專利名稱：一種逐增地引入電流到安裝在線圈架上的超導(dǎo)線圈的方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及安裝在線圈架上的超導(dǎo)磁體線圈。本發(fā)明尤其參考圓柱型超導(dǎo)磁體進(jìn) 行描述，但是，本發(fā)明仍可適用于包括在線圈架上安裝了至少一個(gè)超導(dǎo)線圈的任何結(jié)構(gòu)。本 發(fā)明尤其涉及在超導(dǎo)線圈加電時(shí)，用于降低超導(dǎo)磁體失超可能性的方法和設(shè)備。
背景技術(shù)：
圖1A-1B分別為核磁共振(NMR)或磁共振成像(MRI)系統(tǒng)常用的圓柱型超導(dǎo)磁體 布置的橫截面圖和軸向斷面圖。超導(dǎo)線組成的復(fù)數(shù)個(gè)線圈34纏繞在一個(gè)線圈架1上以形 成圓柱型磁體結(jié)構(gòu)。所形成的組件容納在一致冷劑室2內(nèi)，所述致冷劑室里至少部分填充 一種處于沸點(diǎn)的液態(tài)冷卻劑2a。由此，這些線圈34的溫度才可被控制在臨界溫度以下。通 常，該液態(tài)冷卻劑2a采用氦，它可以將線圈34的溫度控制在約4K。通常，線圈架1由鋁構(gòu)成，其由機(jī)械制造以確保線圈架的尺寸精確，反過來，這也 確保了纏繞在該線圈架上的線圈有精確的尺寸和準(zhǔn)確的位置。這些精度對(duì)于確保所形成的 磁場(chǎng)的均質(zhì)性和可靠性必不可少。甚至一個(gè)線圈發(fā)生少量的移位，都有可能導(dǎo)致超導(dǎo)磁體 出現(xiàn)失超。因此，所述線圈架必須非常剛硬，并牢固地保持在其所在的位置上。圓柱型磁體本質(zhì)上關(guān)于軸AA對(duì)稱。本文提及的“軸向，，和“徑向”均參考該軸而 確定。另外，圖1A-1B還示出了一外部真空腔4和一熱屏蔽層3。眾所周知，它們用來實(shí) 現(xiàn)所述致冷劑室2和周圍環(huán)境之間的熱隔離。絕緣層5置于外部真空腔和熱屏蔽層之間的 空間內(nèi)。該圓柱型磁體布置的可用內(nèi)徑4a需是某一最小尺寸以允許病人進(jìn)入。當(dāng)磁體開始工作時(shí)，電流以漸增方式，即所謂的“逐漸加電”過程引入線圈34。隨 著電流的增加，便會(huì)產(chǎn)生磁場(chǎng)。由于這些線圈內(nèi)有電流流動(dòng)，磁場(chǎng)會(huì)作用于這些線圈，并產(chǎn) 生作用于每個(gè)線圈的軸向力。也會(huì)產(chǎn)生徑向力，徑向力會(huì)增大或者減小各個(gè)線圈的直徑。這 可能導(dǎo)致線圈從其所在的線圈架上松脫，更可能發(fā)生移動(dòng)；也可能使該線圈夾緊其所在的 線圈架，這可能導(dǎo)致所述線圈摩擦受熱。由于這些線圈的相對(duì)尺寸，通常，軸向力僅給軸向 最外面的線圈帶來不利影響。作用于屏蔽線圈的軸向力也可能是顯著的，這些屏蔽線圈如 圖IB中所示的徑向最外面的線圈。這些力隨著通過線圈電流的增加而增大。在線圈內(nèi)電流增大的過程中，這些線圈 上不斷增加的作用力有可能導(dǎo)致其發(fā)生移動(dòng)。線圈在壓力的作用下，將抵靠所述線圈架的 一部分。對(duì)于每個(gè)線圈來說，通常是線圈架的軸向內(nèi)表面。這些表面稱之為“推力面”，如圖 IB中36所示.隨著徑向作用力的增大，線圈的直徑會(huì)發(fā)生改變，例如，在線圈架上會(huì)變得越來越 松。同時(shí)，軸向力還將這些線圈緊緊地?cái)D靠在推力面36上。如果線圈被擠靠在推力面的同 時(shí)發(fā)生了移動(dòng)，或者移進(jìn)與該推力面的接觸處，則該接觸面上將釋放出熱量。這些熱量足以 導(dǎo)致線圈失超。線圈在推力面上的移動(dòng)是一種典型的“粘滑運(yùn)動(dòng)”-線圈和線圈架之間的壓 力會(huì)變大，直到它足夠克服將這些線圈固定在其位置的“靜摩擦力”，這導(dǎo)致了線圈的突發(fā)移動(dòng)，線圈移動(dòng)時(shí)會(huì)摩擦生熱，由于這些線圈的運(yùn)動(dòng)穿過了磁場(chǎng)，因此會(huì)引起所述線圈材料 中的感應(yīng)電流。