專利名稱：放射線斷層造影設(shè)備及其放射線斷層造影方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及放射線斷層造影設(shè)備及其放射線斷層造影方法。
背景技術(shù)：
利用相當(dāng)于放射線的X射線產(chǎn)生待成像的受檢者的斷層造影平面的圖像的X射線CT(計算機(jī)斷層造影)設(shè)備被稱作放射線斷層造影設(shè)備。X射線CT設(shè)備已經(jīng)被用于廣泛的應(yīng)用中，例如醫(yī)療和工業(yè)應(yīng)用，其中人體和物體作為待成像的受檢者。
X射線CT設(shè)備掃描待成像的受檢者的周圍，其中受檢者的身體軸向作為軸，并通過X射線管把X射線從多個觀測方向施加到受檢者。從X射線管照射的X射線被阻擋或切斷，從而形成X射線，以便施加到受檢者的成像區(qū)。經(jīng)由準(zhǔn)直儀從多個觀測方向透過受檢者的X射線由X射線檢測器陣列在它們的每個觀測方向進(jìn)行檢測，并根據(jù)X射線檢測器陣列檢測的X射線所產(chǎn)生的檢測數(shù)據(jù)來重構(gòu)和產(chǎn)生與受檢者的成像區(qū)對應(yīng)的斷層造影圖像。
待成像的受檢者的部位以及成像目的對于X射線CT設(shè)備是多樣化的。因此，需要改善圖像質(zhì)量、如分辨率以及加快其成像速度。為了滿足這種需求，X射線CT設(shè)備具有X射線檢測器陣列，其中多個X射線檢測元件排列成陣列形式，以便能夠在通過一次旋轉(zhuǎn)掃描受檢者的周圍時獲得多個斷層造影圖像。X射線檢測器陣列具有X射線檢測模塊，其中用于檢測X射線的多個X射線檢測元件排列成陣列形式。為了便于其制造，多個X射線檢測模塊經(jīng)過配置，以便布置成同時接近通道方向和體軸方向。
由于多個X射線檢測元件布置成在X射線檢測器陣列中彼此相鄰，其中多個X射線檢測元件排列成陣列形式，因此串?dāng)_可能因所檢測的X射線而出現(xiàn)在X射線檢測元件之間。因此，當(dāng)根據(jù)包含串?dāng)_的檢測數(shù)據(jù)來重構(gòu)和產(chǎn)生斷層造影圖像時，可能有如下情況在X射線CT設(shè)備中出現(xiàn)斷層造影圖像對比度下降，出現(xiàn)偽像，以及圖像質(zhì)量惡化。
為了防止因串?dāng)_而導(dǎo)致的圖像質(zhì)量惡化，至今已經(jīng)提出了各種方法。在先有技術(shù)中，例如按照每個X射線檢測元件來預(yù)先確定所產(chǎn)生的串?dāng)_量，以及采用所確定的所產(chǎn)生串?dāng)_量來校正檢測數(shù)據(jù)(例如參考專利文獻(xiàn)1)。
美國專利No.4897788的說明書但是，由于在先有技術(shù)中以體軸方向作為軸掃描影像的周圍，因此容易按通道方向上每個X射線檢測元件來確定所產(chǎn)生的串?dāng)_量。但是，難以獲得體軸方向的所產(chǎn)生串?dāng)_量。因此，先有技術(shù)在防止因體軸方向的串?dāng)_而導(dǎo)致圖像質(zhì)量惡化方面遇到困難。由于具體從體軸方向看來的多個X射線檢測模塊之間邊界處的相鄰X射線檢測元件之間存在切割線或斷開線，從體軸方向看來位于X射線檢測模塊的邊界附近的X射線檢測元件與位于其周圍的X射線檢測元件在分別與其相鄰的X射線檢測元件的數(shù)量方面彼此不同，因此在體軸方向所產(chǎn)生的串?dāng)_量的分布變得不連續(xù)。因此，明顯出現(xiàn)斷層造影圖像對比度的下降以及出現(xiàn)偽像。
由于在先有技術(shù)中沒有采用實際獲取檢測數(shù)據(jù)時所產(chǎn)生的串?dāng)_量而使用預(yù)先得到的所產(chǎn)生的串?dāng)_量，因此不可能通過更高精度來校正圖像質(zhì)量、從而充分提高圖像質(zhì)量。

發(fā)明內(nèi)容
因此，本發(fā)明的目的是提供一種能夠防止因串?dāng)_而導(dǎo)致的斷層造影圖像對比度的下降和偽像的出現(xiàn)、并且提高斷層造影圖像質(zhì)量的放射線斷層造影設(shè)備及其放射線斷層造影方法。
為了實現(xiàn)上述目的，本發(fā)明的放射線斷層造影設(shè)備包括用于通過放射線來照射待成像受檢者的成像區(qū)的放射線照射部件；具有第一和第二放射線檢測模塊的放射線檢測部件，在這些模塊中，檢測透過受檢者的成像區(qū)的放射線的放射線檢測元件布置成陣列形式，第一和第二放射線檢測模塊安排成彼此相鄰；以及用于對檢測數(shù)據(jù)實行擬合處理的擬合處理部件，其方式為，在放射線檢測部件檢測的放射線所產(chǎn)生的檢測數(shù)據(jù)中，與靠近第一與第二放射線檢測模塊之間邊界的放射線檢測元件對應(yīng)的第一組放射線檢測元件檢測的放射線所產(chǎn)生的第一檢測數(shù)據(jù)適合基于與位于第一組放射線檢測元件周圍的放射線檢測元件對應(yīng)的第二組放射線檢測元件檢測的放射線所產(chǎn)生的第二檢測數(shù)據(jù)的波形數(shù)據(jù)。
在本發(fā)明的上述放射線斷層造影設(shè)備中，放射線被施加到受檢者的成像區(qū)，以及透過受檢者的成像區(qū)的放射線由布置成彼此相鄰的第一和第二放射線檢測模塊中布置成陣列形式的放射線檢測元件來檢測。然后，檢測數(shù)據(jù)經(jīng)過擬合處理，其方式為，在放射線檢測部件檢測的放射線所產(chǎn)生的檢測數(shù)據(jù)中，與靠近第一和第二放射線檢測模塊之間邊界的放射線檢測元件對應(yīng)的第一組放射線檢測元件檢測的放射線所產(chǎn)生的第一檢測數(shù)據(jù)適合基于與位于第一組放射線檢測元件周圍的放射線檢測元件對應(yīng)的第二組放射線檢測元件檢測的放射線所產(chǎn)生的第二檢測數(shù)據(jù)的波形數(shù)據(jù)。
