專利名稱：測量薄膜折射率的方法及裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種測量薄膜折射率的方法，特別是采用光柵干涉原理測定薄膜折射率的方法，同時還涉及實現(xiàn)該方法的設(shè)備裝置，屬于薄膜測量技術(shù)領(lǐng)域，在半導(dǎo)體及光電器件、顯示器件、光學(xué)薄膜材料、光磁盤材料和有機薄膜等領(lǐng)域有廣泛應(yīng)用。
背景技術(shù)：
薄膜材料是當(dāng)前科技研究和發(fā)展的熱點，薄膜折射率是重要的光學(xué)指標之一。測量薄膜折射率的主要方法有橢圓偏振法、棱鏡耦合法和分光光度法等。橢圓偏振法有很高的測量精度，但當(dāng)薄膜折射率和基底折射率相接近時，如測定玻璃表面SiO2膜的折射率時，會產(chǎn)生較大的誤差；棱鏡耦合法適用于厚膜(一般大于300nm)的折射率測量。分光光度法測量過程和計算比較復(fù)雜，且在薄膜厚度較小(一般小于300nm)時，測量精確度較差。傳統(tǒng)的干涉法也可用于薄膜折射率的測量，但調(diào)節(jié)和測量過程比較麻煩，難以確定錯位條紋數(shù)，給折射率測量帶來不便。
(三)發(fā)明的內(nèi)容本發(fā)明的目的是針對現(xiàn)有技術(shù)存在的不足，提供一種利用光柵干涉原理對薄膜折射率進行準確測量的方法及其裝置，它能夠解決折射率不確定性問題，測量過程簡單，裝置調(diào)節(jié)方便，測量穩(wěn)定可靠，且易于實現(xiàn)。本方法測量條紋的精度達λ/10～λ/20(λ表示波長)，測量折射率精度為0.01～0.005，適用于透明或不透明基底上透明或弱吸收薄膜折射率的測量，也適合于測量雙折射薄膜的折射率。
本發(fā)明方法包括如下步驟(1)由光源發(fā)射的一束單色光經(jīng)光束處理機構(gòu)處理，形成一束高質(zhì)量的平面平行波或球面波照明光柵；(2)平面平行波或球面波經(jīng)過光柵衍射，在傅立葉透鏡的頻譜平面上形成光柵的頻譜，在光柵共軛象面上形成一個被放大的光柵象或干涉條紋，由輸出與測量結(jié)構(gòu)完成接收和測量；
(3)在傅立葉透鏡的頻譜平面上放置二元濾波器和待測薄膜樣品，調(diào)整它們的位置，使經(jīng)過薄膜樣品的光束先后產(chǎn)生兩套有錯位量的干涉條紋，通過條紋測量裝置讀取它們的周期和錯位量；(4)以干涉條紋的周期和錯位量為依據(jù)，計算得到待測薄膜樣品的折射率。
在上述方法中，步驟(1)中單色光經(jīng)光束處理機構(gòu)處理，形成平面平行波或球面波的過程如下單色光首先經(jīng)過擴束鏡擴束，經(jīng)過一個針孔濾波器低通濾波，再經(jīng)過準直鏡形成平面平行波；或者經(jīng)過擴束鏡擴束，再經(jīng)過一個針孔濾波器低通濾波形成球面波照明。
步驟(2)中，當(dāng)待測薄膜樣品為透明基底時，光束照射待測薄膜樣品，在其共軛象面上形成一個被放大的光柵象，由位于象面上的輸出與測量結(jié)構(gòu)中的條紋測量裝置直接進行測量，或者先經(jīng)過輸出與測量結(jié)構(gòu)中的傅立葉透鏡處理后，再由位于象面上的條紋測量裝置測量；當(dāng)待測薄膜樣品為不透明基底時，光束照射待測薄膜樣品后，其形成的放大光柵象或干涉條紋，必須先經(jīng)過輸出與測量結(jié)構(gòu)中的分束鏡分束反射后，才能由輸出與測量結(jié)構(gòu)中、位于共軛象面上的條紋測量裝置進行測量。
