專利名稱：采用投影條紋技術(shù)的光學(xué)導(dǎo)航系統(tǒng)和方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及運(yùn)動傳感光學(xué)裝置，尤其涉及采用投影條紋技術(shù)的光學(xué)導(dǎo)航系統(tǒng)和方法。
背景技術(shù)：
現(xiàn)有的相對運(yùn)動檢測光學(xué)裝置采用模式相關(guān)技術(shù)，當(dāng)光學(xué)裝置經(jīng)過表面時(shí)(或者，當(dāng)所述表面穿過光學(xué)裝置時(shí))，通過捕捉反映所述表面特征的圖案來確定光學(xué)裝置與所述表面之間的相對運(yùn)動。通過把一個(gè)圖案幀與下一個(gè)圖案幀的對照來確定所述光學(xué)裝置的運(yùn)動距離和方向。這種技術(shù)通常檢測表面上的陰影(shadow)的亮度變化，它的靈敏度和可用性取決于捕捉的表面圖案的亮度對比。例如，相對運(yùn)動傳感器用于計(jì)算機(jī)指針(即，鼠標(biāo))控制。這種指針一般采用光學(xué)裝置來控制計(jì)算機(jī)屏幕上指針的位置。在更常用的場合中，光學(xué)導(dǎo)航信息可以用來補(bǔ)償掃描裝置沿掃描路徑的曲線和旋轉(zhuǎn)運(yùn)動的失真。
專利文件5786804、5578813、5644139、6442725、6281882和6433780描述了光學(xué)鼠標(biāo)、其它手持式導(dǎo)航設(shè)備和手持式掃描儀的例子。一般的現(xiàn)有裝置在鏡面或光澤表面、均勻表面、以及具有淺部特征(shallow feature)的表面(如玻璃或白板)上不太好操作。在這些裝置中，為了提高圖像對比度，鏡面反射通常被擋住了，而僅僅捕捉來自表面上的散射的光輻射。一般來說，所使用的平面必須能夠投射陰影。通常，這就意味著被觀察的表面特征必須具有關(guān)于所使用的光輻射波長的幾何光學(xué)范疇的維數(shù)。因此，對特定表面類型的限制是現(xiàn)有光學(xué)鼠標(biāo)設(shè)計(jì)的典型缺點(diǎn)。
發(fā)明概述按照本發(fā)明，提供一種用于確定相對于導(dǎo)航地帶的運(yùn)動的光學(xué)導(dǎo)航系統(tǒng)。所述系統(tǒng)包括可以用來產(chǎn)生兩條交疊光束的光學(xué)導(dǎo)航裝置，這兩條交疊光束為相干的光輻射。這兩條交疊光束可以用來產(chǎn)生干涉條紋圖，使得具有條紋圖的兩條交疊光束可以用來照射導(dǎo)航地帶的表面部分。所述光學(xué)導(dǎo)航裝置包括檢測器陣列和成像元件，檢測器陣列用于響應(yīng)輸入光學(xué)像圖而產(chǎn)生輸出信號模式，，成像元件設(shè)置成將用兩條交疊光束照射的導(dǎo)航地帶表面部分成像在成像在檢測器陣列上。
本發(fā)明還提供用于確定光學(xué)導(dǎo)航系統(tǒng)與導(dǎo)航地帶之間的相對運(yùn)動的方法，所述方法包括產(chǎn)生兩條交疊相干光束；以及在兩條交疊光束之間產(chǎn)生干涉條紋圖。所述方法還包括用干涉條紋圖照射導(dǎo)航地帶的表面部分；將條紋照射表面部分成像；以及響應(yīng)所述成像的條紋照射表面部分而產(chǎn)生信號模式。


為更完整地理解本發(fā)明，現(xiàn)在參考聯(lián)系附圖進(jìn)行的以下說明，附圖中圖1為描述按照本發(fā)明實(shí)施例的光學(xué)導(dǎo)航系統(tǒng)的高級方框圖；
圖2A為描述按照本發(fā)明實(shí)施例的采用投影條紋技術(shù)的光學(xué)導(dǎo)航系統(tǒng)實(shí)施方案的光路圖；圖2B為描述按照本發(fā)明實(shí)施例的可供選擇的采用投影條紋技術(shù)的光學(xué)導(dǎo)航系統(tǒng)實(shí)施方案的光路圖；圖2C為描述按照本發(fā)明實(shí)施例的另一種可供選擇的采用投影條紋技術(shù)的光學(xué)導(dǎo)航的系統(tǒng)實(shí)施方案的光路圖；圖3為描述按照本發(fā)明實(shí)施例的用于以光學(xué)方式確定導(dǎo)航表面相對于導(dǎo)航裝置的兩維運(yùn)動的操作序列的流程圖；以及圖4為描述按照本發(fā)明實(shí)施例的的計(jì)算機(jī)系統(tǒng)的簡圖。