為了實現(xiàn)上述目的，本發(fā)明的放射線斷層造影方法采用放射線斷層造影設(shè)備，所述設(shè)備包括用于通過放射線來照射待成像受檢者的成像區(qū)的放射線照射部件；以及具有第一和第二放射線檢測模塊的放射線檢測部件，其中，檢測透過受檢者的成像區(qū)的放射線的放射線檢測元件布置成陣列形式，第一和第二放射線檢測模塊安排成彼此相鄰，上述方法包括用于對檢測數(shù)據(jù)執(zhí)行擬合處理的擬合處理過程，其方式為，在放射線檢測部件檢測的放射線所產(chǎn)生的檢測數(shù)據(jù)中，與靠近第一和第二放射線檢測模塊之間邊界的放射線檢測元件對應(yīng)的第一組放射線檢測元件檢測的放射線所產(chǎn)生的第一檢測數(shù)據(jù)適合基于與位于第一組放射線檢測元件周圍的放射線檢測元件對應(yīng)的第二組放射線檢測元件檢測的放射線所產(chǎn)生的第二檢測數(shù)據(jù)的波形數(shù)據(jù)。
在本發(fā)明的上述放射線斷層造影方法中，由施加到受檢者的成像區(qū)、透過成像區(qū)并且由布置成彼此相鄰的第一和第二放射線檢測模塊中布置成陣列形式的放射線檢測元件來檢測的放射線所產(chǎn)生的檢測數(shù)據(jù)經(jīng)過擬合處理，其方式為，與靠近第一和第二放射線檢測模塊之間邊界的放射線檢測元件對應(yīng)的第一組放射線檢測元件檢測的放射線所產(chǎn)生的檢測數(shù)據(jù)中的第一檢測數(shù)據(jù)適合基于與位于第一組放射線檢測元件周圍的放射線檢測元件對應(yīng)的第二組放射線檢測元件檢測的放射線所產(chǎn)生的第二檢測數(shù)據(jù)的波形數(shù)據(jù)。
根據(jù)本發(fā)明，可提供一種能夠防止因串?dāng)_而導(dǎo)致的斷層造影圖像對比度的下降和偽像的出現(xiàn)、并且提高斷層造影圖像質(zhì)量的放射線斷層造影設(shè)備及其放射線斷層造影方法。
通過以下結(jié)合附圖對本發(fā)明的優(yōu)選實施例的說明，本發(fā)明的其它目的和優(yōu)點將會非常明顯。


圖1是框圖，說明用作根據(jù)本發(fā)明的實施例1的放射線斷層造影設(shè)備的X射線CT設(shè)備的整體配置。
圖2是配置圖，說明用作根據(jù)本發(fā)明的實施例1的放射線斷層造影設(shè)備的X射線CT設(shè)備的主要部分。
圖3是在用作根據(jù)本發(fā)明的實施例1的放射線斷層造影設(shè)備的X射線CT設(shè)備中采用的X射線檢測模塊的配置圖。
圖4是示意圖，說明在用作根據(jù)本發(fā)明的實施例1的放射線斷層造影設(shè)備的X射線CT設(shè)備中采用的X射線管、準(zhǔn)直儀和X射線檢測器陣列之間的相互關(guān)系，其中，圖4(a)是說明從定義為視線的一側(cè)看到體軸方向的狀態(tài)的示意圖，而圖4(b)是說明從定義為視線的一側(cè)看到通道方向x的狀態(tài)的示意圖。
圖5是示意圖，說明在用作根據(jù)本發(fā)明的實施例1的放射線斷層造影設(shè)備的X射線CT設(shè)備中采用的X射線管、準(zhǔn)直儀和X射線檢測器陣列之間的相互關(guān)系，以及說明以從定義為視線的一側(cè)看到通道方向的狀態(tài)對待成像受檢者進(jìn)行成像的方式。
圖6是示意圖，說明在用作根據(jù)本發(fā)明的實施例1的放射線斷層造影設(shè)備的X射線CT設(shè)備中的X射線檢測器陣列的多個X射線檢測模塊中對應(yīng)于A和B的兩個X射線檢測模塊的部分檢測的X射線所產(chǎn)生的檢測數(shù)據(jù)，這兩個模塊在體軸方向上被設(shè)置成彼此平行且相鄰。
圖7是在用作根據(jù)本發(fā)明的實施例1的放射線斷層造影設(shè)備的X射線CT設(shè)備中以體軸方向排列的X射線檢測元件所得到的檢測數(shù)據(jù)的曲線圖。
圖8是示意圖，說明在用作根據(jù)本發(fā)明的實施例2的放射線斷層造影設(shè)備的X射線CT設(shè)備中采用的X射線檢測器陣列中的多個X射線檢測模塊中對應(yīng)于A和B的兩個X射線檢測模塊的部分檢測的X射線所產(chǎn)生的檢測數(shù)據(jù)，其中兩個模塊從體軸方向看來被設(shè)置成彼此平行且相鄰。
圖9是示意圖，說明在用作根據(jù)本發(fā)明的實施例3的放射線斷層造影設(shè)備的X射線CT設(shè)備中采用的X射線檢測器陣列中的多個X射線檢測模塊中對應(yīng)于A和B的兩個X射線檢測模塊的部分檢測的X射線所產(chǎn)生的檢測數(shù)據(jù)，其中兩個模塊從體軸方向看來被設(shè)置成彼此平行且相鄰。
具體實施例方式
下面將參照附圖詳細(xì)說明本發(fā)明的實施例。
<實施例1>
圖1是框圖，說明用作根據(jù)本發(fā)明的實施例1的放射線斷層造影設(shè)備的X射線CT設(shè)備1的整體配置。圖2是配置圖，說明用作根據(jù)本發(fā)明的實施例1的放射線斷層造影設(shè)備的X射線CT設(shè)備1的主要部分。
如圖1所示，根據(jù)本實施例的X射線CT設(shè)備1包括掃描臺架2、操作控制臺3和成像臺4。
掃描臺架2包括作為主要組件的X射線管20、X射線管移動部分21、準(zhǔn)直儀22、X射線檢測器陣列23、數(shù)據(jù)獲取部分24、X射線控制器25、準(zhǔn)直儀控制器26、旋轉(zhuǎn)部分27和旋轉(zhuǎn)控制器28。這里，X射線管20和X射線檢測器陣列23彼此相對，其中X射線放射空間29置于其間。
順便指出，根據(jù)本發(fā)明的放射線照射部件由掃描臺架2的X射線管20組成，而根據(jù)本發(fā)明的放射線檢測部件由掃描臺架2的X射線檢測器陣列23構(gòu)成。根據(jù)本發(fā)明的旋轉(zhuǎn)部件由掃描臺架2的旋轉(zhuǎn)部分27組成。
X射線管20根據(jù)從X射線控制器25發(fā)出的控制信號CTL251、通過準(zhǔn)直儀22采用具有預(yù)定強度的X射線5來照射待成像受檢者6的成像區(qū)。
X射線管移動部分21按照放置在位于掃描臺架2的X射線放射空間29中的成像臺4上的受檢者6的體軸方向(與圖1所示的頁面以及圖2的z方向垂直的方向)移動X射線管20的放射線的中心。
準(zhǔn)直儀22設(shè)置在X射線管20與X射線檢測器陣列23之間，并根據(jù)從準(zhǔn)直儀控制器26提供的控制信號CTL261分別阻擋或切斷在通道方向x和受檢者的體軸方向z看來從X射線管照射的X射線5，將其整形為在通道方向x和體軸方向z看來、具有預(yù)定寬度的錐形X射線5的形式，從而調(diào)節(jié)X射線的照射范圍。這里，X射線5的照射范圍通過根據(jù)控制信號CTL261來調(diào)節(jié)準(zhǔn)直儀22的窗孔的開啟程度來設(shè)置。準(zhǔn)直儀22的窗孔開啟程度通過例如獨立地移動分別設(shè)置在通道方向x和體軸方向z的兩塊板來調(diào)節(jié)。
