電磁閥的制作方法
【專利摘要】電磁閥(100)包括：主提升閥部(50)，其用于與先導壓力相對應地控制在閥通路(2)中流動的工作流體的流量；副提升閥部(10)，其與電磁力相對應地調(diào)節(jié)先導壓力；以及第1座部(11)和第2座部(12)，該第1座部(11)和第2座部(12)設于閥通路(2)。主提升閥部(50)具有：提升閥(51)，其落位于第1座部(11)；以及滑閥(61)，其相對于第2座部(12)滑動自由?；y(61)具有：外周面(63)，其相對于第2座部(12)滑動自由；以及通孔(62)，其在外周面(63)開口，且自第2座部(12)露出的面積隨著滑閥(61)的移動而變化。
【專利說明】
電磁閥
技術(shù)領域
[0001 ]本發(fā)明涉及一種用于與電磁力相對應地控制工作流體的流量的電磁閥。
【背景技術(shù)】
[0002]通常，在利用液壓進行工作的建筑機械、產(chǎn)業(yè)機械中，使用與電磁力相對應地控制工作油的流量的閥。
[0003]在日本JP2002-39429A中記載了一種二級先導式電磁閥，該二級先導式電磁閥包括:主閥座，其能夠連通入口孔和出口孔;主閥體，其用于開閉主閥座;第I先導閥座，其能夠連通主閥體的背壓室和出口孔;第I先導閥體，其用于開閉第I先導閥座;第2先導閥座，其能夠連通第I先導閥體的背壓室和出口孔；以及第2先導閥體，其利用電磁力來開閉第2先導閥座。
[0004]在該二級先導式電磁閥中，利用被調(diào)節(jié)為兩階段的先導壓力來開閉驅(qū)動大型的主閥體，進行流量控制。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0005]發(fā)明要解決的問題
[0006]然而，在日本JP2002-39429A所記載的二級先導式電磁閥中，由于在提升閥狀的主閥體與主閥座之間劃成的開口面積相對于主閥體的行程變化的程度較大，因此，難以提高流量控制的精度。
[0007]本發(fā)明的目的在于提高電磁閥的流量控制的精度。
[0008]用于解決問題的方案
[0009]根據(jù)本發(fā)明的一方式，提供一種電磁閥，其用于與電磁力相對應地控制在閥通路中流動的工作流體的流量，其中，該電磁閥包括:主提升閥部，其與先導壓力相對應地移動而控制在上述閥通路中流動的工作流體的流量;副提升閥部，其與上述電磁力相對應地移動而調(diào)節(jié)上述先導壓力；以及第I座部和第2座部，該第I座部和第2座部呈環(huán)狀且設于上述閥通路，上述主提升閥部具有:提升閥，其落位于上述第I座部而封閉上述第I座部；以及滑閥，其以滑動自由的方式設于上述第2座部的內(nèi)周，上述滑閥具有:外周面，其相對于上述第2座部的內(nèi)周面滑動自由；以及節(jié)流部，其在上述外周面開口，且自上述第2座部露出的面積隨著上述滑閥的移動而變化。
【附圖說明】
[0010]圖1是本發(fā)明的第I實施方式的電磁閥的剖視圖。
[0011 ]圖2是電磁閥的將圖1中的一部分放大了的剖視圖。
[0012]圖3是表示在線圈中流動的電流值與電磁閥的開口面積之間的關系的特性圖。
[0013]圖4是將本發(fā)明的第2實施方式的電磁閥的一部分放大了的剖視圖。
【具體實施方式】
[0014]以下，參照附圖來說明本發(fā)明的實施方式。
[0015]第I實施方式
[0016]參照圖1說明本發(fā)明的第I實施方式的電磁閥100。
[0017]電磁閥100設于建筑機械、產(chǎn)業(yè)機械等，用于調(diào)節(jié)自未圖示的流體壓力源供排到致動器(負荷)的工作流體的流量。
[0018]電磁閥100具有:入口15，其通過未圖示的配管等與流體壓力源相連通；出口 16，其通過未圖示的配管等與致動器相連通；以及閥通路2，其連通入口 15和出口 16。
[0019]在電磁閥100中，使用工作油作為工作流體。另外，工作流體并不限定于工作油，也可以是其他的非壓縮性流體或壓縮性流體。如圖1和圖2中箭頭所示，工作油在閥通路2中自入口 15向出口 16流動。
[0020]電磁閥100的閥通路2包括利用主提升閥部50進行開閉的主通路3和利用副提升閥部10進行開閉的副通路4。
[0021]電磁閥100包括:具有入口15和出口 16的外殼31、收納在外殼31內(nèi)的殼體32。
[0022]殼體32具有內(nèi)周面33，主提升閥部50以滑動自由的方式插入該內(nèi)周面33。主提升閥部50被殼體32的內(nèi)周面33支承為滑動自由，該主提升閥部50沿軸線方向滑動而開閉主通路3 0
[0023]在殼體32形成與內(nèi)周面33位于同一中心線上的環(huán)狀的第I座部11和第2座部12。第I座部11和第2座部12設于主通路3。如圖2所示，第I座部11的直徑與第2座部12的直徑設定為大致相同的直徑Dl。
[0024]主提升閥部50具有通過落位于第I座部11而封閉第I座部11的截頭圓錐狀的提升閥51、以滑動自由的方式設于第2座部12的內(nèi)周的圓柱狀的滑閥61。