本發(fā)明的詳細(xì)說明圖1為描述按照本發(fā)明實(shí)施例的光學(xué)導(dǎo)航系統(tǒng)10的高級方框圖。光學(xué)導(dǎo)航系統(tǒng)10確定光學(xué)裝置101(如光學(xué)鼠標(biāo))與導(dǎo)航地帶102之間的相對位置，導(dǎo)航地帶102可以處在相對于光學(xué)裝置101的在任何方向(如箭頭107、108所示)的運(yùn)動中。下文中使用的導(dǎo)航地帶102是相對于光學(xué)裝置101運(yùn)動或變換位置的物體，使得光學(xué)裝置101和導(dǎo)航地帶102之間的相對運(yùn)動或位置確定一種輸出信號。
工作時(shí)，導(dǎo)航地帶102被光學(xué)裝置101中光源模塊103發(fā)出的光輻射110照射，通過與導(dǎo)航地帶102的相互作用來處理光輻射110，使得照射光輻射110的圖案被修改成出射光輻射112，出射光輻射112由導(dǎo)航地帶102傳播(例如透射或反射)。在本發(fā)明的一些實(shí)施例中，通過相互作用來修改出射光輻射112的圖案，例如，利用導(dǎo)航地帶102的表面106來反射或散射照射光輻射110?；蛘撸?，可以通過在光輻射110穿過導(dǎo)航地帶102的體積時(shí)發(fā)生的相互作用來修改所述圖案。
檢測器(例如檢測器陣列104)捕獲具有圖案的出射光輻射112并且產(chǎn)生信號114。由于照射光輻射110中兩個(gè)入射波陣面的干涉以及它們與導(dǎo)航地帶102的相互作用，在出射光輻射112中存在條紋圖。這些條紋圖是出射光輻射112的空間亮度分布中的明暗調(diào)制，直接對應(yīng)于導(dǎo)航地帶102的表面106的表面高度變化。可以利用檢測器陣列例如，CCD、CMOS、GaAs、非晶形硅或任何其它適合的檢測器陣列來進(jìn)行所述捕獲。一般來說，使從光源模塊103發(fā)出的光輻射110的波長譜與檢測器陣列104的波長響應(yīng)相匹配，以便優(yōu)化信號效率。然后，信號114被發(fā)送至處理器105，在處理器105中信號114被進(jìn)一步處理，并且響應(yīng)信號114而產(chǎn)生輸出信號116。例如，在處理器105中，傳統(tǒng)上可以采用比較連續(xù)的各對捕獲的幀的相關(guān)算法來進(jìn)行確定相對運(yùn)動的處理。在本發(fā)明的一些實(shí)施例中，可以提供定時(shí)信號以便確定相對速度。例如，輸出信號116可以配置成激勵計(jì)算機(jī)屏幕中指針的位置。
為了結(jié)構(gòu)的整體化，通常把光源模塊103和檢測器陣列104一起封裝在光學(xué)裝置101中。也可以任選地把處理器105封裝在光學(xué)裝置中，例如光學(xué)裝置101中，但處理器105也可以置于光學(xué)導(dǎo)航系統(tǒng)10的其它地方。在本發(fā)明的一些實(shí)施例中，光學(xué)裝置101代表計(jì)算機(jī)系統(tǒng)中的光學(xué)鼠標(biāo)，操作者可以任選地手動操作光學(xué)鼠標(biāo)。