X射線檢測器陣列23包括八個X射線檢測模塊23A、23B、23C、23D、23E、23F、23G和23H，其中分別有多個X射線檢測元件布置成陣列形式。八個X射線檢測模塊23A、23B、23C、23D、23E、23F、23G和23H并列設(shè)置，從而在體軸方向z按照從列A到列H的順序鄰接。
順便指出，根據(jù)本發(fā)明的放射線檢測模塊由X射線檢測器陣列23的X射線檢測模塊23A、23B、23C、23D、23E、23F、23G和23H構(gòu)成。例如，位于列A和B中的X射線檢測模塊分別對應(yīng)于第一和第二放射線檢測模塊。根據(jù)本發(fā)明的放射線檢測元件由各X射線檢測元件23a構(gòu)成。
圖3是配置圖，說明構(gòu)成本實施例中采用的X射線檢測器陣列23的八個X射線檢測模塊23A、23B、23C、23D、23E、23F、23G和23H中對應(yīng)于列A的X射線檢測模塊23A。如圖3所示，X射線檢測模塊23A包括在通道方向x和體軸方向z排列成陣列形式的X射線檢測元件23a。在二維基礎(chǔ)上設(shè)置的多個X射線檢測元件23a形成整體上彎曲成圓柱凹面形式的X射線入射面。這里，在通道方向x設(shè)置了例如1000個X射線檢測元件23a，以及在受檢者的體軸方向z設(shè)置了例如八個X射線檢測元件23a。順便指出，對應(yīng)于列B到H的X射線檢測模塊23B、23C、23D、23E、23F、23G和23H與圖3所示對應(yīng)于列A的X射線檢測模塊23A相似。因此，具有八個X射線檢測模塊23A、23B、23C、23D、23E、23F、23G和23H的X射線檢測器陣列23能夠產(chǎn)生總共相當(dāng)于32個檢測數(shù)據(jù)，其中例如每個模塊產(chǎn)生四個檢測數(shù)據(jù)。
例如，各X射線檢測元件23a由閃爍器和光電二極管的組合來構(gòu)成。順便指出，X射線檢測元件23a不限于此，它可以是采用碲化鎘(CdTe)等的半導(dǎo)體X射線檢測元件或者是采用氙(Xe)氣的電離室類型的X射線檢測元件23a。
在本實施例中，從靠近多個X射線檢測模塊23A、23B、23C、23D、23E、23F、23G和23H之間邊界的X射線檢測元件23a檢測的X射線行數(shù)據(jù)中產(chǎn)生第一檢測數(shù)據(jù)。從位于已經(jīng)獲得與第一檢測數(shù)據(jù)對應(yīng)的行數(shù)據(jù)的X射線檢測元件23a周圍的X射線檢測元件23a檢測的X射線的行數(shù)據(jù)中產(chǎn)生第二檢測數(shù)據(jù)。在對應(yīng)于A和B的X射線檢測模塊23A和23B中，例如，從位于最接近對應(yīng)于A和B的X射線檢測模塊23A和23B之間邊界的位置上的一個X射線檢測元件23a中獲得第一檢測數(shù)據(jù)。此外，采用從體軸方向看來接近用于獲得第一檢測數(shù)據(jù)的X射線檢測元件23a的三個X射線檢測元件23a來獲得第二檢測數(shù)據(jù)。由于在從體軸方向z看來的多個X射線檢測模塊23A、23B、23C、23D、23E、23F、23G和23H的邊界上的相鄰X射線檢測元件23a之間存在斷開線或切割線，從體軸方向z看來位于X射線檢測模塊23A、23B、23C、23D、23E、23F、23G、23H之間邊界附近的X射線檢測元件23a與位于其周圍的X射線檢測元件23a在分別與其相鄰的X射線檢測元件23a的數(shù)量方面彼此不同，因此在體軸方向所產(chǎn)生的串?dāng)_量的分布變得不連續(xù)。因此，第一檢測數(shù)據(jù)包含不同于第二檢測數(shù)據(jù)的所產(chǎn)生的串?dāng)_量。
順便指出，根據(jù)本發(fā)明的第一放射線檢測元件由靠近X射線檢測器陣列23的多個X射線檢測模塊23A、23B、23C、23D、23E、23F、23G和23H的邊界且檢測定義為第一檢測數(shù)據(jù)的X射線的各X射線檢測模塊23a構(gòu)成。根據(jù)本發(fā)明的第二放射線檢測元件也由位于檢測被假定為第一檢測數(shù)據(jù)的X射線的X射線檢測元件23a周圍的各X射線檢測元件23a組成。
圖4和圖5分別是說明X射線管20、準(zhǔn)直儀22和X射線檢測器陣列23之間相互關(guān)系的示意圖。在圖4中，圖4(a)是說明從定義為視線的一側(cè)看到受檢者的體軸方向z的狀態(tài)的示意圖，圖4(b)是說明從定義為視線的一側(cè)看到通道方向x的狀態(tài)的示意圖。圖5是示意圖，說明待成像的受檢者6在以類似于圖4(b)的方式從定義為視線的一側(cè)看到通道方向x的狀態(tài)中被拍攝或成像所用的方式。
如圖4(a)和4(b)所示，形成從X射線管20照射的X射線5，以便通過準(zhǔn)直儀22采用具有預(yù)定錐角的錐形X射線5，將它隨后施加到X射線檢測器陣列23的預(yù)定區(qū)域。當(dāng)受檢者6被成像時，如圖5所示，放置在成像臺4上的受檢者6被送入X射線放射空間29，其中，以受檢者6的體軸方向作為軸來掃描受檢者6的周圍，以及通過X射線管20把X射線5施加到受檢者6的成像區(qū)。然后，從X射線管20照射的X射線5經(jīng)由準(zhǔn)直儀22通過受檢者6，并由X射線檢測器陣列23檢測。
數(shù)據(jù)獲取部分24收集由X射線檢測器陣列23中的各個X射線檢測元件23a所檢測的行數(shù)據(jù)，并將其輸出到操作控制臺3。如圖2所示，數(shù)據(jù)獲取部分24例如具有選擇/加法開關(guān)電路(MUX，ADD)241以及模數(shù)轉(zhuǎn)換器(ADC)242。選擇/加法開關(guān)電路241根據(jù)從操作控制臺3的中央處理器30發(fā)出的控制信號CTL303來選擇由X射線檢測器陣列23的X射線檢測元件23a所檢測的行數(shù)據(jù)，或者改變其組合并將它們相加，然后將其結(jié)果輸出給模數(shù)轉(zhuǎn)換器242。模數(shù)轉(zhuǎn)換器242把在選擇/加法開關(guān)電路241中以任意組合選取或相加的行數(shù)據(jù)從模擬信號轉(zhuǎn)換到數(shù)字信號，隨后再輸出給操作控制臺3的中央處理器30。