所產(chǎn)生的熱量足以引起所述線圈失超。如果出現(xiàn)失超，超導(dǎo)線圈會(huì)突然表現(xiàn)出抗導(dǎo)電性。此后，流經(jīng)它的電流將釋放出大 量的熱量。這使大量的冷卻劑汽化，使電流加電過程必須重新開始。由此，一段時(shí)間內(nèi)人們 都在試圖解決在電流加電過程中線圈移動(dòng)的問題。一種廣為人知的方法是，在線圈和線圈架之間加入低摩擦力表面，稱之為“滑移 面”。這些表面并不阻止線圈移動(dòng)，而是在線圈移動(dòng)時(shí)，使線圈容易移動(dòng)而不會(huì)產(chǎn)生明顯的 摩擦熱。線圈可能以逐增方式移動(dòng)，而不是以粘滑運(yùn)動(dòng)方式移動(dòng)。然而，實(shí)際應(yīng)用中發(fā)現(xiàn)， 這種處理方式并不可靠。小的殘缺或者雜質(zhì)就可能使這種方法失去效果。
另一種熟知的方法是，線圈自身附上一緩沖層，加入到線圈和線圈架之間。通常這 種緩沖層可以為一種玻璃纖維增強(qiáng)樹脂層，該層在線圈的樹脂浸漬工藝期間形成。緩沖層 不是用來防止線圈粘滑運(yùn)動(dòng)，而是要吸收和耗散所產(chǎn)生的熱量，以免該熱量導(dǎo)致線圈的小 部分區(qū)域升溫。為緩沖層提供空間的需要可能會(huì)折衷磁體的電磁學(xué)設(shè)計(jì)。JP2007050431討論了用于減少在紙質(zhì)抽拉管內(nèi)的粘滑運(yùn)動(dòng)的方法和設(shè)備。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的在于提供一種方法和設(shè)備，以降低在線圈電流加電至全額電流期間 超導(dǎo)磁體線圈發(fā)生“粘滑運(yùn)動(dòng)”的可能性。相應(yīng)地，本發(fā)明提供如所附權(quán)利要求書中所定義的方法和設(shè)備。


結(jié)合下文描述的實(shí)施例(僅通過實(shí)例給出)和附圖，本發(fā)明的上述和進(jìn)一步的目 的、優(yōu)點(diǎn)和特點(diǎn)將更明顯。圖1A-1B分別為根據(jù)本發(fā)明適合用于改進(jìn)圓柱型超導(dǎo)磁體的徑向和軸向截面圖； 并且圖2A-2C為根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例，執(zhí)行器的布置橫截面示意圖。圖3為本發(fā)明與現(xiàn)有技術(shù)的對(duì)比結(jié)果。本發(fā)明依賴于線圈在電流加電過程中的機(jī)械振動(dòng)，在這種準(zhǔn)則中，隨著線圈的振 動(dòng)，電流加電期間，作用在這些線圈上的力所引起的運(yùn)動(dòng)是大量的輕微運(yùn)動(dòng)，單個(gè)輕微運(yùn)動(dòng) 不足以導(dǎo)致失超，而不是少量的強(qiáng)烈運(yùn)動(dòng)，單個(gè)強(qiáng)烈運(yùn)動(dòng)足以導(dǎo)致失超。在本發(fā)明的某些實(shí)施例中，提供如壓電元件的執(zhí)行器。該執(zhí)行器的作用是在電流 加電期間，在線圈和推力面之間引入相對(duì)振動(dòng)。該振動(dòng)使得線圈和線圈架之間的運(yùn)動(dòng)更加 容易，以便將壓力在受控狀態(tài)以一些輕微運(yùn)動(dòng)的方式釋放掉，而不是現(xiàn)有技術(shù)中的允許壓 力增加，再以相對(duì)大的粘滑運(yùn)動(dòng)方式釋放出來。這樣壓力就以大量的小能量釋放出來，每個(gè) 小能量不足以導(dǎo)致超導(dǎo)線圈的失超。 本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例中，如圖2A所示，在一個(gè)線圈架11上安置了 一個(gè)壓電執(zhí)行器 10，以使推力面發(fā)生振動(dòng)。這種布置中，執(zhí)行器10的一側(cè)安置在線圈架11的外側(cè)，鄰近所 述推力面。在該執(zhí)行器的另一側(cè)，放置一質(zhì)量塊12，如一個(gè)不銹鋼環(huán)。所述執(zhí)行器振動(dòng)時(shí)， 該質(zhì)量塊的慣性確保了在所述線圈架的推力面36上施加了一些振動(dòng)。