圖2A為描述按照本發(fā)明實(shí)施例的采用投影條紋技術(shù)的光學(xué)導(dǎo)航系統(tǒng)實(shí)施方案200的光路圖。系統(tǒng)200包括邁克耳孫/泰門-格林(Michelson/Twyman-Green)干涉計(jì)配置，所述干涉計(jì)配置包括分束器24和反射器25、26，分束器24和反射器25、26把來自相干光源21的光線分成兩條交疊相干光束204、206(平面波)并改變它們的方向，相干光束204、206照射導(dǎo)航表面22。來自相干光源21(例如VCSEL激光源)的光線以發(fā)散光束201的形式發(fā)射，然后例如利用準(zhǔn)直元件23準(zhǔn)直發(fā)散光束201以便形成平行光束202。在分束器24，平行光束202被部分反射成為反射光束203a，并且被部分透射成為透射光束205a。反射光束203a經(jīng)反射器25反射成為反射光束203b，然后反射光束203b部分穿過分束器24成為照射光束204。同樣，透射光束205a被反射成為反射光束205b，然后反射光束205b部分穿過分束器24成為照射光束206。
反射器26以相對于反射器25法線的小楔形角傾斜，使得照射光束204和206相互以角度θ交疊，如照射光束204的波矢量 和照射光束206的波矢量 的附加分部圖中所示。兩個(gè)平面波204、206(可以不失一般性地把它們視為相同的亮度)經(jīng)干涉后，在導(dǎo)航表面22上產(chǎn)生黑白條紋相間的投影圖案，其條紋間距如下d2＝(波長/2)(sin(θ/2))其中，條紋間距d2為黑條紋中心至下一個(gè)相鄰白條紋中心的距離，θ為波矢量 和 的夾角。這便是眾所周知的摩爾(Moire)測量技術(shù)，采用這種方法可測量表面變形、表面波動和表面輪廓。為了簡單起見，沒有顯示反射光束203b在分束器24的部分反射和反射光束205b在分束器24的部分透射形成的光束。反射光束205b在分束器24的部分透射可以重新進(jìn)入激光光源21的腔體內(nèi)，可能會對激光模性能造成潛在的負(fù)面影響，但可以通過輕微地旋轉(zhuǎn)分束器24以避免光束的重新進(jìn)入?；蛘撸缈梢栽诩す馄髋c分束器之間設(shè)置隔離器(例如Faraday旋轉(zhuǎn)器)。
如果一個(gè)表面(如導(dǎo)航表面22)被兩條相干平面波(如照射光束204、206)照射，那么光束會產(chǎn)生干涉并形成一系列亮暗相間的輪廓圖案，其中所述表面橫貫一些投影條紋。如果把這個(gè)照射表面成像檢測器陣列28(例如CMOS陣列成像器或攝像機(jī))上，則產(chǎn)生表面輪廓(即表面高度變化)的永久性記錄。例如，可以成像在通過利用成像元件27捕獲發(fā)散光線207和把光線208重新會聚在檢測器陣列28的相應(yīng)像素上來把導(dǎo)航表面22上的點(diǎn)成像在檢測器陣列28上。從而把導(dǎo)航表面22上的每一個(gè)點(diǎn)成像在檢測器陣列28上唯一的點(diǎn)上。
圖2B為描述按照本發(fā)明實(shí)施例的可供選擇的采用投影條紋技術(shù)的光學(xué)導(dǎo)航系統(tǒng)實(shí)施方案220的光路圖。來自例如VCSEL激光源的相干光源21的光線發(fā)射到導(dǎo)波光路上，例如光纖221上。在分束器213，光線被分到多條導(dǎo)波光路中(為簡化起見，圖中用雙光纖222和223表示)，光纖222、223產(chǎn)生空間上隔開距離d1的各自的相干點(diǎn)光源A和B。來自雙相干點(diǎn)光源A和B中的每一個(gè)的光線通過具有不同光程長的不同非導(dǎo)波光路傳輸至導(dǎo)航表面212。例如，來自點(diǎn)光源A的入射在導(dǎo)航表面212的P點(diǎn)226的光線通過具有光程長 的非導(dǎo)波光路224傳輸，而來自點(diǎn)光源B的入射在導(dǎo)航表面212的P點(diǎn)226的光線通過具有光程長 的非導(dǎo)波光路225傳輸。