X射線控制器25根據(jù)從操作控制臺3的中央處理器30發(fā)送的控制信號CTL301把控制信號CTL251輸出到X射線管20，從而控制X射線放射。X射線控制器25還根據(jù)從操作控制臺3的中央處理器30提供的控制信號CTL301把控制信號CTL252輸出給X射線管移動部分221，以便把X射線管20的放射線的中心沿受檢者的體軸方向z移動對應(yīng)于指令的距離。
準(zhǔn)直儀控制器26根據(jù)從操作臺3的中央處理器30提供的控制信號CTL302把控制信號CTL261輸出給準(zhǔn)直儀22，以便調(diào)節(jié)準(zhǔn)直儀22的窗孔221的開啟程度，以及允許形成從X射線管20照射的X射線5，從而采用X射線5照射X射線檢測器陣列23的預(yù)期區(qū)域。
旋轉(zhuǎn)部分27根據(jù)從旋轉(zhuǎn)控制器28發(fā)送的控制信號CTL28以預(yù)定方向旋轉(zhuǎn)。旋轉(zhuǎn)部分27配備了X射線管20、X射線管移動部分21、準(zhǔn)直儀22、X射線檢測器陣列23、數(shù)據(jù)獲取部分24、X射線控制器25和準(zhǔn)直儀控制器26。這些組件與X射線放射空間29中傳送的受檢者的位置關(guān)系隨著旋轉(zhuǎn)部分27的旋轉(zhuǎn)而變化。通過旋轉(zhuǎn)該旋轉(zhuǎn)部分27，X射線以受檢者6的體軸方向作為軸從多個觀測方向照射，以及檢測透過受檢者6的X射線5。
旋轉(zhuǎn)控制器28根據(jù)從操作控制臺3的中央處理器30輸出的控制信號CTL304把控制信號CTL28輸出給旋轉(zhuǎn)部分27，從而沿預(yù)定方向把旋轉(zhuǎn)部分27旋轉(zhuǎn)預(yù)期的轉(zhuǎn)數(shù)。
操作控制臺3具有作為主要組件的中央處理器30、輸入裝置31、顯示裝置32和存儲裝置33。
這里順便指出，中央處理器30包括根據(jù)本發(fā)明的擬合處理部件和斷層造影圖像生成部件。顯示裝置32構(gòu)成根據(jù)本發(fā)明的顯示部件。
中央處理器30包括例如微型計算機(jī)等，以及具有對應(yīng)于各種功能的程序。中央處理器30根據(jù)從輸入裝置31輸入的指令把控制信號CTL30b輸出給成像臺4，以便使其中放置了受檢者6的成像臺4被傳送到掃描臺架2的X射線放射空間29中或者從其中送出。
中央處理器30響應(yīng)從輸入裝置31輸入的多切片掃描開始指令而把控制信號CTL304輸出給掃描臺架2的旋轉(zhuǎn)控制器28，從而按照預(yù)定方向以對應(yīng)于指令的轉(zhuǎn)數(shù)來旋轉(zhuǎn)掃描臺架2的旋轉(zhuǎn)部分27。
中央處理器30把控制信號CTL301輸出給X射線控制器25，使掃描臺架2的X射線管20放射出X射線5。
中央處理器30響應(yīng)從輸入裝置31輸入的關(guān)于受檢者6的成像區(qū)的信息，把控制信號CTL301輸出給X射線控制器25，從而按照體軸方向z把X射線管20的放射線的中心移動對應(yīng)于指令的距離。這時，中央處理器30輸出控制信號CTL302，用于控制準(zhǔn)直儀22，從而向準(zhǔn)直儀控制器26提供預(yù)定的窗孔開啟程度，以便讓X射線5照射到預(yù)定范圍。
中央處理器30根據(jù)從輸入裝置31輸入的關(guān)于受檢者6的成像區(qū)的信息，把控制信號CTL303輸出給數(shù)據(jù)獲取部分24的選擇/加法開關(guān)電路241，以便選擇由X射線檢測器陣列23中的X射線檢測元件23a得到的行數(shù)據(jù)或者改變其組合并把它們相加。中央處理器30還對數(shù)據(jù)獲取部分24收集的行數(shù)據(jù)進(jìn)行預(yù)處理、如敏感度校正，從而產(chǎn)生檢測數(shù)據(jù)。
中央處理器30具有用作擬合處理部件的程序。擬合處理部件對檢測數(shù)據(jù)執(zhí)行擬合處理，以便使靠近多個X射線檢測模塊的邊界的X射線檢測元件23a所產(chǎn)生的第一檢測數(shù)據(jù)適合基于位于已產(chǎn)生第一檢測數(shù)據(jù)的X射線檢測元件23a周圍的X射線檢測元件23a所產(chǎn)生的第二檢測數(shù)據(jù)的波形數(shù)據(jù)。
在本實施例中，擬合處理部件通過采用第一檢測數(shù)據(jù)和第二檢測數(shù)據(jù)來執(zhí)行擬合處理。例如，擬合處理部件把加權(quán)因子提供給第一檢測數(shù)據(jù)和第二檢測數(shù)據(jù)，使得它們適合以從最小二乘方誤差基準(zhǔn)中導(dǎo)出的多項式方程來表示的波形數(shù)據(jù)，其中采用第一檢測數(shù)據(jù)和第二檢測數(shù)據(jù)來使第一檢測數(shù)據(jù)歸一化，從而對檢測數(shù)據(jù)執(zhí)行擬合處理。順便指出，采用第一檢測數(shù)據(jù)和第二檢測數(shù)據(jù)的擬合處理的具體情況將在稍后進(jìn)行描述。
此外，中央處理器30具有用作斷層造影圖像生成部件的程序，并根據(jù)來自多個觀測方向的檢測數(shù)據(jù)執(zhí)行圖像重構(gòu)，從而生成多個斷層造影圖像。在這里，經(jīng)過擬合處理的第一檢測數(shù)據(jù)和第二檢測數(shù)據(jù)被用作檢測數(shù)據(jù)。例如，濾波反向投影方法用于中央處理器30的圖像重構(gòu)中。中央處理器30使顯示裝置32在其中顯示重構(gòu)圖像。
提供輸入裝置31以把信息、如成像條件輸入中央處理器30，輸入裝置31由例如鍵盤或鼠標(biāo)構(gòu)成。順便指出，輸入裝置31可連接到掃描臺架2或成像臺4。
顯示裝置32根據(jù)從中央處理器30發(fā)出的命令在其中顯示所重構(gòu)和產(chǎn)生的斷層造影圖像和其它各種信息。
存儲裝置33中存儲各種數(shù)據(jù)、重構(gòu)圖像和程序。所存儲的數(shù)據(jù)由中央處理器30根據(jù)需要進(jìn)行存取。
接下來描述采用根據(jù)本實施例的X射線CT設(shè)備1的X射線斷層造影方法。