步驟(3)中，調(diào)整待測薄膜樣品位置的方法如下當(dāng)薄膜及基底為透明時，將二元濾波器(開口為0.1～3mm)與薄膜樣品疊放在一起，置于傅立葉透鏡的頻譜平面上，僅讓光柵頻譜的二個干涉極大點通過(不一定是相鄰極大點)，這樣在象面處出現(xiàn)按正弦規(guī)律變化的干涉條紋，其間隔或周期可由輸出與測量結(jié)構(gòu)測量。由于薄膜樣品鍍有臺階，且薄膜及基底是透明的，調(diào)節(jié)薄膜樣品和二元濾波器的位置，讓選定的兩個極大點同時透過透明基底，用輸出與測量結(jié)構(gòu)測量干涉條紋的周期和位置；然后沿垂直于光軸方向平移薄膜樣品，使其中一個極大點透過薄膜，另一個極大點仍透過基底，這時，干涉條紋會發(fā)生位移，再用輸出與測量結(jié)構(gòu)測量條紋的錯位量。當(dāng)薄膜透明而其基底非透明時，其調(diào)節(jié)方式如下將二元濾波器(開口為0.1～3mm)與薄膜樣品疊放在一起，置于傅立葉透鏡的頻譜平面上，僅讓光柵頻譜的二個干涉極大點反射(不一定是相鄰極大點)，經(jīng)分束鏡反射，在光柵的象面處出現(xiàn)按正弦規(guī)律變化的干涉條紋，其間隔或周期可由輸出與測量結(jié)構(gòu)測量。由于薄膜樣品鍍有臺階，且基底是不透明的，調(diào)節(jié)薄膜樣品和二元濾波器的位置，讓選定的兩個極大點同時經(jīng)基底反射，再經(jīng)分束鏡反射，用輸出與測量結(jié)構(gòu)測量干涉條紋的周期和位置；然后沿垂直于光軸方向平移薄膜樣品，使其中一個極大點透過薄膜，再由基底反射，另一個極大點直接由基底反射，其反射光再經(jīng)分束鏡反射，這時，干涉條紋會發(fā)生位移，再用輸出與測量結(jié)構(gòu)測量條紋的錯位量。
步驟(4)中，當(dāng)薄膜樣品的基底是透明時，采用如下的公式(3)或(5)計算薄膜的折射率；當(dāng)薄膜樣品的基底是非透明時，采用公式(4)或(6)計算薄膜的折射率。公式(3)、(5)和公式(4)、(6)的推導(dǎo)過程如下根據(jù)光的干涉理論和簡單計算，對于透明基底表面薄膜，兩次測量由薄膜厚度引入光程改變?yōu)閐(nf-1)=ceλ---(1)]]>對不透明基底的表面薄膜，也有2d(nf-1)=ceλ---(2)]]>(1)和(2)式中，d和nf分別為薄膜的厚度和折射率，λ為光波波長，e和c分別為干涉條紋的周期和條紋位移量。若測得e和c，且λ和d為已知量，則nf=1+cλed---(3)]]>nf=1+cλ2ed---(4)]]>對(3)和(4)式進行討論1、在很多情況下，薄膜厚度較小，(3)和(4)式是適用的，如λ＝0.6μ，nf＝1.5，對于透明基底，當(dāng)d小于1.2μ時，(3)式是成立的；對于不透明基底，d小于0.6μ時，(4)式是成立的。
2、若薄膜厚度較大時，位移量會超過一個周期，則(3)和(4)式可表示為nf=1+(m+ce)λd---(5)]]>nf=1+(m+ce)λ2d---(6)]]>(5)和(6)式中，m為錯位條紋數(shù)，取0、1、2……整數(shù)。因此，nf有多個不確定值?？刹捎脙煞N方法解決一是查找材料數(shù)據(jù)手冊，根據(jù)生產(chǎn)過程的條件確定折射率的變化范圍而取舍；二是采用雙波長光照明測量方法，確定的m值。設(shè)|λ1-λ2|足夠小，以至兩種波長產(chǎn)生的條紋錯位數(shù)m相同，且nf不隨波長改變，則由(5)和(6)式得m=λ2c2-λ1c1e(λ1-λ2)---(7)]]>由(7)式求得的m可能不是整數(shù)，取最接近的整數(shù)代入(5)或(6)式，確定值nf。
3、若考慮光從光疏介質(zhì)入射到光密介質(zhì)的反射位相損失，(2)式應(yīng)改變?yōu)?(8)式中為反射位相損失量，對于同一類型的薄膜是一個常數(shù)，可用實驗確定。設(shè)膜厚較小，即m＝0，d和nf已知，則 因此，測量不透明基底的表面薄膜時，應(yīng)考慮的影響。
