專利名稱：電磁輻射測量裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種測量裝置，特別涉及一種電磁輻射測量裝置。
背景技術(shù)：
按照各國電磁兼容(Electro-Magnetic Compatibility, EMC)指令要求，電子產(chǎn)品 在進(jìn)入該國市場銷售前需要進(jìn)行電磁干擾(Electromagnetic Interference,EMI)測試，只 有符合該國EMC標(biāo)準(zhǔn)的產(chǎn)品才能在該國市場出售。因此，在產(chǎn)品研發(fā)階段進(jìn)行EMI輻射的 抑制就顯得尤為重要。當(dāng)產(chǎn)品EMI輻射超標(biāo)時(shí)，需要找出輻射超標(biāo)的EMI輻射源以對其進(jìn) 行抑制，傳統(tǒng)的電磁輻射測量裝置在測量過程中可能會(huì)受到非產(chǎn)品本身發(fā)出的外界磁場的 干擾，而造成EMI輻射源定位的不準(zhǔn)確，給輻射源的抑制帶來困難。

發(fā)明內(nèi)容
鑒于以上內(nèi)容，有必要提供ー種可以準(zhǔn)確定位輻射源的電磁輻射測量裝置。一種電磁輻射測量裝置，包括一測量本體及一探棒設(shè)備，所述探棒設(shè)備包括一金 屬屏蔽罩、ー設(shè)置于所述金屬屏蔽罩內(nèi)部的探頭及ー電纜，連接所述探頭的電纜穿過所述 金屬屏蔽罩的底部后連接至所述測量本體上。相較現(xiàn)有技木，所述電磁輻射測量裝置通過所述金屬屏蔽罩來屏蔽金屬屏蔽罩外 部電磁輻射的干擾，從而準(zhǔn)確檢測電磁輻射超標(biāo)的電磁輻射源。


下面參照附圖結(jié)合具體實(shí)施方式
對本發(fā)明作進(jìn)ー步的說明。圖1是本發(fā)明電磁輻射測量裝置的較佳實(shí)施方式的剖面示意圖。圖2是圖1中電磁輻射測量裝置的探棒設(shè)備的分解示意圖。圖3是圖2中金屬屏蔽罩底部的剖面圖。圖4是圖2中同軸電纜的剖面圖。主要元件符號說明電磁輻射測量裝置 100測量本體110探棒設(shè)備120金屬屏蔽罩10探頭20母頭SMA連接器30第一固定片50公頭SMA連接器40手持柄66第二固定片60
同軸電纜70
螺絲80
螺母90
中心孔112
導(dǎo)電體113
通孔12、54、64、661
定位孔52
固定孔6具體實(shí)施例方式請參考圖1至圖4，本發(fā)明電磁輻射測量裝置100的較佳實(shí)施方式包括一測量本體 110及一探棒設(shè)備120。所述測量本體110為一現(xiàn)有測量儀器，如一頻譜儀，其具體工作原理在此不再贅述。所述探棒設(shè)備120包括一金屬屏蔽罩10、一探頭20、一連接所述探頭20 的母頭SMA(Sub-Miniature-A)連接器30、一第一固定片50、一設(shè)置在所述第一固定片50 上的公頭SMA連接器40、一手持柄66、一固定所述手持柄66的第二固定片60、一同軸電纜 70、兩螺絲80及兩螺母90。所述金屬屏蔽罩10的底部11的中心位置設(shè)置一中心孔112，一環(huán)形導(dǎo)電體113環(huán)繞所述中心孔112設(shè)置在所述金屬屏蔽罩10的底部11，所述中心孔112的兩邊分別設(shè)置一通孔12。所述第一固定片50的中間位置設(shè)置一通孔M，所述通孔M的兩邊分別設(shè)置一定位孔52。所述第二固定片60的中間位置設(shè)置一通孔64，所述通孔64的兩邊分別設(shè)置一固定孔62。所述固定孔62與所述金屬屏蔽罩10底部11的通孔12及所述第一固定片50的定位孔52相對應(yīng)。所述手持柄66中心設(shè)置一通孔661，所述通孔661與所述第二固定片 60的通孔64、所述金屬屏蔽罩10底部11的中心孔112及所述第一固定片50的通孔M相對應(yīng)。在本實(shí)施方式中，所述金屬屏蔽罩10的內(nèi)壁貼有吸波材料。所述導(dǎo)電體113為普通導(dǎo)線、導(dǎo)電海綿、導(dǎo)電布、導(dǎo)電夾、導(dǎo)電膠、銅箔或鋁箔中的任何一種。所述同軸電纜70由外至內(nèi)依次包括一保護(hù)層71、一屏蔽層72、一絕緣層73及一線芯74。組裝時(shí)，所述同軸電纜70的第一端穿過所述手持柄66中心的通孔661及所述第二固定片60的通孔64后使所述同軸電纜70的屏蔽層72與所述金屬屏蔽罩10底部11的導(dǎo)電體113電連接，并使所述同軸電纜70的線芯74通過所述金屬屏蔽罩10底部11的中心孔112及所述第一固定片50的通孔M插入所述公頭SMA連接器40內(nèi)，所述同軸電纜70 的第二端連接至所述測量本體110上，所述螺絲80依次穿過所述第二固定片60的固定孔 62、所述金屬屏蔽罩10底部11的通孔12及所述第一固定片50的定位孔52，再將所述螺母 90鎖固于所述螺絲80上，所述母頭SMA連接器30電性連接于所述公頭SMA連接器40。