傳感器監(jiān) 控所述介質(zhì)的純度，從而特別是檢查探頭系統(tǒng)的消毒。
權(quán)利要求
1.用于測量容納在過程容器⑷中的流體、特別是液體的測量變量的探頭系統(tǒng)(1) 包括探頭本體(6)，該探頭本體能夠借助過程連接件(2)連接到所述過程容器(4)； 浸入管(8)，該浸入管能夠在測量位置與至少兩個不同的處理位置之間在所述探頭本 體(6)的引導(dǎo)通道(7)中軸向移位，所述浸入管在該侵入管的能浸入流體的前端(19)上具 有保護(hù)缸筒(20)；測量探頭(16)，該測量探頭保持在所述浸入管(8)中并且具有測量頭(17)，其中該測 量頭(17)布置在所述保護(hù)缸筒(20)的具有開口的區(qū)域內(nèi)；第一處理腔室(10)，該第一處理腔室形成在所述引導(dǎo)通道(7)與所述浸入管(8)之間；第二處理腔室(11)，該第二處理腔室形成在所述引導(dǎo)通道(7)與所述浸入管(8)之間 并且在所述第一處理腔室(10)的背離所述過程連接件(2)的一側(cè)上鄰接所述第一處理腔 室(10)；和密封件，該密封件布置在所述第一處理腔室(10)與所述第二處理腔室(11)之間； 其特征在于，所述浸入管(8)具有第一部分(22)和第二部分(23)，所述第一部分具有第一外徑，所 述第二部分鄰接所述第一部分(22)并且具有比所述第一外徑更小的第二外徑，使得能夠 通過所述浸入管(8)的軸向移位來打開布置在所述第一處理腔室(10)與所述第二處理腔 室(11)之間的所述密封件。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的探頭系統(tǒng)(1)，其中所述第二部分(23)在朝向所述浸入管(8)的前端(19)的方向上鄰接所述第一部 分(22)，其中，在所述浸入管(8)的第一處理位置中，所述密封件將所述第一處理腔室(10)和 所述第二處理腔室(11)彼此密封，并且在所述浸入管(8)沿著背離所述過程連接件(2)的 方向軸向移位運(yùn)動到第二處理位置的情形下，所述密封件被打開并且在所述第一處理腔室 (10)與所述第二處理腔室(11)之間形成流體通道。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的探頭系統(tǒng)(1)，其中由密封元件(27)形成布置在所述引導(dǎo)通道(7)內(nèi)的所述密封件，在所述浸入管 (8)的第一處理位置中，所述密封元件(27)抵靠具有所述第一外徑的所述第一部分(22)。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的探頭系統(tǒng)(1)，其中，在所述第二處理位置中，在所述密封元件(27)與所述浸入管(8)的第二部分 (23)之間，由于比所述第一外徑更小的所述第二外徑，間隙得以打開，所述間隙將所述第一 處理腔室(10)和所述第二處理腔室(11)相互連接。
5.根據(jù)權(quán)利要求1到4中一項所述的探頭系統(tǒng)(1)，還包括至少兩條流體輸送線路，所述至少兩條流體輸送線路通到所述第一處理腔室(10)中，所述至少兩條流體輸送線路中的一條用作供應(yīng)線路且其他流體輸送線路用作排 放線路；以及另外一條流體輸送線路，所述另外一條流體輸送線路通到所述第二處理腔室(11)中并且選擇性地用作供應(yīng)線路或者用作排放線路。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的探頭系統(tǒng)(1)，其中，通到所述第一處理腔室(10)中的所述流體輸送線路能夠被利用閥門而關(guān)閉。
7.根據(jù)權(quán)利要求1到6中一項所述的探頭系統(tǒng)(1)，其中，在所述第一處理腔室(10)的面向所述過程連接件(2)的一側(cè)上布置有第二密封 件，當(dāng)所述浸入管(8)處于所述第二處理位置中時，所述第二密封件相對于所述過程容器 (4)密封所述第一處理腔室(10)。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的探頭系統(tǒng)(1)，其中，在所述探頭本體(6)的過程連接件側(cè)的端部區(qū)域上與所述第二密封件隔開地布 置有第三密封件，當(dāng)所述浸入管(8)處于測量位置中或者處于所述第一處理位置中時，所 述第三密封件相對于所述過程容器(4)密封所述引導(dǎo)通道(7)和所述第一處理腔室(10)。