圖6是示意圖，說明根據(jù)本實施例中采用的X射線檢測器陣列23中對應(yīng)于A和B的兩個X射線檢測模塊23A和23B的部分檢測的X射線所產(chǎn)生的檢測數(shù)據(jù)，這些模塊設(shè)置成在體軸方向z彼此平行且相鄰，其中圖6(a)說明擬合處理之前的數(shù)據(jù)，圖6(b)說明擬合處理之后的數(shù)據(jù)。圖6說明其中分別具有在通道方向x設(shè)置的八個X射線檢測元件23a以及在體軸方向z設(shè)置的四個X射線檢測元件23a的兩個X射線檢測模塊23A和23B的部分。順便指出，圖6(a)中矩形包圍的點表示靠近兩個X射線檢測模塊23A與23B之間邊界K的X射線檢測元件23a檢測的X射線得到的第一檢測數(shù)據(jù)A41到A48以及B11到B18。
圖7是在本實施例中以體軸方向設(shè)置的X射線檢測元件23a得到的檢測數(shù)據(jù)的曲線圖，其中圖7(a)表示擬合處理過程之前的檢測數(shù)據(jù)，而圖7(b)表示擬合處理過程之后的檢測數(shù)據(jù)。例如在圖7中采用具有如圖6所示在體軸方向設(shè)置的第一檢測數(shù)據(jù)和第二檢測數(shù)據(jù)的檢測數(shù)據(jù)A11、A21、A31、A41、B11、B21、B31和B41。在圖7中，水平軸表示獲取檢測數(shù)據(jù)的各X射線檢測元件23a的位置，垂直軸表示根據(jù)所檢測X射線的強度所產(chǎn)生的檢測數(shù)據(jù)的數(shù)據(jù)值。
在X射線斷層造影方法中，操作者首先在X射線5的掃描之前，經(jīng)由輸入裝置31把關(guān)于待成像的受檢者6的成像區(qū)的信息輸入中央處理器30。然后，中央處理器30根據(jù)從輸入裝置31輸入的信息向成像臺4輸出控制信號CTL30b，用于把其中放置了受檢者6的成像臺4送入掃描臺架2的X射線放射空間29或者從其中送出，以及定位受檢者6的成像區(qū)，使得其成像區(qū)被設(shè)置在掃描臺架2的X射線放射空間29的預(yù)期位置。中央處理器30還把控制信號CTL301輸出給X射線控制器25，并使X射線控制器25把控制信號CTL251輸出給X射線管20，從而執(zhí)行來自X射線管20的X射線5的照射。此外，中央處理器30還把控制信號CTL302輸出給準(zhǔn)直儀控制器26，并允許準(zhǔn)直儀控制器26向準(zhǔn)直儀22提供控制信號CTL261，用于控制準(zhǔn)直儀22的窗孔221的開啟程度。透過受檢者6的成像區(qū)的X射線由X射線檢測器陣列23來檢測，X射線檢測器陣列23包括X射線檢測模塊，其中X射線檢測元件23a布置成陣列形式，以及其中X射線檢測模塊布置成彼此相鄰。
然后，X射線檢測器陣列23所檢測的X射線5經(jīng)過預(yù)先處理、如敏感度校正，從而產(chǎn)生檢測數(shù)據(jù)。
如圖7(a)所示，基于具有第一檢測數(shù)據(jù)和第二檢測數(shù)據(jù)的檢測數(shù)據(jù)A11、A21、A31、A41、B11、B21、B31和B41的波形數(shù)據(jù)在第一檢測數(shù)據(jù)A41與B11之間的部分是不連續(xù)的。這從以下事實產(chǎn)生結(jié)果由于相當(dāng)于第一檢測數(shù)據(jù)A41和B11的部分是從靠近多個X射線檢測模塊23A與23B之間邊界K的X射線檢測元件23a檢測的X射線得到的，因此這些部分不同于在第二檢測數(shù)據(jù)A11、A21、A31、B21、B31和B41中包含的所產(chǎn)生的串?dāng)_量。
因此，為了校正如圖7所示的第一和第二檢測數(shù)據(jù)包含的所產(chǎn)生的串?dāng)_量之間的差異，在X射線斷層造影方法中采用的擬合處理過程中，檢測數(shù)據(jù)經(jīng)過擬合處理，其方式為，在X射線檢測器陣列23檢測的X射線所產(chǎn)生的檢測數(shù)據(jù)中，靠近多個X射線檢測模塊23A與23B之間邊界的X射線檢測元件23a檢測的X射線所產(chǎn)生的第一檢測數(shù)據(jù)適合基于位于獲取第一檢測數(shù)據(jù)的X射線檢測元件23a周圍的X射線檢測元件23a檢測的放射線所產(chǎn)生的第二檢測數(shù)據(jù)的波形數(shù)據(jù)。
在這里，在本實施例采用的擬合處理過程中，采用第一檢測數(shù)據(jù)和第二檢測數(shù)據(jù)來執(zhí)行擬合處理。例如，加權(quán)因子分別被提供給第一檢測數(shù)據(jù)和第二檢測數(shù)據(jù)，其方式是，使得它們適合以從最小二乘方誤差基準(zhǔn)中導(dǎo)出的多項式方程表示的波形數(shù)據(jù)，其中采用第一檢測數(shù)據(jù)和第二檢測數(shù)據(jù)，從而執(zhí)行多項式方程擬合處理，以便使第一檢測數(shù)據(jù)歸一化。如圖6所示，為了使一個X射線檢測模塊23A上的第一檢測數(shù)據(jù)A41適合以二次和三次多項式方程表示的波形數(shù)據(jù)，預(yù)定的加權(quán)因子被提供給第一檢測數(shù)據(jù)A41以及由位于體軸方向、以第一檢測數(shù)據(jù)A41為中心的三個X射線檢測元件所得到的檢測數(shù)據(jù)A11、A21、A31、B11、B21和B31，然后再將其相加，如A’41＝(-2·A11+3·A21+6·A31+7·A41+6·B11+3·B21-2·B31)/21的情況，此后，通過相加的值除以預(yù)定歸一化因子所得的值A(chǔ)’41被設(shè)置為第一檢測數(shù)據(jù)A41。在另一個X射線檢測模塊23B上的第一檢測數(shù)據(jù)B11以相似方法來處理。順便指出，根據(jù)本實施例的擬合處理過程相當(dāng)于以下事實采用低通濾波器對第一檢測數(shù)據(jù)和第二檢測數(shù)據(jù)進(jìn)行濾波，從而大量消除第一檢測數(shù)據(jù)中包含的高頻分量?？筛鶕?jù)診斷目的和受檢者部位來使用所需的低通濾波器。
因此，圖6(a)所示的第一檢測數(shù)據(jù)A41到A48以及B11到B18由其相應(yīng)的通過擬合處理校正的第一檢測數(shù)據(jù)A’41到A’48以及B’11到B’18代替，如圖6(b)所示。此外，第一檢測數(shù)據(jù)經(jīng)過校正，從而適合基于第二檢測數(shù)據(jù)的波形數(shù)據(jù)，如圖7(b)所示。