為了實現(xiàn)本發(fā)明方法，必須采用專門設(shè)計的專用設(shè)備裝置來實現(xiàn)干涉條紋周期和錯位量的讀取。本發(fā)明的實現(xiàn)裝置由光源、光束處理機構(gòu)、光柵、傅立葉透鏡、二元濾波器、待測薄膜樣品支架、輸出與測量結(jié)構(gòu)共同連接構(gòu)成，其相互位置與連接關(guān)系為沿著光束前進的方向，依次共軸(指光軸)排列著光源、光束處理機構(gòu)、光柵、傅立葉透鏡、二元濾波器、待測薄膜樣品支架、輸出與測量結(jié)構(gòu)，其相互位置保證由光源發(fā)射的一束單色光經(jīng)光束處理機構(gòu)處理，形成一束高質(zhì)量的平面平行波或球面波照明光柵，平面平行波或球面波經(jīng)過光柵衍射，在傅立葉透鏡的頻譜平面上形成光柵的頻譜，經(jīng)二元濾波器處理，照射待測薄膜樣品，在光柵共軛象面上形成一個被放大的光柵象或干涉條紋，由輸出與測量結(jié)構(gòu)完成接收和測量。在本裝置中，上述各部件由相應(yīng)的安裝支架固定和安裝，相鄰部件之間的距離和位置可以調(diào)節(jié)。
在上述裝置中，擴束鏡與準直鏡的相互距離等于它們的焦距之和；光柵常數(shù)b和傅立葉透鏡的焦距f必須滿足如下關(guān)系1b=xλf]]>。式中x是頻譜面F處相鄰極大之間的距離。
在上述裝置中，光束處理機構(gòu)包括擴束鏡和針孔濾波器，或者包括擴束鏡、針孔濾波器和準直鏡；二元濾波器和待測薄膜樣品由有多維調(diào)節(jié)功能的安裝支架安裝于頻譜面上，使它們可沿垂直于光軸方向微動。當(dāng)待測薄膜樣品為透明基底時，輸出與測量結(jié)構(gòu)由一個條紋測量裝置、或者一個傅立葉透鏡和一個條紋測量裝置構(gòu)成，當(dāng)待測薄膜樣品為非透明基底時，輸出與測量結(jié)構(gòu)由一個分束鏡和一個條紋測量裝置構(gòu)成。
本發(fā)明的原理是利用光柵通過透鏡產(chǎn)生多個極大點，在頻譜面上放置二元濾波器及薄膜樣品，在光柵共軛象面上獲得干涉條紋，利用輸出與測量結(jié)構(gòu)在象面上進行接收和觀察，并測量干涉條紋的周期和錯位量，從而求得薄膜的折射率。
本發(fā)明具有如下優(yōu)點或效果1、實驗表明，本發(fā)明方法光路調(diào)整及測量過程方便、快捷，干涉條紋穩(wěn)定可靠，條紋間隔方便調(diào)節(jié)；2、本發(fā)明方法對薄膜及基底材料折射率的相對大小無特殊要求；3、本發(fā)明方法較好地解決薄膜折射率不確定的問題，測量范圍大；4、本發(fā)明方法的測量折射率精度達到0.01～0.005；5、本發(fā)明裝置設(shè)計簡單、采用的部件均為常用部件，容易實現(xiàn)且成本較低。
(四)


圖1是本發(fā)明方法的程序方框圖；圖2是本發(fā)明裝置第一種實施方式的結(jié)構(gòu)示意圖；圖3是本發(fā)明裝置第二種實施方式的結(jié)構(gòu)示意圖；圖4是本發(fā)明裝置第三種實施方式的結(jié)構(gòu)示意圖；圖5是本發(fā)明裝置第四種實施方式的結(jié)構(gòu)示意圖。