按照結(jié)合圖2A提供的分析，從彼此靠近的隔開的相干點(diǎn)光源A和B射向?qū)Ш奖砻?12的光線交疊并產(chǎn)生干涉圖。所述干涉圖入射在導(dǎo)航表面212上，在導(dǎo)航表面212上，所述干涉圖被導(dǎo)航表面212的表面外形進(jìn)一步調(diào)制，產(chǎn)生所述表面高度變化的唯一的光學(xué)表示。在圖2B中，圖中所示的來自表面212的P點(diǎn)226的發(fā)散光線227由成像元件214通過會聚光線228成像在檢測器陣列215的元件或像素216上。同樣地，來自組合的相干點(diǎn)光源A和B的交疊光線照射導(dǎo)航表面212上各點(diǎn)的連續(xù)統(tǒng)一體。形成導(dǎo)航表面的所述點(diǎn)的連續(xù)統(tǒng)一體調(diào)制反射光線的空間亮度分布，然后成像在所述反射光線的空間亮度分布被成像在檢測器陣列215的相應(yīng)像素上。從而把導(dǎo)航表面212上的每個(gè)點(diǎn)成像在檢測器陣列215的唯一位置上。在檢測器陣列215中，對來自兩條光路的光線的干涉作出響應(yīng)而產(chǎn)生信號。根據(jù)傳統(tǒng)的空間相關(guān)算法確定兩維相對運(yùn)動，例如圖2B的速度軸分部圖中所示的速度分量Vx、Vz。
結(jié)合圖2A和2B所描述的技術(shù)具有作為光學(xué)導(dǎo)航技術(shù)的用途，例如用于光學(xué)鼠標(biāo)。在計(jì)算機(jī)的鼠形外殼中，光源和檢測器在空間位置上是彼此相對固定的，作為一個(gè)單元相對于導(dǎo)航表面22平移。如果導(dǎo)航表面平移，則在檢測器陣列處所見的條紋圖(亮度變化)就發(fā)生改變。
在圖2A中，條紋間距d2定義在一個(gè)體積中的三維空間條紋圖，光束204和206在所述體積中交疊和干涉。因此，這種三維條紋圖將把兩維條紋像圖投影在與所述三維條紋圖相交的任何橫向或縱向表面上。具體地說，由光束204和206的交疊產(chǎn)生的干涉圖把條紋像圖投影在導(dǎo)航表面22上。
圖2C為描述按照本發(fā)明實(shí)施例的另一種可供選擇的采用投影條紋技術(shù)的光學(xué)導(dǎo)航的系統(tǒng)實(shí)施方案220的光路圖。光學(xué)導(dǎo)航裝置231提供安裝在結(jié)構(gòu)支持件232上的光源233a、233b，檢測器陣列215以及光學(xué)元件214、235a和235b。交叉的相干光束236a和236b交疊且產(chǎn)生干涉(或摩爾(Moire))條紋圖237，條紋圖237照射導(dǎo)航地帶212。干涉圖237被導(dǎo)航地帶的外形進(jìn)一步調(diào)制，并且通過光學(xué)元件214成像在檢測器陣列215上。如圖2A和2B中所示，隨著所述成像的已調(diào)制干涉圖的改變，檢測到光學(xué)導(dǎo)航裝置231和導(dǎo)航地帶212之間的相對運(yùn)動。
如圖2C所示，交疊的相干光束236a和236b分別由分離的相干光源233a和233b產(chǎn)生。光源可以有多種選擇，例如，發(fā)射二極管、激光二極管、激光器、或垂直腔面發(fā)射激光器(VCSELs)。如果需要穩(wěn)定條紋圖，可以通過對光源相互鎖相取得及維持，可以通過采用多種傳統(tǒng)技術(shù)中的任何一種(例如參見Snadden et al.，OpticsLetters，Vol.22，No.12，P892-894，1997年6月15日，以及其中的引用文獻(xiàn))使所述各光源彼此鎖相來實(shí)現(xiàn)和維持兩個(gè)分離的激光光源之間的相干?；蛘?，可以通過采用與圖2A和2B中所示的相似的方法來分裂來自單一光源的相干光束而產(chǎn)生交疊的相干光束236a和236b。需要時(shí)可以在本發(fā)明的任何實(shí)施例中使用波長可調(diào)光源。如圖2C所示，使各個(gè)發(fā)散光束235a、235b準(zhǔn)直并且通過衍射元件234a、234b使其改變方向，以便提供交疊的相干光束236a、236b?；蛘撸梢詫l(fā)散的光束235a、235b準(zhǔn)直并且采用單個(gè)或多個(gè)非衍射光學(xué)元件使其改變方向。
通過用電子學(xué)方法處理導(dǎo)航表面22或212上的投影條紋的檢測到圖像信號(對連續(xù)圖像幀進(jìn)行相關(guān)計(jì)算)，來獲得導(dǎo)航表面的相對兩維平面內(nèi)運(yùn)動(移動、速度)。然后，處理器的輸出信號可用于控制計(jì)算機(jī)屏幕上指針的位置。