在斷層造影圖像生成過程中，中央處理器30根據(jù)經(jīng)過擬合處理的檢測數(shù)據(jù)來執(zhí)行圖像重構(gòu)，從而產(chǎn)生斷層造影圖像數(shù)據(jù)。在顯示過程中，中央處理器30使顯示裝置32顯示在斷層造影圖像生成過程中產(chǎn)生的斷層造影圖像。
在上述的實施例中，X射線被施加到待成像的受檢者的成像區(qū)。透過受檢者的成像區(qū)的X射線由按照受檢者的體軸方向設(shè)置成彼此相鄰的多個X射線檢測模塊中被布置成陣列形式的X射線檢測元件來檢測。在X射線檢測元件檢測的X射線所產(chǎn)生的檢測數(shù)據(jù)中，靠近多個X射線檢測模塊之間邊界的X射線檢測元件檢測的X射線所產(chǎn)生的第一檢測數(shù)據(jù)經(jīng)過擬合處理，以便適合基于從受檢者的體軸方向看來位于其周圍的X射線檢測元件檢測的X射線所產(chǎn)生的第二檢測數(shù)據(jù)的波形數(shù)據(jù)。
因為執(zhí)行了擬合處理，所以從體軸方向看來位于多個X射線檢測模塊之間邊界附近的X射線檢測元件檢測的第一檢測數(shù)據(jù)經(jīng)過校正，從而包含所產(chǎn)生的串?dāng)_量，其中數(shù)據(jù)沒有受到從體軸方向看來的X射線檢測模塊之間邊界的影響。也就是說，第一檢測數(shù)據(jù)經(jīng)過校正，使得從體軸方向看來的所產(chǎn)生的串?dāng)_量的分布變得連續(xù)。在本實施例中，根據(jù)在對受檢者的成像區(qū)成像時得到的檢測數(shù)據(jù)而沒有采用預(yù)定的所產(chǎn)生串?dāng)_量來校正第一檢測數(shù)據(jù)。因此，本實施例能夠提供高精度校正，防止斷層造影圖像對比度的下降和偽像的出現(xiàn)，并且提高重構(gòu)所產(chǎn)生的斷層造影圖像的質(zhì)量。
另外在本實施例中，也通過對采用第一檢測數(shù)據(jù)和第二檢測數(shù)據(jù)的多項式擬合處理的使用來執(zhí)行擬合處理。由于擬合處理是通過這種簡化方法來進(jìn)行的，因此可對受檢者進(jìn)行高速成像。
<實施例2>
用作根據(jù)本發(fā)明的實施例2的放射線斷層造影設(shè)備的X射線CT設(shè)備具有如圖1和圖2所示的這些配置，其方式與實施例1相似。根據(jù)本實施例的X射線CT設(shè)備與實施例1相似，只是擬合處理部件與實施例1中所采用的不同。因此，將省略對于與根據(jù)實施例1的X射線CT設(shè)備共有的部件的描述。
在中央處理器30中以相似于實施例1的方式提供根據(jù)本實施例的X射線CT設(shè)備的擬合處理部件。在本實施例中，擬合處理部件按照僅采用第二檢測數(shù)據(jù)的擬合處理來計算對應(yīng)于第一檢測數(shù)據(jù)的偽數(shù)據(jù)，再用第一檢測數(shù)據(jù)來代替?zhèn)螖?shù)據(jù)。
接下來將描述采用根據(jù)本實施例的X射線CT設(shè)備的X射線斷層造影方法。根據(jù)本實施例的X射線斷層造影方法與實施例1相似，只是本實施例的擬合處理過程與實施例1不同。因此，將省略對于與根據(jù)實施例1的X射線斷層造影方法共有的部分的描述。
圖8是示意圖，說明根據(jù)本實施例的X射線檢測器陣列23中對應(yīng)于A和B的兩個X射線檢測模塊23A和23B的部分檢測的X射線所產(chǎn)生的檢測數(shù)據(jù)，這些模塊設(shè)置成在體軸方向z看來彼此平行且相鄰，其中圖8(a)表示擬合處理之前的數(shù)據(jù)，以及圖8(b)表示擬合處理之后的數(shù)據(jù)。圖8表示其中分別具有在通道方向x設(shè)置的八個X射線檢測元件23a以及在體軸方向z設(shè)置的四個X射線檢測元件23a的兩個X射線檢測模塊23A和23B的部分。順便指出，圖8(a)中矩形包圍的點表示靠近兩個X射線檢測模塊23A與23B之間邊界K的X射線檢測元件23a檢測的X射線得到的第一檢測數(shù)據(jù)A41到A48以及B11到B18。
根據(jù)本實施例的擬合處理過程根據(jù)僅采用第二檢測數(shù)據(jù)的擬合處理來計算對應(yīng)于第一檢測數(shù)據(jù)的偽數(shù)據(jù)，再用第一檢測數(shù)據(jù)來代替?zhèn)螖?shù)據(jù)。如圖8(a)所示，例如，采用低通濾波器對第二檢測數(shù)據(jù)A11、A21、A31、B21、B31和B41進(jìn)行濾波處理，從而導(dǎo)出基于第二檢測數(shù)據(jù)A11、A21、A31、B21、B31和B41的波形數(shù)據(jù)。如圖8(b)所示，利用波形數(shù)據(jù)來計算對應(yīng)于第一檢測數(shù)據(jù)A41和B11的偽數(shù)據(jù)A”41和B”11，然后用第一檢測數(shù)據(jù)A41和B11代替，從而執(zhí)行擬合處理。
在上述實施例中，根據(jù)僅采用第二檢測數(shù)據(jù)的擬合處理來計算對應(yīng)于第一檢測數(shù)據(jù)的偽數(shù)據(jù)，然后用第一檢測數(shù)據(jù)代替。因此，本實施例能夠防止斷層造影圖像對比度的下降和偽像的出現(xiàn)，提高重構(gòu)所產(chǎn)生的斷層造影圖像的質(zhì)量，并且以類似于實施例1的方式來提供高速成像。
<實施例3>
用作根據(jù)本發(fā)明的實施例3的放射線斷層造影設(shè)備的X射線CT設(shè)備具有如圖1和圖2所示的這些配置，其方式與實施例1和2相似。根據(jù)本實施例的X射線CT設(shè)備與實施例1和2相似，只是擬合處理部件與實施例1和2中所采用的那些不同。因此，將省略對于與根據(jù)實施例1和2的X射線CT設(shè)備共有的部分的描述。
在中央處理器30中以類似于實施例1和2的方式提供根據(jù)本實施例的X射線CT設(shè)備的擬合處理部件。在本實施例中，擬合處理部件根據(jù)采用第二檢測數(shù)據(jù)的擬合處理、通過多個X射線檢測模塊分別計算對應(yīng)于第一檢測數(shù)據(jù)的第一偽數(shù)據(jù)，以及通過多個X射線檢測模塊分別計算第一偽數(shù)據(jù)與第一檢測數(shù)據(jù)之間的差異數(shù)據(jù)。此外，通過多個X射線檢測模塊分別計算差異數(shù)據(jù)的平均數(shù)據(jù)，以及通過多個X射線檢測模塊中的每個來計算對應(yīng)于第一數(shù)據(jù)和差異平均數(shù)據(jù)之差的第二偽數(shù)據(jù)。此后，對應(yīng)于多個X射線檢測模塊的第一檢測數(shù)據(jù)被第二偽數(shù)據(jù)代替。