在如圖2B所示的另一實(shí)施例中，執(zhí)行器10可以置于線圈架內(nèi)，鄰近線圈34。為了避免承受的全部軸向力施加在執(zhí)行器上，該執(zhí)行器可以置于所述線圈架推力面內(nèi)的一個(gè)凹 槽13里。該凹槽應(yīng)足夠深，以便容納處于松弛狀態(tài)的執(zhí)行器，但是又不能深至足夠容納下 處于通電狀態(tài)的執(zhí)行器。這允許該執(zhí)行器在推力面和線圈之間產(chǎn)生振動(dòng)，而不會(huì)讓處于穩(wěn) 定狀態(tài)的執(zhí)行器承受到軸向力。圖2C是第三個(gè)實(shí)施例，其中，線圈架15至少由3個(gè)部件組成，即一個(gè)中央管件16 和兩個(gè)環(huán)形端件17。每個(gè)環(huán)形端件都支撐著一個(gè)屏蔽線圈34"和一個(gè)主磁體的軸向最外 面的線圈34'。這種結(jié)構(gòu)中，執(zhí)行器10置于所述中央管件16和一個(gè)環(huán)形端件17之間。執(zhí) 行器10也可以置于所述中央管件和環(huán)型端件相對(duì)的兩個(gè)面之中的至少一個(gè)面形成的凹槽 18之中。該凹槽應(yīng)足夠深，以便容納處于松弛狀態(tài)的執(zhí)行器，但又不能深至容納下處于通電 狀態(tài)的執(zhí)行器。這允許所述執(zhí)行器使推力面產(chǎn)生振動(dòng)，而不會(huì)讓處于穩(wěn)定狀態(tài)的執(zhí)行器承 受到明顯的軸向力。任何一種結(jié)構(gòu)中，都有可能要求幾個(gè)執(zhí)行器分配在所述線圈的圓周周圍。例如，可 以提供六個(gè)執(zhí)行器，均勻地分布在每個(gè)末端線圈的圓周周面。也可以采用更少或者更多的 執(zhí)行器，需要反復(fù)試驗(yàn)以找到對(duì)任意特定結(jié)構(gòu)都最合適的執(zhí)行器的數(shù)目。甚至單個(gè)執(zhí)行器 也會(huì)具備本發(fā)明的某些優(yōu)點(diǎn)。圖3是根據(jù)本發(fā)明，在電流加電過程中使用一個(gè)和/或復(fù)數(shù)個(gè)執(zhí)行器的結(jié)果。沿 著X軸表示電流逐漸增大，從零至目標(biāo)工作電流lop。Y軸則是以能量方式表示的失超余量 即導(dǎo)致線圈失超所需的額外能量的大小。失超余量隨著電流的增大而減小，因?yàn)槌瑢?dǎo)導(dǎo)體 內(nèi)的磁通量密度增加(與增加的電流有關(guān))會(huì)減小失超余量。曲線20表示理論上的、理想的情形，沒有發(fā)生粘滑運(yùn)動(dòng)現(xiàn)象。失超余量隨著電流 的增加而逐漸減小。曲線22表示常見的電流加電過程。其中，存在一些明顯的粘滑運(yùn)動(dòng)事件，每個(gè)粘 滑運(yùn)動(dòng)事件均釋放出能量使線圈受熱，這明顯減小了失超余量。某些事件，如24所示，會(huì)使 失超余量降為零，這就會(huì)發(fā)生失超事件。另外，曲線26描述了根據(jù)本發(fā)明在線圈中裝配了振動(dòng)執(zhí)行器的失超余量的變化。 隨著電流加電的進(jìn)行，可以觀察到相對(duì)多的小的粘滑運(yùn)動(dòng)事件，如28所示。每個(gè)此類事件 均釋放出一些熱量，但不是顯著的數(shù)量。這樣線圈電流到達(dá)其目標(biāo)值Iop時(shí)并沒有失超余 額接近零的情況。應(yīng)該合理地選取執(zhí)行器的振動(dòng)頻率以引起線圈架共振，以將振動(dòng)效應(yīng)分布至整個(gè) 線圈，優(yōu)選的是分布至整個(gè)磁體，而不是只形成單個(gè)振動(dòng)點(diǎn)。