專利名稱：形狀和位置誤差接觸式檢測(cè)測(cè)量架裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及形狀和位置誤差的檢測(cè)領(lǐng)域，具體涉及一種形狀和位置誤差接觸 式檢測(cè)測(cè)量架裝置。
背景技術(shù)：
形狀和位置公差是保證產(chǎn)品的裝配使用性能和控制產(chǎn)品加工成本的有效手段，而 產(chǎn)品在加工過(guò)程中往往由于加工設(shè)備、刀具、工裝夾具以及操作者工藝水平的原因出現(xiàn)尺 寸、形狀和位置上的偏差，這就需要對(duì)產(chǎn)品的形狀和位置誤差進(jìn)行檢測(cè)與評(píng)定。在形狀誤差 和位置誤差的接觸式檢測(cè)過(guò)程中，需要采用一定的檢測(cè)原則并在產(chǎn)品被測(cè)要素上按一定的 布點(diǎn)規(guī)則提取一定數(shù)量的數(shù)據(jù)點(diǎn)，然后再按照相關(guān)原則對(duì)數(shù)據(jù)點(diǎn)進(jìn)行處理，之后才能得到 產(chǎn)品的形狀誤差和位置誤差值并以此來(lái)評(píng)定產(chǎn)品是否滿足其形狀和位置公差帶要求。
發(fā)明內(nèi)容本實(shí)用新型的目的在于提供一種使用方便，移動(dòng)快速、精度高，可實(shí)現(xiàn)X、Y、Z三方 向測(cè)量的形狀和位置誤差接觸式檢測(cè)測(cè)量架裝置。實(shí)現(xiàn)本實(shí)用新型目的的技術(shù)方案一種形狀和位置誤差接觸式檢測(cè)測(cè)量架裝置，檢測(cè)臺(tái)上固定安裝有相互垂直的兩 列水平直線導(dǎo)軌；每列水平直線導(dǎo)軌上均設(shè)有與之滑動(dòng)連接的水平滑塊，水平滑塊上安裝 有燕尾槽底座，測(cè)量支架通過(guò)燕尾槽滑塊與燕尾槽底座配合安裝，測(cè)量支架可以沿垂直于 水平直線導(dǎo)軌的方向移動(dòng)；所述的測(cè)量支架上安裝有豎直導(dǎo)軌，豎直導(dǎo)軌上設(shè)有與之滑動(dòng) 連接的豎直滑塊；所述的豎直滑塊上安裝有測(cè)量指示計(jì)。如上所述的一種形狀和位置誤差接觸式檢測(cè)測(cè)量架裝置，水平直線導(dǎo)軌為雙排結(jié) 構(gòu)。如上所述的一種形狀和位置誤差接觸式檢測(cè)測(cè)量架裝置，水平滑塊、豎直滑塊和 燕尾槽底座上均設(shè)有止動(dòng)裝置。如上所述的一種形狀和位置誤差接觸式檢測(cè)測(cè)量架裝置，檢測(cè)臺(tái)上設(shè)有工件定位
直o本實(shí)用新型的效果在于利用該測(cè)量架裝置，可以方便快速的對(duì)X，Y，Z三個(gè)方向 的數(shù)據(jù)點(diǎn)進(jìn)行測(cè)量獲取數(shù)據(jù)，然后在按照一定的原則對(duì)數(shù)據(jù)進(jìn)行處理，進(jìn)而實(shí)現(xiàn)產(chǎn)品形狀 和位置誤差的檢測(cè)與評(píng)定。本裝置可以沿X、Y、Z三個(gè)方向方便快速的移動(dòng)，定位方便，精度 高，提高了數(shù)據(jù)點(diǎn)的測(cè)量效率。根據(jù)產(chǎn)品實(shí)際檢測(cè)需求，可以方便的更改X、Y、Z向的測(cè)量范 圍。

圖1為本實(shí)用新型所提供的一種形狀和位置誤差接觸式檢測(cè)測(cè)量架裝置的結(jié)構(gòu) 示意圖。
3[0011]圖中1.水平直線導(dǎo)軌；2.水平滑塊；3.測(cè)量支架；4.豎直導(dǎo)軌；5.豎直滑塊； 6.止動(dòng)裝置；7.工裝定位裝置；8.檢測(cè)臺(tái)；9.燕尾槽底座；10.燕尾槽滑塊。
具體實(shí)施方式
以下結(jié)合附圖和實(shí)施例對(duì)本實(shí)用新型作進(jìn)一步描述。如圖1所示，一種形狀和位置誤差接觸式檢測(cè)測(cè)量架裝置，檢測(cè)臺(tái)8上固定安裝有 相互垂直的兩列雙排水平直線導(dǎo)軌1。每列水平直線導(dǎo)軌1上均設(shè)有與之滑動(dòng)連接的水平 滑塊2，水平滑塊2上安裝有燕尾槽底座9，測(cè)量支架3通過(guò)燕尾槽滑塊10與燕尾槽底座9 配合安裝，測(cè)量支架3可以沿垂直于水平直線導(dǎo)軌1的方向移動(dòng)。測(cè)量支架3上安裝有豎 直導(dǎo)軌4，豎直導(dǎo)軌4上設(shè)有與之滑動(dòng)連接的豎直滑塊5。豎直滑塊5上吸附有帶有指示計(jì) 的磁力表座。水平滑塊2、豎直滑塊5和燕尾槽底座9上均設(shè)有止動(dòng)裝置6。本實(shí)施例中， 止動(dòng)裝置6采用螺栓加墊片的組合，當(dāng)然也可以采用其他現(xiàn)有技術(shù)實(shí)現(xiàn)止動(dòng)。