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百皮秒脈沖寬度測(cè)量?jī)x的制作方法

文檔序號(hào):5873542閱讀:242來源:國(guó)知局
專利名稱:百皮秒脈沖寬度測(cè)量?jī)x的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及激光參數(shù)測(cè)量,特別是一種百皮秒脈沖寬度測(cè)量?jī)x。
背景技術(shù)
目前能夠測(cè)量百皮秒左右超短脈沖的測(cè)量?jī)x器只有條紋相機(jī),而紅外條紋相機(jī)屬 于國(guó)際禁運(yùn)項(xiàng)目,國(guó)內(nèi)無法購買。在超短脈沖的時(shí)間測(cè)量領(lǐng)域,大于150ps的脈沖能夠通過快響應(yīng)光電管和高帶寬 的數(shù)字示波器進(jìn)行測(cè)量,小于20ps的脈沖能夠通過商品化單次脈沖自相關(guān)儀進(jìn)行測(cè)量。 20ps 150ps的可見光波段的激光脈沖寬度能夠通過可見光條紋相機(jī)進(jìn)行測(cè)量。而此范圍 的紅外波段的激光脈沖寬度,科研工作中沒有合適的測(cè)量?jī)x器。R. A. Ganeev在1995年提出了自相關(guān)方法實(shí)現(xiàn)0. 2 50ps的超短脈沖時(shí)間波形測(cè) 量的方案(Optics Communications,Vol. 114,1995,432 434)。他使用了一20X 20mm2 的非線性倍頻晶體,自相關(guān)過程中的兩個(gè)光束夾角為22°。M. Raghuramaiah在2001年完 善了自相關(guān)方法測(cè)量超短脈沖時(shí)間波形的理論分析方法(SADHANA-ACADEMY PROCEEDINGS IN ENGINEERING SCIENCES,Vol. 26,2001,603 611)。他使用的 CCD 為 512 X 256 像素,每 個(gè)像素大小為11. 8umX8. 3um。非線性倍頻晶體大小也為20X20mm2。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明所要解決的問題在于解決紅外波段(比如1053nm波長(zhǎng))的皮秒脈沖激光 的脈沖寬度測(cè)量,提供一種百皮秒脈沖寬度測(cè)量?jī)x,該測(cè)量?jī)x最大可測(cè)脈沖的時(shí)間范圍為 150ps,分辨率為0. 2ps。本發(fā)明的技術(shù)解決方案如下—種百皮秒脈沖寬度測(cè)量?jī)x,特點(diǎn)在于其構(gòu)成包括分光鏡、第一導(dǎo)光反射鏡、第二 導(dǎo)光反射鏡、非線性倍頻晶體、光學(xué)成像系統(tǒng)、CCD探測(cè)器和數(shù)據(jù)采集處理系統(tǒng),各元件的位 置關(guān)系如下入射的待測(cè)的皮秒激光脈沖,通過所述的分光鏡,將待測(cè)脈沖分為透射光和反射 光,該透射光經(jīng)過第一導(dǎo)光反射鏡和反射光經(jīng)過第二導(dǎo)光反射鏡同時(shí)入射到所述的非線性 倍頻晶體產(chǎn)生二倍頻信號(hào),該信號(hào)經(jīng)過所述的光學(xué)成像系統(tǒng)成像在CCD探測(cè)器上,并由所 述的數(shù)據(jù)采集處理系統(tǒng)完成采集和數(shù)據(jù)處理。本發(fā)明的技術(shù)效果是將自相關(guān)技術(shù)與光學(xué)成像技術(shù)結(jié)合起來,使其工作在同一套測(cè)量?jī)x器中,從而實(shí) 現(xiàn)150ps時(shí)間范圍的測(cè)量,時(shí)間分辨率為0. 2ps。本發(fā)明百皮秒脈沖寬度測(cè)量?jī)x器的特點(diǎn)是能夠通過光學(xué)成像系統(tǒng)將大口徑自相 關(guān)信號(hào)成像到已有的CCD探測(cè)器之上。本發(fā)明采用光學(xué)成像法,解決了大口徑的自相關(guān)信 號(hào)與有限尺寸CCD之間的矛盾。測(cè)量裝置中采用了一個(gè)成像系統(tǒng),將大口徑的自相關(guān)信號(hào) 的空間分布,成像到有限尺寸的CXD接收面上,從而實(shí)現(xiàn) 150ps范圍的脈沖寬度測(cè)量。