通過比較所保存的連續(xù)幀，處理器105(見圖1)可以確定相對運(yùn)動，以便可以利用對連續(xù)幀的相關(guān)算來確定相對平面運(yùn)動的距離和方向。所捕獲的幀與各連續(xù)的捕獲的幀部分交疊。因此，導(dǎo)航軟算法就能“看見”不止一個(gè)幀上的一些特定的可識別點(diǎn)，然后計(jì)算每個(gè)可識別點(diǎn)的移動距離和方向。通過保存連續(xù)的幀對，可以在處理器105中使用傳統(tǒng)的相關(guān)算法來確定交疊特性，從而產(chǎn)生運(yùn)動的方向和幅度。這種處理在美國專利5786804中有詳細(xì)說明，且這種處理廣泛地應(yīng)用在依賴于對連續(xù)表面幀進(jìn)行比較的光學(xué)指點(diǎn)器中，在這種光學(xué)指點(diǎn)器中，例如，按照傳統(tǒng)技術(shù)，通過由從表面反射的光輻射所形成的陰影來產(chǎn)生表面幀。
圖3為描述按照本發(fā)明實(shí)施例的用于以光學(xué)方式確定導(dǎo)航表面相對于導(dǎo)航裝置的兩維運(yùn)動的操作序列300的流程圖。在操作302中，提供相干光束，例如光束202，在操作303中，所述光束被分裂成兩條交疊(交叉)的相干光束，例如光束204和206并且改變它們的方向?；蛘?，在操作302和303中，兩條交疊相干光束中的每條分別由分離的相干光源產(chǎn)生。在這種情況下，如果需要可以采用兩個(gè)光源的相互鎖相以維持相干。然后，將分別產(chǎn)生的光束準(zhǔn)直并且使用單個(gè)(或多個(gè))衍射(或非衍射)光學(xué)元件改變它們的方向。在操作304中，兩條交疊的相干光束產(chǎn)生干涉圖，在操作305中，所述干涉圖被投影在導(dǎo)航表面，如導(dǎo)航表面22上。在操作306中，把投影的干涉圖成像在檢測器陣列上，如檢測器陣列28上，所述檢測器陣列提供信號，在操作307中處理所述信號。在操作308中，使連續(xù)的幀對中所述處理后的信號相關(guān)聯(lián)，以便確定導(dǎo)航表面22和檢測器陣列28的兩維運(yùn)動。在操作309中，提供兩維位置和/或速度輸出。
以上的描述涉及利用兩維投影條紋圖涉及檢測器相對于導(dǎo)航表面的平面內(nèi)運(yùn)動的確定，這種兩維技術(shù)對于光學(xué)鼠標(biāo)的使用具有高度潛在的效用。
圖4為描述按照本發(fā)明實(shí)施例的的計(jì)算機(jī)系統(tǒng)400的簡圖。。光學(xué)鼠標(biāo)410相對于固定的導(dǎo)航表面420運(yùn)動，并且光學(xué)鼠標(biāo)410通常包括相干光源(類似于圖1中的光源模塊103)和檢測器(類似于圖1中的檢測器陣列104)。處理各連續(xù)的位置圖像并且通過有線或無線方式將其發(fā)送至CPU 430予以顯示，通?？刂朴?jì)算機(jī)顯示屏幕440上小箭頭或指針的位置。通常，例如，通過類似于圖1中的圖像處理器105的處理器，執(zhí)行光學(xué)鼠標(biāo)410內(nèi)部的位置處理?；蛘?，有可能以有線或無線方式從光學(xué)鼠標(biāo)410向CPU 430發(fā)送原始圖像數(shù)據(jù)(或其它中間數(shù)據(jù))以供處理。光學(xué)鼠標(biāo)410任選地由操作者手動操作。一般，CPU 430與用戶輸入裝置，例如鍵盤連接。
雖然結(jié)合特定實(shí)施例對本發(fā)明進(jìn)行了說明，但是顯然，基于以上所述的啟發(fā)，許多替換、修改和變化對于本領(lǐng)域技術(shù)人員來說是顯而易見的，因此，本發(fā)明意圖涵蓋所有符合所附權(quán)利要求書要旨與范圍的其它這種替換、修改和變化。
權(quán)利要求
