專利名稱：用來(lái)確定物體微起伏和表層的光學(xué)性質(zhì)的方法、一種用于該方法實(shí)現(xiàn)的調(diào)制顯微鏡的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及光學(xué)，具體地說(shuō)，涉及用來(lái)確定物體表層的光學(xué)材料常數(shù)的微起伏和分布的方法，并且能用于在微電子、納米技術(shù)、材料科學(xué)、醫(yī)學(xué)、和生物學(xué)中的研究。
一種用來(lái)觀看物體微起伏的方法是已知的，該方法包括步驟把微物體場(chǎng)曝光于一種相干、單色輻射，并且把從物體反射的輻射轉(zhuǎn)換成與圖像點(diǎn)相對(duì)應(yīng)的電信號(hào)(USSR作者證書No 1734066，Int.Cl.G02B 21/00，1992)。
這種方法允許達(dá)到顯著超過(guò)傳統(tǒng)振幅顯微鏡的分辨率極限。
然而，它允許僅對(duì)于是單一材料并且具有簡(jiǎn)單幾何形狀的少量較簡(jiǎn)單物體得到較高空間分辨率。
所述方法的缺點(diǎn)如下-在物體表面處具有不同光學(xué)參數(shù)的材料存在的情況下，即使用中等分辨率也不可能合理地譯碼物體相位圖像。
-不可能研究微物體表層的光學(xué)材料常數(shù)的高度有益分布。
一種微型橢率計(jì)是已知的，它允許進(jìn)行用來(lái)確定物體微起伏和表層光學(xué)特征的一種方法(Interferometrical Profilometry atSurfaces with Varying Materials，H.Jennewein，H.Gottschling，T.Ganz and T.Tschudi，Proceedings of SPIEMetrology，Inspectionand Process Control for Microlithography XIII，Vol.3677 II(1999)p.1009)。
在已知方法中，同時(shí)測(cè)量微物體起伏的參數(shù)和表層的復(fù)數(shù)折射率。該方法允許考慮和補(bǔ)償在具體的階形起伏情形下局部復(fù)數(shù)折射率對(duì)起伏高度名義值的影響。
這種已知方法的缺點(diǎn)如下
-對(duì)于折射率的分布和對(duì)于起伏參數(shù)都具有較低的橫向分辨率；-對(duì)于變通型起伏和對(duì)于光學(xué)各向異性材料不可能執(zhí)行材料和幾何參數(shù)的同時(shí)研究的程序；-所述方法在確定光學(xué)常數(shù)時(shí)具有較低精度。
在技術(shù)本質(zhì)上與提出方法最接近的方法是一種用來(lái)確定物體微起伏和表層光學(xué)性質(zhì)的方法，該方法包括步驟進(jìn)行一種偏振調(diào)制把一個(gè)輸入相干、單色偏振光束分離成一個(gè)經(jīng)顯微透鏡曝光物體場(chǎng)的物體光束、和一個(gè)基準(zhǔn)光束；進(jìn)行基準(zhǔn)光束的相位調(diào)制；進(jìn)行光束的干涉混合；抽取兩個(gè)相互正交的偏振分量，并且得到一個(gè)干涉圖；選擇所述干涉圖的最小碎塊(象素)；把所述碎塊的平均照亮度轉(zhuǎn)換成相應(yīng)電信號(hào)；確定相位調(diào)制信號(hào)的可變分量的相位和振幅；計(jì)算從物體束落到象素上的光的相位、振幅及偏振參數(shù)的值；及計(jì)算物體表層的光學(xué)材料常數(shù)(俄羅斯專利No 2029976，Int.Cl.G02B 21/00，1995)。
然而，已知方法由于不可能保證以高度吸光把物體曝光于偏振光，所以在確定光學(xué)常數(shù)時(shí)具有低精度，并且在較暗和不良反射物體的情況下，這種方法在確定由使來(lái)自基準(zhǔn)和物體束的象素曝光等同的可能性不存在引起的起伏參數(shù)和光學(xué)材料恒定分布時(shí)具有較低的空間分辨率。
在技術(shù)本質(zhì)上與提出的裝置最接近的裝置是一種調(diào)制干涉顯微鏡，它包括一個(gè)激光器、一個(gè)相位調(diào)制器、一個(gè)偏振調(diào)制器、還有一個(gè)望遠(yuǎn)鏡、分析儀和沿一個(gè)單光學(xué)軸安裝的光電探測(cè)器、及一個(gè)控制發(fā)生器、一個(gè)信號(hào)處理單元、一個(gè)設(shè)計(jì)成經(jīng)一根交換總線連接到計(jì)算機(jī)上的控制器。信號(hào)處理單元包括一個(gè)信號(hào)可變分量振幅測(cè)量?jī)x和一個(gè)相位測(cè)量?jī)x(俄羅斯專利No 2029976，Int.Cl.G02B 21/00，1995)。
然而，已知顯微鏡由于電氣光學(xué)偏振調(diào)制器的較低吸光、和這種吸光的額外減少以光束穿過(guò)顯微透鏡的透鏡系統(tǒng)兩次和缺乏保證最佳調(diào)制模式的可能性為代價(jià)，所以不允許高精度測(cè)量光學(xué)常數(shù)。
已知顯微鏡具有由相位和偏振失衡的分辨率級(jí)，這不允許得到光學(xué)常數(shù)分布的較高空間分辨率。已知顯微鏡不允許在物體和基準(zhǔn)束中進(jìn)行光強(qiáng)度的受控重新分布，這不允許使來(lái)自所述束的給定象素曝光相等，由此減小調(diào)制信號(hào)可變分量的相對(duì)值和使所有精度和分辨率參數(shù)變壞。
這種缺點(diǎn)對(duì)于較暗物體和對(duì)于具有不良反射表面的物體，例如對(duì)于流體，特別實(shí)際。
由提出的發(fā)明解決的技術(shù)問(wèn)題在于當(dāng)確定起伏的幾何參數(shù)和材料光學(xué)常數(shù)的分布時(shí)增大空間分辨率；增大包括光學(xué)各向異性常數(shù)的確定常數(shù)的數(shù)量；顯著提高材料常數(shù)確定的精度；及擴(kuò)展研究物體的范圍。