9.根據(jù)權(quán)利要求7或8所述的探頭系統(tǒng)(1)，其中，在所述浸入管(8)的具有所述第一外徑的所述第一部分(22)的背離所述浸入管 (8)的前端(19)的一側(cè)上，所述浸入管(8)的第三部分(24)鄰接所述第一部分(22)，所述 第三部分(24)具有小于所述第一外徑的第三外徑，其中所述第三外徑特別是與所述第二 外徑一樣大，從而通過沿著朝向所述過程連接件(2)的方向?qū)⑺鼋牍?8)軸向移位到所述測量 位置中，所述第二密封件被打開。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的探頭系統(tǒng)(1)，其中利用第二密封元件(28)形成布置在所述引導(dǎo)通道內(nèi)的所述第二密封件，所述第 二密封元件(28)在所述第二處理位置中抵靠所述浸入管(8)的第一部分(22)，而在所述浸 入管(8)的測量位置中，在所述第二密封元件(28)與所述浸入管的第三部分(24)之間，由 于比所述第一外徑更小的所述第三外徑而存在間隙，所述間隙使得經(jīng)由所述供應(yīng)線路供應(yīng) 到所述第一處理腔室(10)中的液體能夠達(dá)到所述第二密封元件(28)。
11.用于操作根據(jù)權(quán)利要求1到10中一項所述的探頭系統(tǒng)(1)的方法，所述探頭系統(tǒng)的浸入管(8)能夠被軸向移位到測量位置、第一處理位置和第二處理位 置中，所述方法包括如下步驟-將所述浸入管(8)移位到所述第二處理位置中，在所述第二處理位置中，所述第一處 理腔室(10)與所述第二處理腔室(11)之間的密封件被打開，使得所述第一處理腔室(10) 和所述第二處理腔室(11)相互連接；-在所述浸入管(8)處于所述第二處理位置中時，將測量探頭(16)緊固在所述浸入管 (8)內(nèi)；所述方法還包括以下步驟中的至少一個步驟-在所述浸入管(8)處于所述第二處理位置中時，將消毒介質(zhì)供應(yīng)到已連接的處理腔 室中，并且對所述浸入管(8)的處于所述第一處理腔室和第二處理腔室內(nèi)的部分進(jìn)行消 毒，以及對能夠經(jīng)由所述浸入管⑶的前端(19)上的所述保護(hù)缸筒(20)內(nèi)的清洗和/或 漂洗開口(21)達(dá)到的所述測量探頭(16)的測量頭(17)進(jìn)行消毒；-在所述浸入管(8)處于所述第一處理腔室(10)和所述第二處理腔室(11)彼此密封 的所述第一處理位置中時，將消毒介質(zhì)供應(yīng)到所述第一處理腔室(10)中，并且對所述浸入 管(8)的處于所述第一處理腔室(10)內(nèi)的部分進(jìn)行消毒，以及對能夠經(jīng)由所述浸入管(8) 的前端(19)上的所述保護(hù)缸筒(20)內(nèi)的清洗和/或漂洗開口(21)達(dá)到的所述測量探頭(16)的測量頭(17)進(jìn)行消毒； -在所述浸入管(8)處于所述第一處理位置中時，將清洗和/或漂洗液體供應(yīng)到所述第 一處理腔室(10)中，并且清洗和/或漂洗所述浸入管(8)的處于所述第一處理腔室(10)內(nèi) 的部分，以及清洗和/或漂洗能夠經(jīng)由所述浸入管⑶的前端(19)上的所述保護(hù)缸筒(20) 內(nèi)的清洗和/或漂洗開口(21)達(dá)到的所述測量探頭(16)的測量頭(17)；-在所述浸入管(8)處于所述第一處理位置中時，將校準(zhǔn)液體供應(yīng)到所述第一處理腔 室(10)中，并且校準(zhǔn)所述測量探頭，該測量探頭的測量頭(17)被經(jīng)由所述浸入管(8)的前 端(19)上的所述保護(hù)缸筒(20)內(nèi)的清洗和/或漂洗開口(21)而供應(yīng)校準(zhǔn)液體。
全文摘要
用于測量容納在特別是消毒用的過程容器中的流體的測量變量的探頭系統(tǒng)，包括探頭本體，其可借助過程連接件連接到過程容器；浸入管，其可在探頭本體的引導(dǎo)通道中在測量位置與至少兩個不同的處理位置之間軸向移位，且在能夠浸入流體的前端上具有保護(hù)缸筒；保持在浸入管中且具有測量頭的測量探頭，其中測量頭布置在保護(hù)缸筒的具有開口的區(qū)域內(nèi)；形成在引導(dǎo)通道與浸入管之間的第一處理腔室；第二處理腔室，其形成在引導(dǎo)通道與浸入管之間且在第一處理腔室的背離過程連接件的一側(cè)上鄰接第一處理腔室；和布置在第一與第二處理腔室之間的密封件。
文檔編號G01D11/24GK102103113SQ20101054661
公開日2011年6月22日 申請日期2010年11月11日 優(yōu)先權(quán)日2009年11月11日
發(fā)明者托馬斯·普福希, 英格麗德·文德利希 申請人:恩德萊斯和豪瑟爾測量及調(diào)節(jié)技術(shù)分析儀表兩合公司