在相關(guān)方法實(shí)現(xiàn)超短脈沖測(cè)量方案中,時(shí)間測(cè)量范圍與光束口徑成正比,因此必 須采用大口徑光束。本發(fā)明中150ps的時(shí)間測(cè)量范圍對(duì)應(yīng)的光束寬度為120mm。所以測(cè)量光 路中用到的二倍頻晶體的寬度應(yīng)為150mm,倍頻晶體之后得到的相關(guān)信號(hào)的寬度為123mm, 目前還沒有合適的光電探測(cè)器能夠接收該信號(hào)。傳統(tǒng)的單次超短脈沖寬度測(cè)量,采用CCD作為光電探測(cè)器,比如條紋相機(jī)、單次脈 沖自相關(guān)儀?,F(xiàn)有的科學(xué)級(jí)(XD的規(guī)格,一種為512X512像素?cái)?shù),像素尺寸為24um,總的 尺寸為12. 288mmX 12. 288mm ;另一種為2048 X 2048像素?cái)?shù),像素尺寸為7. 2um,總的尺寸為 14. 7456mmX14. 7456mm。我們使自相關(guān)信號(hào)通過放大率為1/10倍的光學(xué)成像系統(tǒng)之后,相關(guān)信號(hào)的寬度 變?yōu)?2. 3mm。此時(shí)可以使用科學(xué)級(jí)C⑶進(jìn)行接收和處理。當(dāng)采用2048 X 2048像素?cái)?shù)的(XD 時(shí),每個(gè)像素對(duì)應(yīng)的時(shí)間為150ps/(12. 3mm/7. 4um) = 0. 09ps。根據(jù)奈奎斯特采樣定律,對(duì) 應(yīng)的分辨率為0. 2ps。


圖1是本發(fā)明百皮秒脈沖寬度測(cè)量?jī)x的結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)圖;圖2是自相關(guān)信號(hào)產(chǎn)生過程分析圖。
具體實(shí)施例方式下面結(jié)合實(shí)施例和附圖對(duì)本發(fā)明作進(jìn)一步說明,但不應(yīng)以此限制本發(fā)明的保護(hù)范圍。先請(qǐng)參閱圖1,圖1是本發(fā)明百皮秒脈沖寬度測(cè)量?jī)x的結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)圖,由圖可見,本發(fā) 明百皮秒脈沖寬度測(cè)量?jī)x,其構(gòu)成包括分光鏡1、第一導(dǎo)光反射鏡2、第二導(dǎo)光反射鏡3、非 線性倍頻晶體4、光學(xué)成像系統(tǒng)5、CCD探測(cè)器6和數(shù)據(jù)采集處理系統(tǒng)7,各元件的位置關(guān)系 如下入射的待測(cè)的皮秒激光脈沖,通過所述的分光鏡1,將待測(cè)脈沖分為透射光和反射 光,該透射光經(jīng)過第一導(dǎo)光反射鏡2和反射光經(jīng)過第二導(dǎo)光反射鏡3同時(shí)入射到所述的非 線性倍頻晶體4產(chǎn)生二倍頻信號(hào),該信號(hào)經(jīng)過所述的光學(xué)成像系統(tǒng)5成像到CCD探測(cè)器6 上,并由所述的數(shù)據(jù)采集處理系統(tǒng)7完成采集和數(shù)據(jù)處理。所述的二倍頻信號(hào),即自相關(guān)信號(hào)經(jīng)過一個(gè)放大率為M的光學(xué)成像系統(tǒng)5,光斑寬 度變化了 M倍,然后進(jìn)入所述的CCD探測(cè)器6。CCD探測(cè)器6將采集到的圖像數(shù)據(jù)輸入到數(shù) 據(jù)采集處理系統(tǒng)7中,通過分析和計(jì)算,最后得到被測(cè)脈沖的寬度。所述的自相關(guān)信號(hào)的產(chǎn)生過程,請(qǐng)參閱圖2。從第一導(dǎo)光反射鏡2過來的光束,基 于分波面原理可以分割成多個(gè)細(xì)光束,包括第一導(dǎo)光反射鏡2上邊緣11、中心位置12和下 邊緣13三個(gè)細(xì)光束。它們到達(dá)非線性倍頻晶體4的時(shí)間有先后之差。同樣,從第二導(dǎo)光反 射鏡3過來的光束,基于分波面原理,也可以分割成多個(gè)細(xì)光束,包括第二導(dǎo)光反射鏡3的 上邊緣8、中心位置9和下邊緣10三個(gè)細(xì)光束。它們到達(dá)非線性倍頻晶體4的時(shí)間也有先 后之差。對(duì)于一個(gè)超短脈沖的時(shí)域信號(hào)I (t),其自相關(guān)過程的數(shù)學(xué)描述為A2( X ) = / I(t)I(t- x )dt