本發(fā)明的技術(shù)結(jié)果通過(guò)提供一種用來(lái)確定物體微起伏和表層光學(xué)性質(zhì)的方法實(shí)現(xiàn)，該方法包括步驟進(jìn)行一種偏振調(diào)制把一個(gè)輸入相干、單色偏振光通量分離成一個(gè)經(jīng)顯微透鏡曝光物體場(chǎng)的物體光束、和一個(gè)基準(zhǔn)光束；進(jìn)行基準(zhǔn)光束的相位調(diào)制；進(jìn)行光束的干涉混合；抽取兩個(gè)相互正交的偏振分量，并且得到一個(gè)干涉圖；選擇所述干涉圖的最小碎塊(象素)；把所述碎塊的平均照亮度轉(zhuǎn)換成相應(yīng)電信號(hào)；確定相位調(diào)制信號(hào)的可變分量的相位和振幅；計(jì)算從物體束落到象素上的光的相位、振幅及偏振參數(shù)的值；及計(jì)算物體表層的光學(xué)材料常數(shù)，其中根據(jù)本發(fā)明，該方法包括步驟與把光通量分離成物體和基準(zhǔn)束的步驟的同時(shí)，進(jìn)行在這些束之間的光通量強(qiáng)度的受控制重新分布；分別對(duì)于物體束和基準(zhǔn)束進(jìn)行偏振調(diào)制；通過(guò)使物體束從內(nèi)部通過(guò)顯微透鏡的前透鏡的前表面進(jìn)行物體場(chǎng)曝光，并且進(jìn)行光束的干涉混合；在測(cè)量之前，建立在基準(zhǔn)與物體束之間的初步照亮度比，并且計(jì)算從物體束落到象素上的光的初級(jí)相位和振幅值；在對(duì)于全部象素集重復(fù)該運(yùn)算之后，通過(guò)重新分布這些束的強(qiáng)度，進(jìn)行使分別來(lái)自物體和基準(zhǔn)束的一個(gè)象素的照亮相等的步驟；測(cè)量調(diào)制信號(hào)可變分量的相位和振幅；及計(jì)算從物體束落到象素上的光的一個(gè)精細(xì)相位和振幅值。
本發(fā)明的特征也在于，在兩種線性獨(dú)立偏振條件下順序進(jìn)行物體場(chǎng)的曝光。
在使用一個(gè)偏振分析儀的同時(shí)，這允許得到如下顯微物體特性-局部正常和顯微物體高度的向量的一種分布，-用于各向異性物體的復(fù)數(shù)折射率的分布，-光軸取向和用于不包括光軸的垂直定位的情形的一軸兩束折射材料的復(fù)數(shù)折射率的值。
本發(fā)明的特征也在于另外的步驟通過(guò)把基準(zhǔn)束光的相位設(shè)置成與從物體束落到象素上的光反相，進(jìn)行從物體束落到象素上的光的振幅值的另外細(xì)化；通過(guò)改變物體與基準(zhǔn)光束的強(qiáng)度比，進(jìn)行振幅調(diào)制；確定與象素的相同照亮相對(duì)應(yīng)的兩個(gè)不同強(qiáng)度比；及計(jì)算從物體束落到象素上的光的一個(gè)分?jǐn)?shù)。
這允許以提高在確定反射率時(shí)的精度為代價(jià)提高在確定光學(xué)材料常數(shù)時(shí)的精度，并且提高所述常數(shù)分布的空間分辨率。
本發(fā)明的特征也在于另外的步驟另外把物體束相位設(shè)置成與從物體束落到象素上的光同相；連續(xù)進(jìn)行物體束的偏振調(diào)制；測(cè)量偏振調(diào)制信號(hào)；及計(jì)算所述偏振調(diào)制信號(hào)的諧波分量的相位和振幅，由這些相位和振幅計(jì)算物體表層的光學(xué)各向異性的參數(shù)。
這允許確定完整光學(xué)材料常數(shù)集，包括任何本性的光學(xué)各向異性的參數(shù)確定。
本發(fā)明的特征也在于另外的步驟與所述基準(zhǔn)束的相位調(diào)制同時(shí)進(jìn)行物體束和基準(zhǔn)束的偏振調(diào)制，物體束相位調(diào)制的頻率高于或低于光束偏振調(diào)制的頻率；測(cè)量信號(hào)包絡(luò)的諧波分量的相位和振幅；及計(jì)算光學(xué)材料常數(shù)，包括物體表層的光學(xué)各向異性的參數(shù)。
這給出在單個(gè)過(guò)程的上下文中研究各向同性和各向性顯微物體而沒(méi)有關(guān)于光學(xué)各向異性特性的事前假設(shè)、和保證對(duì)于基本上各向異性顯微物體的幀輸入時(shí)間節(jié)省的可能性。
在提出專利中的技術(shù)結(jié)果通過(guò)提供一種調(diào)制干涉顯微鏡實(shí)現(xiàn)，該顯微鏡包括一個(gè)激光器；一個(gè)調(diào)制干涉儀，帶有一個(gè)相位調(diào)制器、與一個(gè)偏振調(diào)制器光學(xué)連接的準(zhǔn)直儀、和一個(gè)束分離器；沿一個(gè)單光學(xué)軸安裝的一個(gè)顯微透鏡、望遠(yuǎn)鏡、偏振分析儀單元和光電探測(cè)器；一個(gè)控制和信號(hào)處理單元，設(shè)計(jì)成經(jīng)一根交換總線連接到一個(gè)計(jì)算機(jī)上，根據(jù)本發(fā)明的顯微鏡進(jìn)一步包括一個(gè)空間微孔徑濾波器；一個(gè)設(shè)計(jì)成用來(lái)偏轉(zhuǎn)和混合光束并且布置在相同光軸上的元件；調(diào)制干涉儀，添加有借助于一個(gè)偏轉(zhuǎn)光學(xué)元件系統(tǒng)與一個(gè)第二偏振調(diào)制器光學(xué)連接的一個(gè)第二準(zhǔn)直儀、和一個(gè)相位補(bǔ)償器；使束分離器是可調(diào)節(jié)的，并且經(jīng)系統(tǒng)的反射光學(xué)元件通過(guò)一個(gè)輸出與相位調(diào)制器、偏振調(diào)制器、準(zhǔn)直儀及設(shè)計(jì)成用來(lái)偏轉(zhuǎn)和混合光束的元件的一側(cè)串聯(lián)耦合，和通過(guò)其它輸出與相位補(bǔ)償器、第二偏振調(diào)制器、第二準(zhǔn)直儀及所述元件的一個(gè)相對(duì)側(cè)串聯(lián)耦合。