為了實(shí)現(xiàn)這種諧振，優(yōu)選的方 法是將復(fù)數(shù)個(gè)執(zhí)行器置于對(duì)應(yīng)于線圈架所選振蕩模式的復(fù)數(shù)個(gè)波腹所在的或者與其相鄰 近的位置，該振蕩模式與所述執(zhí)行器運(yùn)轉(zhuǎn)時(shí)選用的共振頻率相對(duì)應(yīng)。對(duì)于典型的MRI成像 系統(tǒng)的圓柱型磁體，執(zhí)行器引入的振動(dòng)頻率預(yù)期為ΙΟΟ-ΙΟΟΟΟΗζ。盡管上述實(shí)施例采用一種電控振動(dòng)傳感器，然而，本發(fā)明可以通過外部磁場(chǎng)，采用 磁體線圈產(chǎn)生振動(dòng)來實(shí)現(xiàn)。正如在本領(lǐng)域中公知的那樣，NMR或者M(jìn)RI成像系統(tǒng)中提供有 梯度線圈。這些梯度線圈可以在三維方向(X、Y、和Z)提供快速變化的磁場(chǎng)，以能夠構(gòu)建圖 像。一種梯度線圈組件32如圖IB所示。所述梯度線圈組件通常包括用來在各個(gè)方向(X、 Υ、Ζ)產(chǎn)生時(shí)變磁場(chǎng)梯度的各自的線圈組件。
通過將振動(dòng)電流應(yīng)用在至少一個(gè)梯度線圈，借助線圈34的磁場(chǎng)與一個(gè)和/或復(fù)數(shù) 個(gè)梯度線圈產(chǎn)生的振蕩磁場(chǎng)的相互作用，從而在超導(dǎo)磁體的線圈34內(nèi)引起機(jī)械振動(dòng)。該振 動(dòng)很大程度上與前述布置所引入的振動(dòng)有相同的效果，然而，這種布置的優(yōu)點(diǎn)就是無需改 變磁體。所述梯度線圈本身被用作振動(dòng)執(zhí)行器。實(shí)際上，在超導(dǎo)線圈34電流加電期間，所 需全部是為所述梯度線圈施加頻率和大小都合適的振蕩電流。通過所述梯度線圈的振蕩磁 場(chǎng)為超導(dǎo)線圈引入機(jī)械振動(dòng)，將會(huì)確保無顯著的粘滑運(yùn)動(dòng)事件發(fā)生，隨著電流加電進(jìn)程的 失超余量的變化本質(zhì)上將遵循與圖2中曲線24相似的路線。如上所述，只要所選用的梯度線圈所產(chǎn)生的磁通量和磁體線圈34連接以引入所 需要的激振力和振蕩運(yùn)動(dòng)，x、Y和Z梯度線圈中的任何一個(gè)都可以用作執(zhí)行器。也就是說， 所選用的梯度線圈和磁體線圈34必須有一些互感。在 目前的布置中，使用Z梯度線圈能最 容易地滿足該準(zhǔn)則。正常情況下，不希望出現(xiàn)梯度線圈和磁體線圈之間的此類電磁耦合效應(yīng)，通常，使 用梯度屏蔽線圈來減輕這種電磁耦合。此外，通常將梯度線圈和磁體線圈置于公共的磁場(chǎng) 中心，以進(jìn)一步減輕磁耦合。為了使本發(fā)明得以實(shí)施，通過臨時(shí)將梯度線圈軸向偏離磁體幾 毫米，和/或使梯度屏蔽線圈不起作用(如，將這些梯度屏蔽線圈電氣短路)，故意臨時(shí)性地 增強(qiáng)電磁耦合效應(yīng)。作為替代的，給梯度屏蔽線圈施加一個(gè)頻率和大小都合適的振蕩電流，該梯度屏 蔽線圈可以用作執(zhí)行器。該梯度屏蔽線圈通常位于梯度線圈本身的徑向外側(cè)，因此，其可以 與磁體線圈34更有效地耦合?？梢圆捎枚喾N其它布置以在線圈和線圈架之間引入相對(duì)振動(dòng)。例如，可以設(shè)計(jì)布 置，如采用梯度線圈將渦流引入熱輻射屏蔽層3的材料中。由于這些渦流與磁體磁場(chǎng)之間 相互作用將會(huì)引起熱輻射屏蔽層的振動(dòng)。這些振動(dòng)會(huì)傳播至線圈架，并將所需的相對(duì)振動(dòng) 引入線圈架和線圈之間。另一種替代方式中，可以采用導(dǎo)電塊以使磁體磁場(chǎng)內(nèi)產(chǎn)生機(jī)械振動(dòng)。