其中,t為時(shí)間延遲。在本發(fā)明中,當(dāng)?shù)谝粚?dǎo)光反射鏡2中心位置12與第二導(dǎo)光反射鏡3的中心位置9 到達(dá)非線性倍頻晶體4的時(shí)間相同時(shí),第一導(dǎo)光反射鏡2的上邊緣11將落后于第二導(dǎo)光反 射鏡3上邊緣(8),第一導(dǎo)光反射鏡2的下邊緣(13)將比第二導(dǎo)光反射鏡3的下邊緣提前 到達(dá)非線性倍頻晶體4。在非線性倍頻晶體4表面,第一導(dǎo)光反射鏡2的上邊緣(11)相對(duì)于第一導(dǎo)光反射 鏡2的中心位置12的距離為 其中,Db_為光束寬度。第一導(dǎo)光反射鏡2的上邊緣11相對(duì)于第一導(dǎo)光反射鏡2的中心位置12到達(dá)非線 性倍頻晶體4的時(shí)間延遲量為 同理,第二導(dǎo)光反射鏡3的上邊緣8相對(duì)于第二導(dǎo)光反射鏡3的中心位置9到達(dá) 非線性倍頻晶體4的時(shí)間提前量為 第一導(dǎo)光反射鏡2的上邊緣11與第二導(dǎo)光反射鏡3的上邊緣8之間的時(shí)間延遲 為 同理,第一導(dǎo)光反射鏡2的下邊緣13與第二導(dǎo)光反射鏡3的下邊緣10之間的時(shí) 間延遲為 因此,在本發(fā)明實(shí)施例中,自相關(guān)過程的時(shí)間延遲T的取值范圍為 考慮到自相關(guān)信號(hào)的半高全寬(FWHM)為被測(cè)脈沖的半高全寬(FWHM)的倍,因 此,本發(fā)明可測(cè)量的時(shí)間范圍為為了測(cè)量時(shí)間范圍為T的激光脈沖,對(duì)應(yīng)的被測(cè)脈沖的光束寬度為 其中,c為光速,2①為透射光和反射光之間的夾角,本發(fā)明中①=15°。當(dāng)T = 150ps時(shí),對(duì)應(yīng)的被測(cè)脈沖寬度為Dbeam= 120mm。進(jìn)一步,在非線性倍頻晶體4之后產(chǎn)生的 自相關(guān)信號(hào)14,其空間上的寬度DA*Dbeam/C0S①=123mm。自相關(guān)信號(hào)的空間寬度DA與時(shí) 間范圍t之間的關(guān)系為 經(jīng)過M = 1/10的光學(xué)成像系統(tǒng)5之后,可以得到非線性倍頻晶體4上產(chǎn)生的自相 關(guān)信號(hào)的像15。該自相關(guān)信號(hào)的像15的空間寬度D' A = 12. 3mm,但仍然等效于150ps的 時(shí)間延遲范圍。自相關(guān)信號(hào)的像15中,空間寬度D' A與時(shí)間范圍t之間的關(guān)系為 此時(shí),我們采用的(XD探測(cè)器6像元素為2048X2048,像素尺寸為7. 2um,總尺寸 為 14. 7456mmX 14. 7456mm??臻g寬度 D' A < 14. 7456mm。因此該CCD探測(cè)器6能夠完全接收到該自相關(guān)信號(hào)的像。此時(shí)對(duì)應(yīng)的時(shí)間分辨率 為 0. 2ps。
權(quán)利要求
一種百皮秒脈沖寬度測(cè)量?jī)x,特征在于其構(gòu)成包括分光鏡(1)、第一導(dǎo)光反射鏡(2)、第二導(dǎo)光反射鏡(3)、非線性倍頻晶體(4)、光學(xué)成像系統(tǒng)(5)、CCD探測(cè)器(6)和數(shù)據(jù)采集處理系統(tǒng)(7),各元件的位置關(guān)系如下入射的待測(cè)的皮秒激光脈沖,通過所述的分光鏡(1),將待測(cè)脈沖分為透射光和反射光,該透射光經(jīng)過第一導(dǎo)光反射鏡(2)和反射光經(jīng)過第二導(dǎo)光反射鏡(3)同時(shí)入射到所述的非線性倍頻晶體(4)產(chǎn)生二倍頻信號(hào),該信號(hào)經(jīng)過所述的光學(xué)成像系統(tǒng)(5)成像到CCD探測(cè)器(6)上,并由所述的數(shù)據(jù)采集處理系統(tǒng)(7)完成采集和數(shù)據(jù)處理。
全文摘要
一種百皮秒脈沖寬度測(cè)量?jī)x,構(gòu)成包括分光鏡、第一導(dǎo)光反射鏡、第二導(dǎo)光反射鏡、非線性倍頻晶體、光學(xué)成像系統(tǒng)、CCD探測(cè)器和數(shù)據(jù)采集處理系統(tǒng),各元件的位置關(guān)系如下入射的待測(cè)的皮秒激光脈沖,通過所述的分光鏡,將待測(cè)脈沖分為透射光和反射光,該透射光經(jīng)過第一導(dǎo)光反射鏡和反射光經(jīng)過第二導(dǎo)光反射鏡同時(shí)入射到所述的非線性倍頻晶體產(chǎn)生二倍頻信號(hào),該信號(hào)經(jīng)過所述的光學(xué)成像系統(tǒng)成像在CCD探測(cè)器上,并由所述的數(shù)據(jù)采集處理系統(tǒng)完成采集和數(shù)據(jù)處理。本發(fā)明測(cè)量?jī)x的最大可測(cè)脈沖的時(shí)間范圍為150ps,分辨率為0.2ps。
文檔編號(hào)G01J11/00GK101871819SQ20101020754
公開日2010年10月27日 申請(qǐng)日期2010年6月23日 優(yōu)先權(quán)日2010年6月23日
發(fā)明者劉崇, 朱健強(qiáng), 朱寶強(qiáng), 楊琳, 歐陽小平, 黃奎喜 申請(qǐng)人:中國(guó)科學(xué)院上海光學(xué)精密機(jī)械研究所
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