(五)具體的實施方式由圖1可見，本發(fā)明方法包括如下步驟(1)由光源發(fā)射的一束單色光經(jīng)光束處理機構(gòu)處理，形成一束高質(zhì)量的平面平行波或球面波照明光柵；(2)平面平行波或球面波經(jīng)過光柵衍射，在傅立葉透鏡的頻譜平面上形成光柵的頻譜，在光柵共軛象面上形成一個被放大的光柵象或干涉條紋，由輸出與測量結(jié)構(gòu)完成接收和測量；(3)在傅立葉透鏡的頻譜平面上放置二元濾波器和待測薄膜樣品，調(diào)整它們的位置，使經(jīng)過薄膜樣品的光束先后產(chǎn)生兩套有錯位量的干涉條紋，通過輸出與測量結(jié)構(gòu)讀取它們的周期和錯位量；(4)以干涉條紋的周期和錯位量為依據(jù)，計算得到待測薄膜樣品的折射率。
由圖2所示的具體實施方式
適合于透明基底表面薄膜折射率的測量。圖中，1為光源，2為擴束鏡，3為準直鏡，4為光柵，5為傅立葉透鏡，6為二元濾波器，7為待測薄膜樣品，8為條紋測量裝置，9為針孔濾波器。O、F和I分別為物面、頻譜面及象面。擴束鏡2和準直鏡3構(gòu)成光束處理機構(gòu)；輸出與測量結(jié)構(gòu)由條紋測量裝置8構(gòu)成。
光源1是單色光源，可采用各類可見光激光器，如He-Ne激光器和半導(dǎo)體激光器等，也可以是傳統(tǒng)的光源經(jīng)濾色片或單色儀分光獲得或光纖引入，如白熾燈、氙燈和汞燈等。擴束鏡2和準直鏡3構(gòu)成了倒望遠鏡系統(tǒng)，獲得一束平行光。針孔濾波器9是在黑色的金屬片上打直徑為幾十微米的小孔而制成，作用是使光斑更加均勻。光柵4是一維的普通光柵，如振幅、位相或Ronchi光柵等，由全息照相、光刻或模壓等方法制造。傅立葉透鏡5最好是消象差的，使光柵的象沒有明顯變形。光柵常數(shù)b和傅立葉透鏡的焦距f滿足如下關(guān)系1b=xλf]]>式中x是頻譜面F處相鄰極大之間的距離。一般x應(yīng)足夠大，以二元濾波器6和薄膜樣品7容易調(diào)節(jié)為依據(jù)，合理選擇b和f的大小。所有透鏡可以是玻璃或塑料等制成，二元濾波器6上開有矩形小孔，可用黑色的金屬片或塑料片等材料制作，條紋測量裝置8可以是一只測量顯微鏡，也可以由一維線陣或二維面陣光電探測器或攝像頭(如CCD或SSPD等)及其數(shù)據(jù)處理裝置組成。整個測量系統(tǒng)可設(shè)計成小型的專門測量儀器，以便調(diào)整和測量。
本測量裝置光路可按下述步驟或方法進行調(diào)整首先調(diào)節(jié)光束與光具座或光學(xué)平臺平行，使擴束鏡、準直鏡和傅立葉透鏡共軸；調(diào)節(jié)擴束鏡與準直鏡的相互位置，使它們的距離等于它們的焦距之和，獲得一束平行光，再使光柵通過傅立葉透鏡成象于條紋測量裝置處，最后在頻譜面插入二元濾波器及薄膜樣品，進行測量。
圖3是本發(fā)明方法的另一種典型的實施方式，適合于非透明基底表面薄膜折射率的測量。在傅立葉透鏡5左邊的光路及元件與圖2是一致的，其區(qū)別是輸出與測量結(jié)構(gòu)增加了一塊分束鏡10，使薄膜樣品反射回來的光經(jīng)過分束鏡后反射到I處，由條紋測量裝置8接收及測量。
圖4所示的具體實施方式
適合于透明基底表面薄膜折射率的測量。圖中，光束處理機構(gòu)由擴束鏡2和針孔濾波器9構(gòu)成；輸出與測量結(jié)構(gòu)由條紋測量裝置8構(gòu)成。其它與圖2相同。在本具體實施方式
中，傅立葉透鏡5既起到傅立葉變換的作用，也有輸出的功能，使本裝置的結(jié)構(gòu)更加簡單。
圖5所示的具體實施方式
適合于透明基底表面薄膜折射率的測量。圖中，光束處理機構(gòu)由擴束鏡2、針孔濾波器9和準直鏡3構(gòu)成；輸出與測量結(jié)構(gòu)由傅立葉透鏡11和條紋測量裝置8構(gòu)成。其它與圖2相同。
本發(fā)明并不局限于上述的方案，只要利用光柵通過透鏡產(chǎn)生多個極大點，在頻譜面上放置濾波器及薄膜樣品，在光柵共軛象面上獲得干涉條紋，利用輸出與測量結(jié)構(gòu)在象面上進行接收和觀察，并測量干涉條紋的周期和錯位量，從而求得薄膜折射率的方法以及相應(yīng)的系統(tǒng)，均屬于本專利的保護范圍。