例如，可以機(jī) 械驅(qū)動(dòng)一鋁環(huán)或鋁塊在磁體孔內(nèi)或者在磁體孔外繞軸A-A進(jìn)行往復(fù)運(yùn)動(dòng)。導(dǎo)電塊內(nèi)感應(yīng)的 渦流會(huì)產(chǎn)生磁場(chǎng)，其與線圈產(chǎn)生的磁場(chǎng)相沖突，并在線圈上施加作用力，導(dǎo)致它們?cè)诰€圈架 上振動(dòng)。導(dǎo)電塊可以在磁體孔內(nèi)繞軸A-A旋轉(zhuǎn)，而不是往復(fù)運(yùn)動(dòng)，但有相似的效果。這種方法中，可以使導(dǎo)電塊在磁體孔外進(jìn)行往復(fù)、或者繞軸A-A的振動(dòng)。這種運(yùn)動(dòng) 反過來會(huì)在屏蔽線圈內(nèi)形成渦流，導(dǎo)致屏蔽線圈振動(dòng)，并如上所述將振動(dòng)傳播至線圈架和 線圈。本發(fā)明的任何一種實(shí)施例中，都無需連續(xù)地為線圈和線圈架施加振動(dòng)。這足夠?qū)?突發(fā)性振動(dòng)(例如每秒或者每五秒)應(yīng)用在使任何增加的壓力在其大到足以使粘滑運(yùn)動(dòng)事 件能導(dǎo)致失超之前就被釋放掉。盡管本發(fā)明已參照在電流加電過程中對(duì)線圈施加振動(dòng)進(jìn)行了描述，但是，本發(fā)明 也同樣適用于電流去電過程。電流去電是指逐步移除來自超導(dǎo)磁體的電流。隨著磁體內(nèi)電 流的減小，作用在線圈上的軸向力和徑向力也會(huì)下降。這會(huì)在一定程度上使線圈從電流加 電前其所在的位置上松脫。這個(gè)過程期間，至少部分線圈可軸向離開推力面，也可緊靠在線 圈架上。即使線圈內(nèi)電流下降，這些運(yùn)動(dòng)仍可能導(dǎo)致失超。在電流去電期間，通過使用振動(dòng) 執(zhí)行器可以避免此類失超事件。
權(quán)利要求
一種逐步改變安裝在線圈架(1)上的超導(dǎo)線圈(34)內(nèi)的電流大小的方法，其特征在于，所述方法包括在所述電流大小改變期間，使所述線圈產(chǎn)生相對(duì)于所述線圈架的機(jī)械振動(dòng)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中，通過外部振蕩磁場(chǎng)作用在所述超導(dǎo)線圈上引入 所述機(jī)械振動(dòng)。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中，提供一振動(dòng)執(zhí)行器(10)以控制它產(chǎn)生所述的機(jī) 械振動(dòng)，所述振動(dòng)執(zhí)行器(10)位于與所述線圈架接觸處。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的方法，其中，在所述線圈架上復(fù)數(shù)個(gè)位置處提供復(fù)數(shù)個(gè)振動(dòng) 執(zhí)行器，所述振動(dòng)執(zhí)行器在使用中引起所述線圈架的諧振。
5.根據(jù)前述任一權(quán)利要求所述的方法，其中，在改變所述電流大小時(shí)間歇地形成所述 振動(dòng)。
6.根據(jù)權(quán)利要求3-5中任一權(quán)利要求所述的方法，其中，所述執(zhí)行器在一凹槽(13)內(nèi)， 置于所述線圈和所述線圈架之間。
7.根據(jù)權(quán)利要求3-5中任一權(quán)利要求所述的方法，其中，所述執(zhí)行器置于所述線圈架 和一質(zhì)量塊(12)之間，所述質(zhì)量塊(12)提供慣性以使該執(zhí)行器振動(dòng)所述線圈架的推力面。
8.根據(jù)權(quán)利要求3-5中任一權(quán)利要求所述的方法，其中，所述線圈架由一種管件(16) 組成，所述管件(16)的一端連接有一種環(huán)形件(17)，所述執(zhí)行器置于所述管件和所述環(huán)形 件之間。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中，通過感應(yīng)在熱輻射屏蔽層材料中的渦流來引入 所述機(jī)械振動(dòng)，其中由于磁體的磁場(chǎng)與渦流相互作用引起所述熱輻射屏蔽層的振動(dòng)，該熱 輻射屏蔽層的振動(dòng)傳播至所述線圈，從而引入所述線圈相對(duì)于所述線圈架的所需振動(dòng)。