使設(shè)計(jì)成用來(lái)偏轉(zhuǎn)和混合光束的元件以兩側(cè)平鏡的形式放置成與光軸成一個(gè)角，保證物體的照亮和用來(lái)與物體束混合的基準(zhǔn)束的同時(shí)反射，由此簡(jiǎn)化調(diào)制干涉儀結(jié)構(gòu)。
使平面鏡是部分透明的，消除來(lái)自靠近光軸的物體的物體束射線的陰影。
一個(gè)不透明平面鏡消除光束的相互寄生照亮。
本發(fā)明的特征還在于，設(shè)計(jì)成用來(lái)偏轉(zhuǎn)和混合光束的元件布置在顯微透鏡的前透鏡的內(nèi)側(cè)。
這允許從偏振調(diào)制器旁通過(guò)透鏡的顯微透鏡系統(tǒng)供給一種具有高度吸光的偏振光，由此允許根本上提高在確定光學(xué)材料常數(shù)時(shí)的精度。
使偏振調(diào)制器處于光學(xué)連接和串聯(lián)布置的線性偏振濾波器、受控制補(bǔ)償器和偏振平面轉(zhuǎn)動(dòng)單元的形式，允許在各束中形成任何偏振狀態(tài)和根據(jù)一種擴(kuò)展與給定物體相對(duì)應(yīng)的調(diào)制方案的最佳選擇的可能性的任意規(guī)則及時(shí)改變這種狀態(tài)。
把相位調(diào)制器對(duì)于光軸以與右邊一個(gè)不同的角度布置，并且干涉儀另外供給有放置在相位調(diào)制器與偏轉(zhuǎn)光學(xué)元件系統(tǒng)的元件之一之間的至少一個(gè)旋轉(zhuǎn)平面鏡，允許減小整個(gè)構(gòu)造尺寸。
通過(guò)用來(lái)確定物體起伏和表層光學(xué)性質(zhì)的方法的如下描述、和用于方法實(shí)施的調(diào)制干涉顯微鏡的結(jié)構(gòu)，并且通過(guò)附圖，解釋提出發(fā)明的本質(zhì)，在附圖中

圖1表示調(diào)制干涉顯微鏡；圖2表示帶有具有平面鏡的相位調(diào)制器的調(diào)制干涉儀；圖3表示帶有具有角旋轉(zhuǎn)平面鏡的相位調(diào)制器的調(diào)制干涉儀；圖4表示帶有具有角旋轉(zhuǎn)平面鏡的相位調(diào)制器的調(diào)制干涉儀，調(diào)制器放置成平行于光軸；圖5表示帶有具有平面鏡的相位調(diào)制器的調(diào)制干涉儀，調(diào)制器放置成與光軸成一個(gè)角度；圖6表示完全放置在顯微透鏡內(nèi)的調(diào)制干涉儀；圖7是圖6的頂視圖；及圖8表示偏振調(diào)制器。
提出的調(diào)制干涉顯微鏡包括一個(gè)激光器1、一個(gè)空間微孔徑濾波器2、一個(gè)調(diào)制干涉儀3、一個(gè)望遠(yuǎn)鏡4、一個(gè)偏振分析儀單元5、一個(gè)光電探測(cè)器6、沿一個(gè)單一光軸布置的元件3至6、一個(gè)設(shè)計(jì)成經(jīng)一根交換總線8連接到一個(gè)計(jì)算機(jī)(未表示)上的控制和信號(hào)處理單元7。
空間微孔徑濾波器2保證相位波前的統(tǒng)一，由此提高所有相位測(cè)量的精度，同時(shí)保證空間分辨率參數(shù)的改進(jìn)和確定材料光學(xué)常數(shù)時(shí)的精度。
調(diào)制干涉儀包括一個(gè)可調(diào)節(jié)束分離器9、一個(gè)相位補(bǔ)償器、與一個(gè)準(zhǔn)直儀11光學(xué)連接的一個(gè)偏振調(diào)制器10、一個(gè)設(shè)計(jì)成用來(lái)偏轉(zhuǎn)和混合光束的元件12、一個(gè)相位調(diào)制器13及一個(gè)與偏轉(zhuǎn)光學(xué)元件系統(tǒng)的一個(gè)第二準(zhǔn)直儀15光學(xué)連接的第二偏振調(diào)制器14。
第二準(zhǔn)直儀15保證光束的獨(dú)立調(diào)制的可能性，以及物體光束從物體反射之后光束的精確匹配。
一個(gè)偏轉(zhuǎn)光學(xué)元件系統(tǒng)包括六個(gè)平面鏡16、17、18、19、20、21及一個(gè)能制成透明的平面鏡22元件。平面鏡22放置在相位調(diào)制器13與偏振調(diào)制器14之間，并且與可調(diào)節(jié)束分離器9光學(xué)耦合。
在使平面鏡22不透明的情況下，使相位調(diào)制器13的一個(gè)平面鏡23以一對(duì)相互正交平面鏡(圖3)或一個(gè)角反射鏡(未表示)的形式旋轉(zhuǎn)。
在使平面鏡22透明的情況下，使相位調(diào)制器13的平面鏡23處于一個(gè)平面鏡的形式(圖2)。
相位調(diào)制器13能布置成對(duì)于光軸成一個(gè)與右邊一個(gè)不同的角度。在這種情況下，調(diào)制干涉儀另外裝有放置在是偏轉(zhuǎn)光學(xué)元件系統(tǒng)的元件之一的平面鏡22元件與相位調(diào)制器13之間的至少一個(gè)旋轉(zhuǎn)平面鏡24(圖4和圖5)。
在使相位調(diào)制器的平面鏡23處于一對(duì)相互正交平面鏡或一個(gè)角反射鏡(圖5)的形式的情況下，裝有兩個(gè)旋轉(zhuǎn)平面鏡是必要的。
彼此以直角傾斜并且沿所述直角的角平分線裝有一個(gè)線性運(yùn)動(dòng)驅(qū)動(dòng)器25的平面鏡16和17構(gòu)成相位補(bǔ)償器。
在這種構(gòu)造中，相位補(bǔ)償器允許精確均衡模塊干涉儀光束的光程長(zhǎng)度以及補(bǔ)償在形成與線性的不同的偏振條件時(shí)出現(xiàn)的Pancharantnam相位。