權(quán)利要求
1.一種測量薄膜折射率的方法，其特征在于包括如下步驟(1)由光源(1)發(fā)射的一束單色光經(jīng)光束處理機構(gòu)處理，形成一束高質(zhì)量的平面平行波或球面波照明光柵(4)；(2)平面平行波或球面波經(jīng)過光柵(4)衍射，在傅立葉透鏡(5)的頻譜平面上形成光柵的頻譜，在光柵共軛象面上形成一個被放大的光柵象或干涉條紋，由輸出與測量結(jié)構(gòu)完成接收和測量；(3)在傅立葉透鏡(5)的頻譜平面上放置二元濾波器(6)和待測薄膜樣品(7)，調(diào)整它們的位置，使經(jīng)過薄膜樣品的光束先后產(chǎn)生兩套有錯位量的干涉條紋，通過條紋測量裝置讀取它們的周期和錯位量；(4)以干涉條紋的周期和錯位量為依據(jù)，計算得到待測薄膜樣品的折射率。
2.如權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于步驟(1)中單色光經(jīng)光束處理機構(gòu)處理，形成平面平行波或球面波的過程如下單色光首先經(jīng)過擴束鏡(2)擴束，經(jīng)過一個針孔濾波器(9)低通濾波，再經(jīng)過準直鏡(3)形成平面平行波；或者經(jīng)過擴束鏡(2)擴束，再經(jīng)過一個針孔濾波器(9)低通濾波形成球面波照明。
3.如權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于步驟(2)中，當(dāng)待測薄膜樣品為透明基底時，光束照射待測薄膜樣品(7)，在其共軛象面上形成一個被放大的光柵象，由位于象面上的輸出與測量結(jié)構(gòu)中的條紋測量裝置(8)直接進行測量，或者先經(jīng)過輸出與測量結(jié)構(gòu)中的傅立葉透鏡(5)處理后，再由位于象面上的條紋測量裝置(8)測量；當(dāng)待測薄膜樣品為不透明基底時，光束照射待測薄膜樣品(7)后，其形成的放大光柵象或干涉條紋，先經(jīng)過輸出與測量結(jié)構(gòu)中的分束鏡(10)分束反射后，再由輸出與測量結(jié)構(gòu)中、位于共軛象面上的條紋測量裝置(8)進行測量。
4.如權(quán)利要求1或2或3所述的方法，其特征在于步驟(3)中，調(diào)整待測薄膜樣品(7)位置的方法如下當(dāng)薄膜及基底為透明時，將二元濾波器(6)與薄膜樣品(7)疊放在一起，置于傅立葉透鏡(5)的頻譜平面上，僅讓光柵頻譜的二個干涉極大點通過，在象面處出現(xiàn)按正弦規(guī)律變化的干涉條紋，其間隔或周期由輸出與測量結(jié)構(gòu)測量，調(diào)節(jié)薄膜樣品(7)和二元濾波器(6)的位置，讓選定的兩個極大點同時透過透明基底，用輸出與測量結(jié)構(gòu)測量干涉條紋的周期和位置，然后沿垂直于光軸方向平移薄膜樣品(7)，使其中一個極大點透過薄膜，另一個極大點仍透過基底，干涉條紋發(fā)生位移，再用輸出與測量結(jié)構(gòu)測量條紋的錯位量；當(dāng)薄膜透明而其基底非透明時，其調(diào)節(jié)方式如下將二元濾波器(6)與薄膜樣品(7)疊放在一起，置于傅立葉透鏡(5)的頻譜平面上，僅讓光柵頻譜的二個干涉極大點反射，經(jīng)分束鏡(10)反射，在光柵的象面處出現(xiàn)按正弦規(guī)律變化的干涉條紋，其間隔或周期由輸出與測量結(jié)構(gòu)測量，調(diào)節(jié)薄膜樣品(7)和二元濾波器(6)的位置，讓選定的兩個極大點同時經(jīng)基底反射，再經(jīng)分束鏡(10)反射，用輸出與測量結(jié)構(gòu)測量干涉條紋的周期和位置，然后沿垂直于光軸方向平移薄膜樣品(7)，使其中一個極大點透過薄膜，再由基底反射，另一個極大點直接由基底反射，其反射光再經(jīng)分束鏡(10)反射，干涉條紋發(fā)生位移，再用輸出與測量結(jié)構(gòu)測量條紋的錯位量。