檢測(cè)臺(tái)8上 設(shè)有工件定位裝置7，本實(shí)施例中，定位裝置7為定位板和螺栓的組合，當(dāng)然也可以采用其 他現(xiàn)有技術(shù)實(shí)現(xiàn)工件的定位。本實(shí)用新型的加工過(guò)程如下在檢測(cè)臺(tái)8上加工出相互垂直的用以安裝固定高精度水平直線導(dǎo)軌1的導(dǎo)軌槽， 導(dǎo)軌槽的加工公差等級(jí)不低于檢測(cè)臺(tái)8的加工公差等級(jí)，導(dǎo)軌槽的安裝孔尺寸依據(jù)導(dǎo)軌安 裝孔尺寸而定，并有防振動(dòng)裝置。其次，依據(jù)水平滑塊2安裝孔尺寸及測(cè)量要求設(shè)計(jì)燕尾槽 及測(cè)量支架3尺寸；再次，采取合理的安裝工藝裝配相關(guān)零部件；最后，將帶有指示計(jì)的磁 力表座吸附于滑塊上。本實(shí)用新型的使用方式如下將待測(cè)產(chǎn)品放置在檢測(cè)臺(tái)8上，利用工裝定位裝置7調(diào)整待測(cè)產(chǎn)品的放置方向，使 待測(cè)面與水平直線導(dǎo)軌1平行。分別滑動(dòng)水平滑塊2和豎直滑塊5，測(cè)量待測(cè)產(chǎn)品平面的形 狀和位置偏差，根據(jù)指示計(jì)測(cè)量數(shù)據(jù)對(duì)該產(chǎn)品的形狀和位置公差行評(píng)定。本測(cè)量裝置可測(cè)量范圍為X方向500mm ;Y方向300mm ;Z向300mm。當(dāng)然，本裝置 的測(cè)量范圍也可以根據(jù)檢測(cè)臺(tái)的具體形狀尺寸做出調(diào)整。顯然，本領(lǐng)域的技術(shù)人員可以對(duì)本實(shí)用新型進(jìn)行各種改動(dòng)和變型而不脫離本實(shí)用 新型的精神和范圍。倘若這些修改和變型屬于本實(shí)用新型權(quán)利要求及其等同技術(shù)的范圍之 內(nèi)，則本實(shí)用新型也意圖包含這些改動(dòng)和變型在內(nèi)。
權(quán)利要求一種形狀和位置誤差接觸式檢測(cè)測(cè)量架裝置，其特征在于檢測(cè)臺(tái)(8)上固定安裝有相互垂直的兩列水平直線導(dǎo)軌(1)；每列水平直線導(dǎo)軌(1)上均設(shè)有與之滑動(dòng)連接的水平滑塊(2)，水平滑塊(2)上安裝有燕尾槽底座(9)，測(cè)量支架(3)通過(guò)燕尾槽滑塊(10)與燕尾槽底座(9)配合安裝，測(cè)量支架(3)可以沿垂直于水平直線導(dǎo)軌(1)的方向移動(dòng)；所述的測(cè)量支架(3)上安裝有豎直導(dǎo)軌(4)，豎直導(dǎo)軌(4)上設(shè)有與之滑動(dòng)連接的豎直滑塊(5)；所述的豎直滑塊(5)上安裝有測(cè)量指示計(jì)。
2.按照權(quán)利要求1所述的一種形狀和位置誤差接觸式檢測(cè)測(cè)量架裝置，其特征在于 所述的水平直線導(dǎo)軌(1)為雙排結(jié)構(gòu)。
3.按照權(quán)利要求1所述的一種形狀和位置誤差接觸式檢測(cè)測(cè)量架裝置，其特征在于 所述的水平滑塊(2)、豎直滑塊(5)和燕尾槽底座(9)上均設(shè)有止動(dòng)裝置(6)。
4.按照權(quán)利要求1所述的一種形狀和位置誤差接觸式檢測(cè)測(cè)量架裝置，其特征在于 所述的檢測(cè)臺(tái)(8)上設(shè)有工件定位裝置(7)。
專利摘要本實(shí)用新型涉及形狀和位置誤差的檢測(cè)領(lǐng)域，具體涉及一種形狀和位置誤差接觸式檢測(cè)測(cè)量架裝置。其特點(diǎn)在于檢測(cè)臺(tái)上固定安裝有相互垂直的兩列水平直線導(dǎo)軌；每列水平直線導(dǎo)軌上均設(shè)有與之滑動(dòng)連接的水平滑塊，水平滑塊上安裝有燕尾槽底座，測(cè)量支架通過(guò)燕尾槽滑塊與燕尾槽底座配合安裝，測(cè)量支架可以沿垂直于水平直線導(dǎo)軌的方向移動(dòng)；所述的測(cè)量支架上安裝有豎直導(dǎo)軌，豎直導(dǎo)軌上設(shè)有與之滑動(dòng)連接的豎直滑塊；所述的豎直滑塊上安裝有測(cè)量指示計(jì)。本裝置使用方便，移動(dòng)快速、精度高，可實(shí)現(xiàn)X、Y、Z三方向測(cè)量。
文檔編號(hào)G01B5/00GK201583235SQ20092027294
公開(kāi)日2010年9月15日 申請(qǐng)日期2009年11月27日 優(yōu)先權(quán)日2009年11月27日
發(fā)明者朱松波, 閆學(xué)剛 申請(qǐng)人:中國(guó)航天科工集團(tuán)第三研究院第八三五七研究所