束分離器9通過(guò)其輸出之一經(jīng)相位補(bǔ)償器的平面鏡16和17與偏振調(diào)制器10、經(jīng)平面鏡18與準(zhǔn)直儀11、及經(jīng)平面鏡19與元件12的下側(cè)串聯(lián)耦合。上述元件集體形成干涉儀的一個(gè)物體臺(tái)肩。
束分離器9的其它輸出在透明平面鏡22的情況下經(jīng)這個(gè)平面鏡與相位調(diào)制器13和第二偏振調(diào)制器14、經(jīng)平面鏡20與第二準(zhǔn)直儀15、及經(jīng)平面鏡21與元件12的上側(cè)耦合。
在使平面鏡22不透明的情況下，在這個(gè)平面鏡與相位調(diào)制器13之間另外布置至少一個(gè)反射平面鏡24。
上述元件形成干涉儀的一個(gè)基準(zhǔn)臺(tái)肩。
平面鏡18和19與平面鏡20和21一起成對(duì)布置，從而基準(zhǔn)和物體臺(tái)肩的光軸從平面鏡19到元件12的下表面和從平面鏡21到元件12的上表面的部分是共線的。
制造和布置設(shè)計(jì)成用來(lái)偏轉(zhuǎn)和混合光束的元件12依據(jù)研究的物體的類型，例如依據(jù)材料的結(jié)構(gòu)和特征等，而不同。
在與束分離器分離布置的用來(lái)相干混合光束的元件12的結(jié)構(gòu)中的基準(zhǔn)和物體束的存在，允許獨(dú)立進(jìn)行與基準(zhǔn)和物體束分離的偏振調(diào)制，由此擴(kuò)展偏振調(diào)制的可能性。
設(shè)計(jì)成用來(lái)偏轉(zhuǎn)和混合光束的元件12布置在顯微透鏡3內(nèi)，例如在前透鏡26內(nèi)，并且形成一個(gè)平面鏡的形式，和以對(duì)于光軸成一個(gè)角度，例如45°，放置。
顯微透鏡3的前透鏡26包括形成一種平面與元件12的平面匹配的不可拆接合的幾個(gè)部分，至少兩個(gè)部分。
偏振調(diào)制器10和14具有類似結(jié)構(gòu)，并且以光學(xué)連接和串聯(lián)布置的一個(gè)線性偏振濾波器27、一個(gè)受控偏振補(bǔ)償器28及一個(gè)偏振平面轉(zhuǎn)動(dòng)單元29的形式制成。
在先有技術(shù)中已知的帶有線性機(jī)電伺服機(jī)構(gòu)的Babine-Soleil補(bǔ)償器能用作受控偏振補(bǔ)償器28。
在先有技術(shù)中已知的帶有機(jī)電轉(zhuǎn)動(dòng)伺服機(jī)構(gòu)的半波板能用作偏振平面轉(zhuǎn)動(dòng)單元29。
使束分離器9是可調(diào)節(jié)的，并且由一個(gè)偏振束分離器30和一個(gè)例如以具有一個(gè)機(jī)電轉(zhuǎn)動(dòng)伺服機(jī)構(gòu)32的半波板31的形式制成的偏振平面轉(zhuǎn)動(dòng)器組成。
這借助于均衡來(lái)自物體和基準(zhǔn)臺(tái)肩的每個(gè)象素的照亮，允許保證一個(gè)最大調(diào)制因數(shù)，并因此保證獨(dú)立于物體局部亮度的最佳信/噪比，由此提高對(duì)于不良反射物體的精度和分辨率參數(shù)。
準(zhǔn)直儀11和15是相同的并且這樣布置，從而從準(zhǔn)直儀11到元件12的下表面的光程和從元件12的下表面到物體平面的兩倍光程之和等于從準(zhǔn)直儀15到元件12的上表面的光程。
可調(diào)節(jié)束分離器9、偏振調(diào)制器10、相位調(diào)制器13、第二偏振調(diào)制器14、相位補(bǔ)償器、偏振分析儀單元5及一個(gè)光電探測(cè)器6與控制和信號(hào)處理單元7連接。
這樣，控制和信號(hào)處理單元7能包括可變分量的一個(gè)振幅測(cè)量?jī)x與相位測(cè)量?jī)x和恒定分量的一個(gè)振幅測(cè)量?jī)x、及一個(gè)控制器(未表示)。
調(diào)制干涉儀能在各種光學(xué)-機(jī)電基礎(chǔ)上制造。
如果它在顯微元件的基礎(chǔ)上制造，那么調(diào)制干涉儀的元件全部或部分放置在顯微透鏡3外面(圖2至圖5)。
在這種情況下，制造反射元件系統(tǒng)，從而在通過(guò)束分離器9之后的各束之一的光部分能橫向經(jīng)顯微透鏡3在其透鏡之間的空間中或經(jīng)它們之一穿過(guò)。
如果它在顯微機(jī)電系統(tǒng)元件的基礎(chǔ)上制造，那么它完全布置在靠近其前透鏡26的顯微透鏡3內(nèi)，如圖6和7中所示，其中激光器1和微孔徑濾波器2及其與干涉儀元件的相互位置沒(méi)有按比例表示。
以這種方式，制造反射元件系統(tǒng)，從而在通過(guò)束分離器的各束之一的光部分能橫向穿過(guò)前透鏡。
提出的干涉顯微鏡如下操作把由激光器1發(fā)射的和穿過(guò)空間微孔徑濾波器2的相干單色線性偏振光束供給到可調(diào)節(jié)束分離器9，其中把光束相干分離成兩個(gè)束-物體和基準(zhǔn)束。每個(gè)束對(duì)應(yīng)地沿調(diào)制干涉儀的物體和基準(zhǔn)臺(tái)肩傳播。
按照來(lái)自在輸入束的偏振向量與偏振束分離器的軸之間設(shè)置的角度的已知關(guān)系，重新分布光束功率。
首先，根據(jù)研究的物體的中等亮度由操作者選擇臺(tái)肩的強(qiáng)度比，以后把它設(shè)置為缺省值，或者對(duì)于每個(gè)象素自動(dòng)選擇。
在后一種情況下，考慮由顯微透鏡的給定部分反射的測(cè)量光強(qiáng)度，并且重新分布臺(tái)肩的光強(qiáng)度，創(chuàng)建從基準(zhǔn)束和從對(duì)應(yīng)物體部分供給到象素的光的強(qiáng)度的等同性。