5.一種測量薄膜折射率的裝置，其特征在于它由光源(1)、光束處理機構(gòu)、光柵(4)、傅立葉透鏡(5)、二元濾波器(6)、待測薄膜樣品支架、輸出與測量結(jié)構(gòu)共同連接構(gòu)成，其相互位置與連接關(guān)系為沿著光束前進的方向，依次共軸排列著光源(1)、光束處理機構(gòu)、光柵(4)、傅立葉透鏡(5)、二元濾波器(6)、待測薄膜樣品支架、輸出與測量結(jié)構(gòu)，其相互位置保證由光源(1)發(fā)射的一束單色光經(jīng)光束處理機構(gòu)處理，形成一束高質(zhì)量的平面平行波或球面波照明光柵(4)，平面平行波或球面波經(jīng)過光柵(4)衍射，在傅立葉透鏡(5)的頻譜平面上形成光柵(4)的頻譜，經(jīng)二元濾波器(6)處理，照射待測薄膜樣品(7)，在光柵共軛象面上形成一個被放大的光柵象或干涉條紋，由輸出與測量結(jié)構(gòu)完成接收和測量。
6.如權(quán)利要求5所述的裝置，其特征在于所述的擴束鏡(2)與準直鏡(3)的相互距離等于它們的焦距之和；光柵常數(shù)b和傅立葉透鏡(5)的焦距f滿足如下關(guān)系1b=xλf]]>。
7.如權(quán)利要求5所述的裝置，其特征在于所述的光束處理機構(gòu)包括擴束鏡(2)和針孔濾波器(9)，或者包括擴束鏡(2)、針孔濾波器(9)和準直鏡(3)；
8.如權(quán)利要求5所述的裝置，其特征在于所述的二元濾波器(6)和待測薄膜樣品支架可沿垂直于光軸方向微動。
9.如權(quán)利要求5所述的裝置，其特征在于當(dāng)待測薄膜樣品為透明基底時，輸出與測量結(jié)構(gòu)由一個條紋測量裝置(8)、或者一個傅立葉透鏡(5)和一個條紋測量裝置(8)構(gòu)成，當(dāng)待測薄膜樣品為非透明基底時，輸出與測量結(jié)構(gòu)由一個分束鏡(10)和一個條紋測量裝置(8)構(gòu)成。
10.如權(quán)利要求5或6或7或8或9所述的裝置，其特征在于所述的光源(1)是單色光源，可采用He-Ne激光器或半導(dǎo)體激光器，也可以是白熾燈、氙燈或汞燈經(jīng)濾色片或單色儀分光獲得或光纖引入；所述的光柵(4)采用振幅、位相或Ronchi光柵；傅立葉透鏡(5)采用消象差透鏡；二元濾波器(6)上開有0.1～3mm矩形小孔；所述的條紋測量裝置(8)由一只測量顯微鏡構(gòu)成，或者由一維線陣或二維面陣光電探測器或攝像頭及其數(shù)據(jù)處理裝置組成。
全文摘要
測量薄膜折射率的方法及其裝置，是利用光柵通過透鏡產(chǎn)生多個極大點，在頻譜面上放置二元濾波器及薄膜樣品，在光柵共軛象面上獲得干涉條紋，利用輸出與測量結(jié)構(gòu)在象面上進行接收和觀察，并測量干涉條紋的周期和錯位量，從而求得薄膜的折射率。它能夠解決折射率不確定性問題，測量過程簡單，裝置調(diào)節(jié)方便，測量穩(wěn)定可靠，且易于實現(xiàn)。本發(fā)明測量條紋的精度達λ/10～λ/20，測量折射率精度為0.01～0.005。
文檔編號G01N21/41GK1447111SQ0311365
公開日2003年10月8日 申請日期2003年1月23日 優(yōu)先權(quán)日2003年1月23日
發(fā)明者黃佐華, 何振江, 楊冠玲 申請人:華南師范大學(xué)