1.一種用于確定相對于導(dǎo)航地帶102的運(yùn)動107、108的光學(xué)導(dǎo)航系統(tǒng)10，所述系統(tǒng)包括光學(xué)導(dǎo)航裝置101，可以用來產(chǎn)生相干光輻射的兩條交疊光束204、206，所述兩條交疊光束可以用來產(chǎn)生干涉條紋圖237，使得具有所述條紋圖的兩條交疊光束可以用來照射所述導(dǎo)航地帶102的表面部分22、212；檢測器陣列215，可以用來響應(yīng)輸入光學(xué)像圖207、208而產(chǎn)生輸出信號模式114；以及成像元件27、214，設(shè)置成將用所述兩條交疊光束照射的所述導(dǎo)航地帶表面的一部分成像在所述檢測器陣列上。
2.如權(quán)利要求1所述的系統(tǒng)，其中還包括原光源21、103，可以用來產(chǎn)生相干光輻射的原光束201、221；以及分束器元件24、213，可以用來將所述相干光輻射的原光束分成所述兩條相干光輻射的交疊光束，每條所述交疊光束基本上具有與所述原光束相同的相干度。
3.如權(quán)利要求2所述的系統(tǒng)，其中基本上象邁克耳孫干涉計(jì)24-26那樣配置所述分束器元件，以及其中所述各交疊光束以彼此相對的θ角傳播。
4.如權(quán)利要求1所述的系統(tǒng)，其中還包括處理器105，所述處理器可以用來處理來自所述檢測器陣列28、104、215的信號模式114并且可以用來產(chǎn)生表示所述導(dǎo)航地帶部分22、102、212相對于所述干涉條紋圖的兩維運(yùn)動107、108的輸出。
5.如權(quán)利要求1所述的系統(tǒng)230，其中還包括相干光輻射的兩個(gè)分離的光源233a、233b，每個(gè)所述分離的光源可以用來產(chǎn)生所述兩條相干光輻射的交疊光束236a、236b中的一條。
6.如權(quán)利要求5所述的系統(tǒng)，其中所述兩個(gè)分離的光源可以是彼此相關(guān)地相位鎖定237的。
7.一種用于確定光學(xué)導(dǎo)航裝置與導(dǎo)航地帶之間的相對運(yùn)動的方法300，所述方法包括產(chǎn)生303兩條交疊的相干光束；產(chǎn)生所述兩條交疊的光束之間的干涉條紋圖304；利用所述干涉條紋圖照射305所述導(dǎo)航地帶的表面部分；將所述條紋照射表面的一部分成像306，以及響應(yīng)所述成像的條紋照射表面部分而產(chǎn)生306-307信號模式。
8.如權(quán)利要求7所述的方法，其中所述產(chǎn)生兩條交疊的相干光束的步驟包括從單一的光源產(chǎn)生相干光輻射的原光束302，以及將所述原光束分成303兩條交疊的相干光束，每條所述交疊的光束基本上具有與所述原光束相同的相干度。
9.如權(quán)利要求7所述的方法，其中還包括處理307-308所述信號模式，以便產(chǎn)生表示所述導(dǎo)航地帶部分相對于所述干涉條紋圖的兩維運(yùn)動的輸出信號309。
10.如權(quán)利要求7所述的方法，其中所述產(chǎn)生兩條交疊的相干光束236a、236b的步驟包括從分離的光源233a、233b產(chǎn)生每一條所述交疊的相干光束。
全文摘要
一種用于確定光學(xué)導(dǎo)航裝置與導(dǎo)航地帶之間的相對運(yùn)動的方法(300)包括產(chǎn)生(303)兩條交疊的相干光束和產(chǎn)生所述兩條交疊的光束之間的干涉條紋圖(304)。所述方法還包括利用所述干涉條紋圖照射(305)所述導(dǎo)航地帶的表面部分；將所述條紋照射表面的一部分成像(306)；以及響應(yīng)所述成像的條紋照射表面部分而產(chǎn)生(306)－(307)信號模式。
文檔編號G01B9/02GK1906460SQ200480038112
公開日2007年1月31日 申請日期2004年12月14日 優(yōu)先權(quán)日2003年12月19日
發(fā)明者M·T·德皮, D·W·施勒德爾, T·謝 申請人:阿瓦戈科技Ecbu Ip(新加坡)股份有限公司