然后對(duì)于物體束和基準(zhǔn)束分別進(jìn)行偏振調(diào)制。
物體束的偏振調(diào)制按如下進(jìn)行光的物體束順序穿過(guò)相位補(bǔ)償器的平面鏡16和17、偏振調(diào)制器10、平面鏡18和準(zhǔn)直儀11、及平面鏡19到元件12的下側(cè)。
物體和基準(zhǔn)束的光程光學(xué)長(zhǎng)度借助于平面鏡16和17的同時(shí)運(yùn)動(dòng)由相位補(bǔ)償器均衡。
在偏振模塊10中，物體束在穿過(guò)線性偏振濾波器27時(shí)，獲得高度吸光的線性偏振狀態(tài)。
在受控補(bǔ)償器28中，物體束偏振的狀態(tài)在普通情況下轉(zhuǎn)換成具有橢圓半軸的一定確定定向的橢圓狀態(tài)。通過(guò)Pancharantnam相位出現(xiàn)的另外相位移動(dòng)借助于相位補(bǔ)償器補(bǔ)償，或者在進(jìn)一步的計(jì)算機(jī)計(jì)算中考慮。
其次，借助于偏振平面轉(zhuǎn)動(dòng)單元29的幫助，把橢圓半軸設(shè)置到預(yù)定位置或者轉(zhuǎn)動(dòng)到任一側(cè)。
因而，在通過(guò)偏振調(diào)制器之后，在物體束中形成任何確定的偏振狀態(tài)。這種狀態(tài)的參數(shù)由任意規(guī)則可控制地及時(shí)改變。
把在準(zhǔn)直儀11中的光的偏振物體束形成由元件12反射到物體平面上的會(huì)聚束。因而進(jìn)行物體場(chǎng)的曝光。
在物體上散射之后已經(jīng)落在顯微透鏡3內(nèi)的物體束的光的一部分，經(jīng)望遠(yuǎn)鏡4和偏振分析儀單元5供給到光電探測(cè)器6。
基準(zhǔn)束的偏振調(diào)制按如下進(jìn)行基準(zhǔn)束經(jīng)平面鏡元件22供給到相位調(diào)制器13、第二偏振調(diào)制器14，經(jīng)平面鏡20供給到第二準(zhǔn)直儀15，及經(jīng)平面鏡21供給到元件12的上側(cè)。
相位調(diào)制器13借助于調(diào)制器的平面鏡23的受控制運(yùn)動(dòng)改變基準(zhǔn)束的光學(xué)長(zhǎng)度，并且通過(guò)已知時(shí)間規(guī)則進(jìn)行基準(zhǔn)束相位的改變。
設(shè)計(jì)基準(zhǔn)臺(tái)肩的第二偏振調(diào)制器14并且類似于物體臺(tái)肩的偏振調(diào)制器10操作，及通過(guò)任意規(guī)則提供基準(zhǔn)束偏振狀態(tài)的受控改變。Pancharantnam相位補(bǔ)償由相位調(diào)制器13進(jìn)行。
在其光學(xué)參數(shù)方面與物體臺(tái)肩的準(zhǔn)直低儀11相同的第二準(zhǔn)直儀15形成一個(gè)會(huì)聚束，這個(gè)會(huì)聚束供給到元件12的面向上傾斜側(cè)，向上反射并且經(jīng)顯微透鏡3、望遠(yuǎn)鏡4和偏振分析儀單元5供給到光電探測(cè)器6。
從每個(gè)束的線性分量的抽取出現(xiàn)在偏振分析儀單元5中。
然后這些分量在光電探測(cè)器6上彼此相干混合，并且在這個(gè)光電探測(cè)器上形成代表兩維亮度分布及時(shí)變化的干涉圖案。
而且，把干涉圖案劃分成分離的空間最小碎塊(象素)，并且對(duì)于它們的每一個(gè)，借助于確定的、單調(diào)函數(shù)關(guān)系進(jìn)行象素當(dāng)前中等照亮至交變電信號(hào)(調(diào)制信號(hào))的轉(zhuǎn)換。
把調(diào)制信號(hào)供給到控制和信號(hào)處理單元7，其中發(fā)生調(diào)制信號(hào)本身、或其諧波分量的相位和振幅、以及信號(hào)恒定分量的值的測(cè)量。所述測(cè)量結(jié)果經(jīng)交換總線8傳輸?shù)接?jì)算機(jī)(未表示)以便以后分析。
為了實(shí)現(xiàn)用來(lái)確定物體顯微起伏和表層光學(xué)性質(zhì)的方法，進(jìn)行如下操作操作者把物體和基準(zhǔn)束的光強(qiáng)度比設(shè)置為1/R0，其中R0是研究的物體部分的平均反射系數(shù)。
當(dāng)工作在白光中時(shí)進(jìn)行R0的第一近似估計(jì)。在研究的物體部分的表面上展現(xiàn)特征外貌。
然后在物體束中創(chuàng)建線性偏振圓形偏振的狀態(tài)。為此，借助于受控補(bǔ)償器28，對(duì)于線性偏振把延遲設(shè)置到零，而對(duì)于圓形偏振設(shè)置到一個(gè)波長(zhǎng)的四分之一。
考慮到展現(xiàn)的外貌由操作者借助于偏振平面轉(zhuǎn)動(dòng)單元29的幫助選擇線性偏振向量的方向。
在初始位置中，象素定位在選擇部分的圖案中。
然后，依據(jù)在物體束中設(shè)置的偏振狀態(tài)(線性或圓形的)的特性，進(jìn)行四次測(cè)量序列。所有四次測(cè)量包括相位調(diào)制和調(diào)制信號(hào)參數(shù)的測(cè)量，并且僅在偏振調(diào)制器的狀態(tài)方面彼此不同。
在線性偏振的情況下1.在基準(zhǔn)束中形成一種與在物體束中的相同的偏振狀態(tài)。與在基準(zhǔn)束中的偏振向量平行地設(shè)置分析儀單元。
2.把基準(zhǔn)束偏振向量的方向變到垂直于初始的，把偏振分析儀單元的位置變到垂直于初始的。
3.在與初始的正交的位置中設(shè)置物體束偏振向量。
4.把基準(zhǔn)束偏振向量和偏振分析儀單元設(shè)置到初始位置。
在圓形偏振的情況下1.在基準(zhǔn)束中形成一種與在物體束中的相同(相反)的偏振狀態(tài)。操作者考慮到展現(xiàn)的外貌或任意地設(shè)置分析儀單元。