10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中，通過使一導(dǎo)電塊在磁體的磁場(chǎng)內(nèi)進(jìn)行機(jī)械振蕩 來弓I入所述機(jī)械振動(dòng)，所述磁體包含所述線圈。
11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的方法，其中，以機(jī)械方式驅(qū)動(dòng)導(dǎo)電塊在一磁體孔內(nèi)實(shí)現(xiàn)往 復(fù)運(yùn)動(dòng)。
12.根據(jù)權(quán)利要求10所述的方法，其中，導(dǎo)電塊繞所述線圈的軸旋轉(zhuǎn)。
13.一種使超導(dǎo)線圈相對(duì)于安裝該線圈的線圈架進(jìn)行機(jī)械振動(dòng)的裝置，該裝置包括一 種位于與所述線圈架接觸處的振動(dòng)執(zhí)行器(10)，所述振動(dòng)執(zhí)行器(10)是可控的，以產(chǎn)生所 述的機(jī)械振動(dòng)。
14.根據(jù)權(quán)利要求13所述的裝置，其中，在所述線圈架上復(fù)數(shù)個(gè)位置處提供復(fù)數(shù)個(gè)振 動(dòng)執(zhí)行器，所述振動(dòng)執(zhí)行器在使用中引起所述線圈架的諧振。
15.根據(jù)權(quán)利要求13-14中任一權(quán)利要求所述的裝置，其中，所述執(zhí)行器或每個(gè)執(zhí)行器 在一相應(yīng)的凹槽(13)內(nèi)，置于所述線圈和所述線圈架之間。
16.根據(jù)權(quán)利要求13-14中任一權(quán)利要求所述的裝置，其中，所述執(zhí)行器或每個(gè)執(zhí)行器 置于所述線圈架和一相應(yīng)的質(zhì)量塊(12)之間，所述質(zhì)量塊(12)在使用中提供慣性以使所 述執(zhí)行器振動(dòng)所述線圈架的推力面。
17.根據(jù)權(quán)利要求13-16中任一權(quán)利要求所述的裝置，其中，所述線圈架由一種管件 (16)組成，所述管件(16)的一端連接有一種環(huán)形件(17)，所述執(zhí)行器或每個(gè)執(zhí)行器置于所 述管件和所述環(huán)形件之間。
18.一種使超導(dǎo)線圈相對(duì)于安裝該線圈的線圈架進(jìn)行機(jī)械振動(dòng)的裝置，該裝置包括一 在磁體的磁場(chǎng)內(nèi)進(jìn)行機(jī)械振蕩的導(dǎo)電塊，所述磁體包含所述線圈。
19.根據(jù)權(quán)利要求18所述的裝置，其中，以機(jī)械方式驅(qū)動(dòng)所述導(dǎo)電塊在一磁體孔內(nèi)實(shí) 現(xiàn)往復(fù)運(yùn)動(dòng)。
20.根據(jù)權(quán)利要求18所述的裝置，其中，所述導(dǎo)電塊繞所述線圈的軸進(jìn)行旋轉(zhuǎn)。
21.—種參考附圖中的圖3進(jìn)行詳細(xì)描述的方法。
全文摘要
本發(fā)明提供一種以漸增方式為安裝在線圈架上的超導(dǎo)線圈進(jìn)行電流加電或者去電方法，其中線圈相對(duì)于線圈架進(jìn)行振動(dòng)。
文檔編號(hào)G01R33/3815GK101825693SQ20101011670
公開日2010年9月8日 申請(qǐng)日期2010年3月3日 優(yōu)先權(quán)日2009年3月3日
發(fā)明者休·亞歷山大·布萊克斯, 羅伯特·斯萊德, 羅素·彼得·戈?duì)? 馬塞爾·簡(jiǎn)·瑪麗·克呂普 申請(qǐng)人:英國(guó)西門子公司