接下來將描述采用根據(jù)本實施例的X射線CT設(shè)備的X射線斷層造影方法。根據(jù)本實施例的X射線斷層造影方法與實施例1和2相似，只是本實施例的擬合處理過程與實施例1和2不同。因此，將省略對于與根據(jù)實施例1和2的X射線斷層造影方法共有的部分的描述。
圖9是示意圖，說明根據(jù)本實施例的X射線檢測器陣列23中對應(yīng)于A和B的兩個X射線檢測模塊23A和23B的部分檢測的X射線所產(chǎn)生的檢測數(shù)據(jù)，這些模塊設(shè)置成在體軸方向z看來彼此平行且相鄰，其中圖9(a)表示擬合處理之前的數(shù)據(jù)，以及圖9(b)表示擬合處理之后的數(shù)據(jù)。
圖9表示其中分別具有在通道方向x設(shè)置的八個X射線檢測元件23a以及在體軸方向z設(shè)置的四個X射線檢測元件23a的兩個X射線檢測模塊23A和23B的部分。順便指出，圖9(a)中矩形包圍的點表示靠近兩個X射線檢測模塊23A與23B之間邊界K的X射線檢測元件23a檢測的X射線得到的第一檢測數(shù)據(jù)A41到A48以及B11到B18。
本實施例中采用的擬合處理過程根據(jù)采用第二檢測數(shù)據(jù)的擬合處理、通過多個X射線檢測模塊分別計算對應(yīng)于第一檢測數(shù)據(jù)的第一偽數(shù)據(jù)，以及通過多個X射線檢測模塊分別計算第一偽數(shù)據(jù)與第一檢測數(shù)據(jù)之間的差異數(shù)據(jù)。此外，通過多個X射線檢測模塊分別計算差異數(shù)據(jù)的平均數(shù)據(jù)，以及通過多個X射線檢測模塊分別計算對應(yīng)于第一數(shù)據(jù)和差異平均數(shù)據(jù)之差的第二偽數(shù)據(jù)。此后，對應(yīng)于多個X射線檢測模塊的第一檢測數(shù)據(jù)分別被第二偽數(shù)據(jù)代替。
如圖9所示，例如，采用低通濾波器對第二檢測數(shù)據(jù)A11、A21、A31、B21、B31和B41進(jìn)行濾波處理，隨后根據(jù)經(jīng)過濾波處理的第二檢測數(shù)據(jù)A11、A21、A31、B21、B31和B41來導(dǎo)出波形數(shù)據(jù)。然后，利用波形數(shù)據(jù)分別計算對應(yīng)于列A的X射線檢測模塊所檢測的第一檢測數(shù)據(jù)A41以及與對應(yīng)于列B的X射線檢測模塊23B檢測的第一檢測數(shù)據(jù)B11對應(yīng)的第一偽數(shù)據(jù)A”41和B”11。
此后，分別計算與第一偽數(shù)據(jù)A”41、B”11和第一檢測數(shù)據(jù)A41、B11之間差異有關(guān)的數(shù)據(jù)AE41和BE11。差異數(shù)據(jù)A41和B11基本上相當(dāng)于所產(chǎn)生的串?dāng)_量，其中它們沒有受到從體軸方向看來的X射線檢測模塊23A與23B之間邊界K的影響。按照X射線檢測模塊23A和23B的每個X射線元件23a來執(zhí)行上述過程，從而計算與以通道方向x排列的第一檢測數(shù)據(jù)A41到A48與分別對應(yīng)于第一檢測數(shù)據(jù)A41到A48和B11到B18的第一偽數(shù)據(jù)A’41到A’48和B’11到B’18之間的差異有關(guān)的數(shù)據(jù)AE41到AE48和BE11到BE18。
采用對應(yīng)于列A的X射線檢測模塊23A的多個差異數(shù)據(jù)AE41到AE48來計算對應(yīng)于列A的X射線檢測模塊23A的差異平均數(shù)據(jù)AAE。采用對應(yīng)于列B的X射線檢測模塊23B的多個差異數(shù)據(jù)AE41到AE48和BE11到BE18來計算對應(yīng)于列B的X射線檢測模塊23B的差異平均數(shù)據(jù)ABE。
然后，分別與第一檢測數(shù)據(jù)A41到A48和B11到B18與差異平均數(shù)據(jù)AAE和ABE之間的差異對應(yīng)的第二偽數(shù)據(jù)A41到A48和B11到B18通過分別對應(yīng)于A和B的X射線檢測模塊23A和23B來計算。
此后，如圖9(b)所示，分別與對應(yīng)于A和B的X射線檢測模塊23A和23B對應(yīng)的第一檢測數(shù)據(jù)A41到A48和B11到B18被其相應(yīng)的第二偽數(shù)據(jù)A41到A48和B11到B18代替。
在上述實施例中，對于均基本上相當(dāng)于所產(chǎn)生的串?dāng)_量、沒有受到從體軸方向看來的多個X射線檢測模塊之間邊界的影響的差異數(shù)據(jù)求平均，以便確定或得到差異平均數(shù)據(jù)，使用所確定的差異平均數(shù)據(jù)。因此，即使在差異數(shù)據(jù)中包含噪聲分量，但從體軸方向看來靠近多個X射線檢測模塊之間邊界的X射線檢測元件所檢測的第一檢測數(shù)據(jù)經(jīng)過校正，從而包含所產(chǎn)生的串?dāng)_量，其中它們沒有受到從體軸方向看來的X射線檢測模塊之間邊界的影響，方式與位于其周圍的第二檢測數(shù)據(jù)相似。因此，能夠防止斷層造影圖像對比度的下降和偽像的出現(xiàn)，并且以類似于實施例1的方式來提高斷層造影圖像的質(zhì)量。
順便指出，本發(fā)明不限于上述實施例?？刹捎酶鞣N修改。
在本實施例中，雖然例如從體軸方向看來位于多個X射線檢測模塊之間邊界附近的檢測數(shù)據(jù)經(jīng)過擬合處理，但也可應(yīng)用從通道方向看來的多個X射線檢測模塊之間邊界附近的檢測數(shù)據(jù)。