2.把偏振分析儀單元的位置變到垂直于初始的。
3.把物體和基準(zhǔn)束的偏振狀態(tài)變到相反的。
4.把偏振分析儀單元的位置變到垂直于初始的。
根據(jù)與上述的類似的四次測(cè)量序列也進(jìn)行不包括具有連續(xù)偏振調(diào)制的測(cè)量的相位和振幅的所有進(jìn)一步測(cè)量。
使用控制和信號(hào)處理單元7，進(jìn)行調(diào)制信號(hào)的相位、振幅和恒定分量的計(jì)算。按照所述測(cè)量的結(jié)果測(cè)量從物體束落到每個(gè)給定象素上的光的相位和振幅。對(duì)于象素的每個(gè)新位置重復(fù)上述操作。
順序定位象素以便重疊研究的物體部分的整個(gè)表面。在這種情況下，能依次以任意間隙而也以任意重疊定位象素。
然后，使用束分離器9，重新分布在物體和基準(zhǔn)束中的強(qiáng)度，從而來(lái)自基準(zhǔn)束的象素的指定照亮等于其來(lái)自早先確定的物體的照亮。
然后對(duì)于每個(gè)象素再次進(jìn)行相位調(diào)制。使用控制和信號(hào)處理單元7，進(jìn)行調(diào)制信號(hào)的可變分量的相位、振幅和恒定分量的值的計(jì)算。根據(jù)所述測(cè)量的結(jié)果，計(jì)算從物體臺(tái)肩落到每個(gè)給定象素上的光的相位和振幅的初始細(xì)化值。
此后，使用相位調(diào)制器13，把基準(zhǔn)束的相位設(shè)置成與從物體束落到給定象素上的光的相位反相，后一相位在以前操作中測(cè)量。使用可調(diào)節(jié)束分離器9設(shè)置在束中的光強(qiáng)度的比，從而從物體臺(tái)肩落到象素上的光的指定強(qiáng)度達(dá)到比來(lái)自基準(zhǔn)臺(tái)肩的強(qiáng)度值高或低的值。
然后重新分布強(qiáng)度，從而象素照亮的強(qiáng)度再達(dá)到初始值。
借助于象素照亮的不同初始值重復(fù)所述操作幾次。
根據(jù)得到的各束的強(qiáng)度比值對(duì)，對(duì)應(yīng)于象素的類似求和照亮，計(jì)算所述比的值，對(duì)應(yīng)于來(lái)自物體和基準(zhǔn)束的象素照亮的等同，由該值計(jì)算從物體束落到給定象素上的光的振幅的二次細(xì)化值。
當(dāng)考慮到來(lái)自物體臺(tái)肩的二次細(xì)化照亮值時(shí)均衡來(lái)自臺(tái)肩的每個(gè)象素的照亮，并且再次進(jìn)行相位調(diào)制，和計(jì)算從物體束落到象素上的光的相位的二次細(xì)化值。
根據(jù)從物體束落到象素上的光的順序細(xì)化相位和振幅集，所述集是來(lái)自與偏振調(diào)制器和分析儀的四次各種狀態(tài)相對(duì)應(yīng)的順序四次測(cè)量序列的每一個(gè)的結(jié)果，計(jì)算顯微物體的如下參數(shù)-局部法線的真實(shí)高度和向量的分布；-對(duì)于各向同性物體的顯微物體材料的表層的復(fù)數(shù)折射率的分布；-對(duì)于一軸兩束折射材料的兩個(gè)折射率和光軸的定向(不包括該軸的垂直定向)；-法拉第轉(zhuǎn)動(dòng)能力。
為了實(shí)現(xiàn)該方法，物體束基準(zhǔn)束的偏振調(diào)制與其相位調(diào)制同時(shí)進(jìn)行，基準(zhǔn)束相位調(diào)制頻率高于或低于束偏振調(diào)制頻率，并且測(cè)量信號(hào)包絡(luò)的可變分量的諧波分量的相位和振幅。除上述之外，計(jì)算各材料的光學(xué)各向異性的所有參數(shù)，包括兩軸晶體的折射率和軸的定向。
在有調(diào)制干涉儀完全或部分布置在顯微透鏡內(nèi)的裝置的實(shí)施例中，干涉儀是帶有改進(jìn)可變顯微透鏡的單個(gè)單元。
在從物體反射的射線的路上的前面透鏡內(nèi)在定位具有小于孔徑面積百分之1面積的平面鏡元件12時(shí)包括的一種標(biāo)準(zhǔn)顯微透鏡修改，不會(huì)妨礙借助于其幫助同時(shí)實(shí)現(xiàn)對(duì)于標(biāo)準(zhǔn)、未修改顯微透鏡適用的任何顯微測(cè)量。
這樣的實(shí)施例允許把裝置用作現(xiàn)代通用顯微鏡平臺(tái)的模塊之一和用在特殊裝置的構(gòu)成中，例如在電子工業(yè)中用于技術(shù)監(jiān)視的設(shè)備。這個(gè)模塊在結(jié)構(gòu)上包括用放置到顯微鏡轉(zhuǎn)盤組件的標(biāo)準(zhǔn)升降筒中的修改顯微透鏡阻塞的調(diào)制干涉儀。取決于其類型的激光源能直接放置在所述模塊上或者附加在顯微鏡外。使用為電視攝像機(jī)和其它光電探測(cè)器設(shè)計(jì)的標(biāo)準(zhǔn)顯微鏡升降筒，放置模塊光電探測(cè)器。在白光中或通過(guò)使用適用于給定顯微鏡平臺(tái)的其它顯微鏡設(shè)備能研究物體，此后根據(jù)提出的方法進(jìn)行物體研究，而不用重新布置透鏡、不用借助于把顯微鏡的光路切換到其上布置接收器模塊的接收升降筒上重新聚焦和重新瞄準(zhǔn)。