使用時(shí)，如果一電子設(shè)備的電磁干擾超標(biāo)而需要找出所述電子設(shè)備主板上的電磁輻射超標(biāo)的輻射源時(shí)，使用者通過所述手持柄66使用所述探棒設(shè)備120檢測所述電子設(shè)備主板，因?yàn)樗鎏筋^20位于所述金屬屏蔽罩10的內(nèi)部，由于金屬屏蔽罩10的作用，所述探頭20只接收到所述電子設(shè)備主板發(fā)出的電磁輻射，而不會(huì)收到其他外部設(shè)備發(fā)出的電磁輻射的干擾，當(dāng)所述探棒設(shè)備120檢測到所述電子設(shè)備主板上的一電磁輻射源時(shí)，所述輻射源發(fā)射的電磁輻射通過所述探頭20、所述母頭SMA連接器30、所述公頭SMA連接器40及所述同軸電纜70傳送至連接所述探棒設(shè)備120的測量本體110，所述測量本體110將接收到的電磁輻射經(jīng)過處理后顯示出來，使用者通過觀察所述測量本體110顯示的結(jié)果來判斷所述檢測的電磁輻射源發(fā)出的電磁輻射是否超標(biāo)。所述電子設(shè)備主板上其他電磁輻射源的測試原理相同，在此不再贅述。因此，使用者在電子設(shè)備的電磁輻射超標(biāo)后，通過所述電磁輻射測量裝置100即可準(zhǔn)確地找到電磁輻射超標(biāo)的電磁輻射源，從而通過采取相應(yīng)措施來降低所述電磁輻射源發(fā)出的超標(biāo)的電磁輻射，進(jìn)而降低所述電子設(shè)備的電磁輻射。
所述電磁輻射測量裝置100通過所述金屬屏蔽罩10來屏蔽所述探頭20收到的其他外部設(shè)備發(fā)出的電磁輻射的干擾，從而在所述電子設(shè)備的電磁輻射超標(biāo)時(shí)準(zhǔn)確檢測電磁輻射超標(biāo)的電磁輻射源，以對所述超標(biāo)輻射源發(fā)出的電磁輻射進(jìn)行抑制，進(jìn)而降低所述電子設(shè)備的電磁輻射。
權(quán)利要求
1.一種電磁輻射測量裝置，包括一測量本體及一探棒設(shè)備，所述探棒設(shè)備包括一金屬屏蔽罩、一設(shè)置于所述金屬屏蔽罩內(nèi)部的探頭及一電纜，連接所述探頭的電纜穿過所述金屬屏蔽罩的底部后連接至所述測量本體上。
2.如權(quán)利要求1所述的電磁輻射測量裝置，其特征在于所述電磁輻射測量裝置還包括一連接所述探頭的第一連接器、一第一固定片、一設(shè)置在所述第一固定片上的第二連接器、一手持柄、一固定所述手持柄的第二固定片、若干螺絲及若干螺母，所述金屬屏蔽罩底部的中心位置設(shè)置一中心孔，一環(huán)形導(dǎo)電體環(huán)繞所述中心孔設(shè)置在所述金屬屏蔽罩的底部，所述中心孔的兩邊分別設(shè)置一第一通孔，所述第一固定片的中間位置設(shè)置一第二通孔， 所述第二通孔的兩邊分別設(shè)置一定位孔，所述第二固定片的中間位置設(shè)置一第三通孔，所述第三通孔的兩邊分別設(shè)置一固定孔，所述手持柄中心設(shè)置一第四通孔，所述電纜的第一端穿過所述第四通孔及所述第三通孔后使所述電纜的一部分與所述金屬屏蔽罩底部的導(dǎo)電體電連接，并使所述電纜的另一部分通過所述金屬屏蔽罩底部的中心孔及所述第一固定片的第二通孔插入所述第二連接器內(nèi)，所述電纜的第二端連接至所述測量本體上，所述螺絲分別穿過所述第二固定片的固定孔及所述第一通孔并將螺母鎖固于所述螺絲上，所述第一連接器電性連接于所述第二連接器。
3.如權(quán)利要求2所述的電磁輻射測量裝置，其特征在于所述第一連接器為一母頭SMA 連接器，所述第二連接器為一公頭SMA連接器。
4.如權(quán)利要求2所述的電磁輻射測量裝置，其特征在于所述電纜為一同軸電纜，所述電纜包括一保護(hù)層、一屏蔽層、一絕緣層及一線芯，所述電纜的屏蔽層與所述金屬屏蔽罩底部的導(dǎo)電體電連接，所述電纜的線芯通過所述金屬屏蔽罩底部的中心孔及所述第一固定片的第二通孔插入所述第二連接器內(nèi)。
5.如權(quán)利要求1所述的電磁輻射測量裝置，其特征在于所述金屬屏蔽罩的內(nèi)壁貼有吸波材料。
全文摘要
一種電磁輻射測量裝置，包括一測量本體及一探棒設(shè)備，所述探棒設(shè)備包括一金屬屏蔽罩、一設(shè)置于所述金屬屏蔽罩內(nèi)部的探頭及一電纜，連接所述探頭的電纜穿過所述金屬屏蔽罩的底部后連接至所述測量本體上。所述電磁輻射測量裝置通過所述金屬屏蔽罩來屏蔽金屬屏蔽罩外部電磁輻射的干擾，從而準(zhǔn)確檢測電磁輻射超標(biāo)的電磁輻射源。
文檔編號G01R29/08GK102375094SQ20101025742
公開日2012年3月14日 申請日期2010年8月19日 優(yōu)先權(quán)日2010年8月19日
發(fā)明者王軍偉, 陳俊宏 申請人:鴻富錦精密工業(yè)(深圳)有限公司, 鴻海精密工業(yè)股份有限公司