此外，雖然來自與最接近放射線檢測模塊之間邊界的放射線檢測元件對應(yīng)的第一組放射線檢測元件的檢測數(shù)據(jù)被用作第一檢測數(shù)據(jù)，以及來自與在體軸方向設(shè)置成三個的位于第一組放射線檢測元件周圍的放射線檢測元件對應(yīng)的第二組放射線檢測元件的檢測數(shù)據(jù)被用作第二檢測數(shù)據(jù)，但第一檢測數(shù)據(jù)和第二檢測數(shù)據(jù)都可根據(jù)與整個檢測數(shù)據(jù)對應(yīng)的波形數(shù)據(jù)來使用任意數(shù)目的檢測數(shù)據(jù)。
可構(gòu)建本發(fā)明的許多極為不同的實施例，只要沒有背離本發(fā)明的精神和范圍。應(yīng)該理解，本發(fā)明不限于說明書中描述的具體實施例，而是由所附權(quán)利要求書來定義。
權(quán)利要求
1.一種放射線斷層造影設(shè)備，包括放射線照射裝置，用于采用放射線來照射待成像的受檢者的成像區(qū)；放射線檢測裝置，具有第一和第二放射線檢測模塊，其中檢測透過所述受檢者的所述成像區(qū)的放射線的放射線檢測元件設(shè)置成陣列形式，所述第一和第二放射線檢測模塊設(shè)置成彼此相鄰；以及擬合處理裝置，用于對檢測數(shù)據(jù)進(jìn)行擬合處理，采用的方式是，在所述放射線檢測裝置檢測的放射線所產(chǎn)生的檢測數(shù)據(jù)中，與靠近所述第一與第二放射線檢測模塊之間邊界的放射線檢測元件對應(yīng)的第一組放射線檢測元件檢測的放射線所產(chǎn)生的第一檢測數(shù)據(jù)適合基于與位于所述第一組放射線檢測元件周圍的放射線檢測元件對應(yīng)的第二組放射線檢測元件檢測的放射線所產(chǎn)生的第二檢測數(shù)據(jù)的波形數(shù)據(jù)。
2.如權(quán)利要求1所述的放射線斷層造影設(shè)備，其特征在于，所述擬合處理裝置執(zhí)行采用所述第一檢測數(shù)據(jù)和所述第二檢測數(shù)據(jù)的擬合處理。
3.如權(quán)利要求1所述的放射線斷層造影設(shè)備，其特征在于，所述擬合處理裝置根據(jù)僅采用所述第二檢測數(shù)據(jù)的擬合處理來計算對應(yīng)于所述第一檢測數(shù)據(jù)的偽數(shù)據(jù)，并用所述第一檢測數(shù)據(jù)來代替所述偽數(shù)據(jù)。
4.如權(quán)利要求1所述的放射線斷層造影設(shè)備，其特征在于，所述擬合處理裝置分別通過所述第一和第二放射線檢測模塊、根據(jù)采用所述第二檢測數(shù)據(jù)的所述擬合處理來計算對應(yīng)于所述第一檢測數(shù)據(jù)的第一偽數(shù)據(jù)，分別通過所述第一和第二放射線檢測模塊來計算與所述第一偽數(shù)據(jù)和所述第一檢測數(shù)據(jù)之間差異對應(yīng)的數(shù)據(jù)，分別通過所述第一和第二放射線檢測模塊來計算所述差異數(shù)據(jù)的平均數(shù)據(jù)，分別通過所述第一和第二放射線檢測模塊來計算與所述第一數(shù)據(jù)和所述差異平均數(shù)據(jù)之間差異對應(yīng)的第二偽數(shù)據(jù)，以及采用所述第二偽數(shù)據(jù)代替分別與所述第一和第二放射線檢測模塊對應(yīng)的所述第一檢測數(shù)據(jù)。
5.如權(quán)利要求1到4中任一項所述的放射線斷層造影設(shè)備，其特征在于，所述擬合處理裝置執(zhí)行多項式擬合處理作為所述擬合處理。
6.如權(quán)利要求1到5中任一項所述的放射線斷層造影設(shè)備，其特征在于還包括斷層造影圖像生成裝置，用于根據(jù)經(jīng)過所述擬合處理的所述檢測數(shù)據(jù)產(chǎn)生所述受檢者的所述成像區(qū)的斷層造影圖像數(shù)據(jù)。
7.如權(quán)利要求6所述的放射線斷層造影設(shè)備，其特征在于還包括顯示裝置，用于根據(jù)所述斷層造影圖像生成裝置所產(chǎn)生的所述斷層造影圖像數(shù)據(jù)來顯示斷層造影圖像。
8.如權(quán)利要求1到7中任一項所述的放射線斷層造影設(shè)備，其特征在于，所述放射線照射裝置應(yīng)用X射線作為所述放射線。
9.一種采用放射線斷層造影設(shè)備的放射線斷層造影方法，所述放射線斷層造影設(shè)備包括放射線照射裝置，用于采用放射線照射待成像的受檢者的成像區(qū)；以及放射線檢測裝置，具有第一和第二放射線檢測模塊，其中檢測透過所述受檢者的所述成像區(qū)的放射線的放射線檢測元件設(shè)置成陣列形式，所述第一和第二放射線檢測模塊設(shè)置成彼此相鄰，所述放射線斷層造影方法包括擬合處理過程，用于對檢測數(shù)據(jù)執(zhí)行擬合處理，采用的方式是，在所述放射線檢測裝置檢測的放射線所產(chǎn)生的檢測數(shù)據(jù)中，與靠近所述第一與第二放射線檢測模塊之間邊界的放射線檢測元件對應(yīng)的第一組放射線檢測元件檢測的放射線所產(chǎn)生的第一檢測數(shù)據(jù)適合基于與位于所述第一組放射線檢測元件周圍的放射線檢測元件對應(yīng)的第二組放射線檢測元件檢測的放射線所產(chǎn)生的第二檢測數(shù)據(jù)的波形數(shù)據(jù)。
10.如權(quán)利要求9所述的放射線斷層造影方法，其特征在于，在所述擬合處理過程中，執(zhí)行采用所述第一檢測數(shù)據(jù)和所述第二檢測數(shù)據(jù)的擬合處理。
全文摘要
本發(fā)明旨在防止因串?dāng)_而導(dǎo)致的斷層造影圖像對比度的下降和偽像的出現(xiàn)，并且提高斷層造影圖像的質(zhì)量。檢測數(shù)據(jù)經(jīng)過擬合處理，采用的方式是，在設(shè)置成彼此相鄰的多個X射線檢測模塊中設(shè)置成陣列形式的X射線檢測元件檢測的X射線所產(chǎn)生的數(shù)據(jù)中，靠近多個X射線檢測模塊之間邊界的X射線檢測元件檢測的X射線所產(chǎn)生的第一檢測數(shù)據(jù)適合基于位于相鄰X射線檢測元件周圍的X射線檢測元件檢測的X射線所產(chǎn)生的第二檢測數(shù)據(jù)的波形數(shù)據(jù)。
文檔編號G01T1/161GK1593341SQ200410079109
公開日2005年3月16日 申請日期2004年9月8日 優(yōu)先權(quán)日2003年9月8日
發(fā)明者鄉(xiāng)野誠, 貫井正健 申請人:Ge醫(yī)療系統(tǒng)環(huán)球技術(shù)有限公司