圖2中表示的方案能用作設(shè)備實(shí)施的一個(gè)例子。在這種情況下，把有頻率加倍的單模式半導(dǎo)體激光器用作一個(gè)激光輻射源，激光器在532nm的波長(zhǎng)下工作，并且具有2MW的功率和線性偏振。偏振束分離器和帶有機(jī)電伺服機(jī)構(gòu)的半波板的結(jié)合用作可調(diào)節(jié)束分離器。兩個(gè)偏振調(diào)制器的線性偏振濾波器以Glann-Thompson棱鏡的形式制造，授控延遲器以帶有線性機(jī)電驅(qū)動(dòng)器的Babine-Soleil補(bǔ)償器的形式制造，及偏振轉(zhuǎn)動(dòng)器以帶有機(jī)電伺服機(jī)構(gòu)的半波板的形式制造。設(shè)計(jì)成用來(lái)偏轉(zhuǎn)和混合基準(zhǔn)和物體束的元件12靠近顯微透鏡的前透鏡的軸傾斜放置在這個(gè)透鏡的兩個(gè)部分的分離平面中，并且是一個(gè)透明非偏振平面鏡膜。分析儀以膜偏振元件的形式制造。使用具有約0.6μm振蕩振幅和約5kHz頻率的壓電驅(qū)動(dòng)器進(jìn)行相位調(diào)制。一個(gè)帶有電磁鐵聚焦偏轉(zhuǎn)系統(tǒng)(FDS)的析像管用作光電探測(cè)器。使用FDS進(jìn)行在圖像平面中的標(biāo)準(zhǔn)碎塊(象素)的定位，象素能夠定位在整個(gè)屏幕內(nèi)和在其任意選擇的碎塊內(nèi)。借助于任意空間分離和任意彼此重疊(包括在不同坐標(biāo)中的不同重疊)能進(jìn)行象素的定位。
在平行束中進(jìn)行所有類型的調(diào)制，由此允許根本上減小由調(diào)制器引入到束的相位偏振結(jié)構(gòu)中的失真。把物體束從偏振調(diào)制器供給到物體平面以最小數(shù)量的反射避免顯微透鏡通過(guò)單個(gè)長(zhǎng)焦透鏡(準(zhǔn)直儀)，允許保持其對(duì)于已知偏振顯微鏡裝置不適用的極高吸光。一種等同的高度吸光也保持在基準(zhǔn)束中，由此集體保證在確定材料光學(xué)常數(shù)時(shí)的空前高精度級(jí)。
確認(rèn)提出方法有效性的提出顯微鏡的一種簡(jiǎn)化樣式在公司Leitz的顯微鏡DMR的基礎(chǔ)上實(shí)現(xiàn)。具有10MW功率和632.8nm波長(zhǎng)的氦氖激光器用作激光照明源。一個(gè)壓電元件用作相位調(diào)制器驅(qū)動(dòng)器，借助于用手重新布置半波和四分之一波板進(jìn)行偏振調(diào)制。借助于把一個(gè)中性濾波器引入到干涉儀的基準(zhǔn)臺(tái)肩中進(jìn)行照亮強(qiáng)度的重新分布。不利用微孔徑濾波器和受控延遲器。以不同本性的顯微物體進(jìn)行的測(cè)量結(jié)果表明，橫向分辨率的最高極限是約25nm，高度的分辨率是約0.5nm。在具有不同折射率的材料之間的邊界處的橫向分辨率也具有約25nm的值，以相同分辨率近似確定在光軸的方向上在具有巨大區(qū)別的兩束折射材料的晶粒之間的分離邊界處的位置。橫向分辨率由析像管切開孔徑的尺寸和光學(xué)系統(tǒng)的引起增大限制，這確定實(shí)際象素的一個(gè)值。垂直分辨率一方面由在高度(0.3nm)中的選擇組合元件的值而另一方面由顫噪聲級(jí)限制。因而，不僅通過(guò)改進(jìn)干涉儀光學(xué)系統(tǒng)本身-這在技術(shù)方面相當(dāng)困難，而且通過(guò)優(yōu)化圖像投影系統(tǒng)、信號(hào)處理系統(tǒng)參數(shù)、和環(huán)境監(jiān)視-這不是嚴(yán)重問(wèn)題，能明顯改進(jìn)裝置分辨率參數(shù)。
權(quán)利要求
1.一種用來(lái)確定物體微起伏和表層光學(xué)性質(zhì)的方法，該方法包括步驟進(jìn)行一種偏振調(diào)制把一個(gè)輸入相干、單色偏振光通量分離成一個(gè)經(jīng)顯微透鏡曝光物體場(chǎng)的物體光束、和一個(gè)基準(zhǔn)光束；進(jìn)行基準(zhǔn)光束的相位調(diào)制；進(jìn)行光束的干涉混合；抽取兩個(gè)相互正交的偏振分量，并且得到一個(gè)干涉圖；定位所述干涉圖的最小碎塊(象素)；把所述碎塊的平均照亮度轉(zhuǎn)換成相應(yīng)電信號(hào)(調(diào)制信號(hào))；測(cè)量調(diào)制信號(hào)的可變分量的相位和振幅及恒定分量的一個(gè)值；計(jì)算從物體束落到象素上的光的相位、振幅及偏振參數(shù)；及計(jì)算物體微起伏和物體表層的光學(xué)材料常數(shù)，其特征在于該方法包括步驟與把光通量分離成物體和基準(zhǔn)束的步驟的同時(shí)，進(jìn)行在這些束之間的光通量強(qiáng)度的受控制重新分布；分別對(duì)于物體束和基準(zhǔn)束進(jìn)行偏振調(diào)制；通過(guò)使物體束從內(nèi)部通過(guò)顯微透鏡的前透鏡的前表面進(jìn)行物體場(chǎng)曝光；并且進(jìn)行光束的干涉混合；在測(cè)量之前，建立在基準(zhǔn)與物體束之間的初步照亮度比，并且計(jì)算從物體束落到象素上的光的初級(jí)相位和振幅值；在對(duì)于全部象素集重復(fù)該運(yùn)算之后，通過(guò)重新分布這些束的強(qiáng)度，進(jìn)行使分別來(lái)自物體和基準(zhǔn)束的一個(gè)象素的照亮相等的步驟；然后測(cè)量調(diào)制信號(hào)的可變分量的相位和振幅及恒定分量的一個(gè)值；及計(jì)算從物體束落到象素上的光的一個(gè)精細(xì)相位和振幅值。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用來(lái)確定物體微起伏和表層光學(xué)性質(zhì)的方法，其特征在于，在兩個(gè)線性獨(dú)立偏振條件下順序進(jìn)行物體場(chǎng)曝光。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用來(lái)確定物體微起伏和表層光學(xué)性質(zhì)的方法，其特征在于另外的步驟通過(guò)把基準(zhǔn)束光的相位設(shè)置成與從物體束落到象素上的光反相，進(jìn)行從物體束落到象素上的光的振幅值的另外細(xì)化；通過(guò)改變物體與基準(zhǔn)光束的強(qiáng)度比，進(jìn)行振幅調(diào)制，并且確定與象素的相同照亮相對(duì)應(yīng)的兩個(gè)不同強(qiáng)度比；及計(jì)算從物體束落到象素上的光的一個(gè)分?jǐn)?shù)。
4.根據(jù)權(quán)利要求1、2所述的用來(lái)確定物體微起伏和表層光學(xué)性質(zhì)的方法，其特征在于另外的步驟另外把物體束相位設(shè)置成與從物體束落到象素上的光同相；連續(xù)進(jìn)行物體束的偏振調(diào)制；測(cè)量偏振調(diào)制信號(hào)；及計(jì)算所述偏振調(diào)制信號(hào)的諧波分量的相位和振幅，由這些相位和振幅計(jì)算物體表層的光學(xué)各向異性的參數(shù)。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用來(lái)確定物體微起伏和表層光學(xué)性質(zhì)的方法，其特征在于另外的步驟與所述基準(zhǔn)束的相位調(diào)制同時(shí)進(jìn)行物體束和基準(zhǔn)束的偏振調(diào)制，物體束相位調(diào)制的頻率高于或低于光束偏振調(diào)制的頻率；測(cè)量信號(hào)包絡(luò)的諧波分量的相位和振幅；及計(jì)算起伏參數(shù)和光學(xué)材料常數(shù)，包括物體表層的光學(xué)各向異性的所有參數(shù)。
6.一種調(diào)制干涉顯微鏡，包括一個(gè)激光器；一個(gè)調(diào)制干涉儀，帶有一個(gè)相位調(diào)制器、與一個(gè)偏振調(diào)制器光學(xué)連接的準(zhǔn)直儀、和一個(gè)束分離器；沿一個(gè)單光學(xué)軸安裝的一個(gè)顯微透鏡、望遠(yuǎn)鏡、偏振分析儀單元和光電探測(cè)器；一個(gè)控制和信號(hào)處理單元，設(shè)計(jì)成經(jīng)一根交換總線連接到一個(gè)計(jì)算機(jī)上，其特征在于所述顯微鏡進(jìn)一步包括一個(gè)空間微孔徑濾波器；一個(gè)設(shè)計(jì)成用來(lái)偏轉(zhuǎn)和混合光束并且布置在相同光軸上的元件；調(diào)制干涉儀，添加有借助于一個(gè)偏轉(zhuǎn)光學(xué)元件系統(tǒng)與一個(gè)第二偏振調(diào)制器光學(xué)連接的一個(gè)第二準(zhǔn)直儀、和一個(gè)相位補(bǔ)償器；使束分離器是可調(diào)節(jié)的，并且經(jīng)系統(tǒng)的偏轉(zhuǎn)光學(xué)元件通過(guò)一個(gè)輸出與相位調(diào)制器、偏振調(diào)制器、準(zhǔn)直儀及設(shè)計(jì)成用來(lái)偏轉(zhuǎn)和混合光束的元件的一側(cè)串聯(lián)耦合，和通過(guò)其它輸出與相位補(bǔ)償器、第二偏振調(diào)制器、第二準(zhǔn)直儀及所述元件的一個(gè)相對(duì)側(cè)串聯(lián)耦合。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的調(diào)制干涉顯微鏡，其特征在于，使設(shè)計(jì)成用來(lái)偏轉(zhuǎn)和混合光束的元件以兩側(cè)平面鏡的形式放置成與光軸成一個(gè)角。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的調(diào)制干涉顯微鏡，其特征在于，使平面鏡是透明的。
9.根據(jù)權(quán)利要求7所述的調(diào)制干涉顯微鏡，其特征在于，使平面鏡是不透明的。
10.根據(jù)權(quán)利要求6所述的調(diào)制干涉顯微鏡，其特征在于，設(shè)計(jì)成用來(lái)偏轉(zhuǎn)和混合光束的元件布置在顯微透鏡的前透鏡的內(nèi)側(cè)。
11.根據(jù)權(quán)利要求6所述的調(diào)制干涉顯微鏡，其特征在于，使偏振調(diào)制器處于光學(xué)連接和串聯(lián)布置的線性偏振濾波器、受控制補(bǔ)償器和偏振平面轉(zhuǎn)動(dòng)單元的形式。
12.根據(jù)權(quán)利要求6所述的調(diào)制干涉顯微鏡，其特征在于，把相位調(diào)制器對(duì)于光軸以與右邊一個(gè)不同的角度布置，并且干涉儀另外供給有放置在相位調(diào)制器與偏轉(zhuǎn)光學(xué)元件系統(tǒng)的元件之一之間的至少一個(gè)旋轉(zhuǎn)平面鏡。
全文摘要
本發(fā)明涉及光學(xué)工程，特別涉及測(cè)量近表面層的光學(xué)材料常數(shù)微起伏和分布的方法，并且能夠用于微電子工程、納米技術(shù)、材料科學(xué)、醫(yī)學(xué)、和生物學(xué)。本發(fā)明的目標(biāo)是提高測(cè)量光學(xué)材料的起伏和分布的幾何參數(shù)的空間分辨率、擴(kuò)展包括光學(xué)各向異性常數(shù)的確定常數(shù)的范圍、顯著提高材料常數(shù)確定的精度、以及擴(kuò)展研究的物體的數(shù)量。本發(fā)明公開了用于測(cè)量近表面層的微起伏以及光學(xué)特性的方法，以及用于實(shí)行所述方法的調(diào)制干涉顯微鏡。
文檔編號(hào)G01B11/30GK1486444SQ01822011
公開日2004年3月31日 申請(qǐng)日期2001年1月23日 優(yōu)先權(quán)日2001年1月15日
發(fā)明者弗拉基米爾·安德列維奇·安德列夫, 康斯坦丁·瓦西里耶維奇·英杜卡耶夫, 巴維爾·亞里別爾托維奇·奧西波夫, 亞里別爾托維奇 奧西波夫, 丁 瓦西里耶維奇 英杜卡耶夫, 弗拉基米爾 安德列維奇 安德列夫 申請(qǐng)人:阿姆弗拉實(shí)驗(yàn)室有限責(zé)任公司