[0025]提升閥51具有母線相對于主提升閥部50的中心線傾斜的錐形形狀的外周面53。通過外周面53與第I座部11相抵接，從而封閉主通路3。由此，主提升閥部50能夠無間隙地切斷主通路3。
[0026]滑閥61具有相對于主提升閥部50的中心線平行地延伸的圓筒狀的外周面63。外周面63相對于第2座部12的內(nèi)周面滑動自由。
[0027]在滑閥61的頂端形成環(huán)狀部65，該環(huán)狀部65以滑動自由的方式設于第2座部12的內(nèi)周。環(huán)狀部65形成為以主提升閥部50的中心線為中心的圓筒狀，并具有在該環(huán)狀部65的頂端面開口的凹部64。
[0028]在滑閥61沿周向排列形成多個通孔62。通孔62用于連通環(huán)狀部65的內(nèi)周和外周，該通孔62的一端在滑閥61的外周面63開口，另一端在凹部64的內(nèi)表面開口。各通孔62以主提升閥部50的中心線為中心沿徑向形成為放射狀。
[0029]通孔62的在滑閥61的外周面63開口的開口端的形狀能夠任意設定。根據(jù)通孔62的開口端的形狀來決定閥通路2相對于滑閥61的行程的開口面積。
[0030]各通孔62構(gòu)成自第2座部12露出的面積隨著滑閥61的移動而變化的節(jié)流部。具體而言，各通孔62隨著滑閥61的移動而在第2座部12的下游端側(cè)逐漸開口。另外，各通孔62配置為即使提升閥51與第I座部11相抵接時也不會被第2座部12完全封閉。也就是說，如圖1所示，各通孔62的開口面積在提升閥51與第I座部11相抵接的閉閥位置成為最小值，且隨著提升閥51向開閥方向位移而逐漸增大。另外，各通孔62也可以配置為自提升閥51與第I座部11相抵接的位置到位移一定程度為止被第2座部12封閉。該情況下，能夠?qū)⒃谥魍?中流動的工作油的流量設定為大致零直到主提升閥部50位移一定程度為止。
[0031 ] 在閥通路2中，第I座部11設于第2座部12的下游側(cè)。因此，在電磁閥100中流動的工作油在滑閥61的通孔62與第2座部12之間的間隙被節(jié)流之后，在主提升閥部50與第I座部11之間的間隙被節(jié)流。另外，在滑閥61的通孔62與第2座部12之間形成的開口面積相對于主提升閥部50的行程變化的程度設定為小于在提升閥51的外周面53與第I座部11之間形成的開口面積相對于主提升閥部50的行程變化的程度。因此，在主通路3中流動的工作油的流量被在滑閥61的通孔62與第2座部12之間形成的開口面積控制。另外，第I座部11設于第2座部12的下游側(cè)，但第I座部11也可以設于第2座部12的上游側(cè)。在該情況下，在主通路3中流動的工作油的流量也被在滑閥61的通孔62與第2座部12之間形成的開口面積控制。
[0032]另外，為了確保使通過了滑閥61的工作油向提升閥51流動的流路，在主提升閥部50的位于滑閥61與提升閥51之間的部分形成向徑向內(nèi)側(cè)凹陷的環(huán)狀凹部50a，另外，在殼體32的位于第I座部11與第2座部12之間的部分形成向徑向外側(cè)凹陷的環(huán)狀凹部32a。
[0033]在主提升閥部50的背后劃成先導壓室7。主提升閥部50在其背面所承受的先導壓室7的先導壓力和主復位彈簧8的彈簧力的作用下被向閉閥方向施力。在先導壓力與被導入到入口 15的供給壓力之間的壓力差的作用下，主提升閥部50克服主復位彈簧8的彈簧力在圖1、圖2中向左方滑動，于是，提升閥51離開第I座部11。
[0034]先導壓室7設于副通路4上。在副通路4的先導壓室7的上游端設有節(jié)流件5。在副通路4的先導壓室7的下游端設有副座部14。
[0035]在副通路4中，工作油依次流經(jīng)節(jié)流件5、先導壓室7、副座部14。通過以使落位于副座部14的副提升閥部10位移的方式使副座部14的開口面積變化來調(diào)節(jié)先導壓室7內(nèi)的先導壓力。
[0036]電磁閥100包括用于產(chǎn)生使副提升閥部10位移的推力的螺線管機構(gòu)20。
[0037]螺線管機構(gòu)20具有連結(jié)于外殼31的圓筒狀的螺線管箱21、以滑動自由的方式收納在螺線管箱21內(nèi)的柱塞22以及設于螺線管箱21的外側(cè)的線圈29。
[0038]螺線管箱21的頂端部嵌合于殼體32。另外，在螺線管箱21的外周卡合配置凸緣47。凸緣47借助未圖示的多根螺栓固定于外殼31。螺線管箱21和殼體32以互相抵接的狀態(tài)被固定在凸緣47與外殼31之間。
[0039]在凸緣47的靠外殼31側(cè)的側(cè)面形成用于收納殼體32的端部的凹部34。在凹部34的內(nèi)周面形成用于嵌入彈性卡環(huán)35的內(nèi)周槽34a。該彈性卡環(huán)35與形成于殼體32的端部的凸邊部36卡合，而將殼體32的端部保持在凸緣47的凹部34內(nèi)。這樣，殼體32保持于凸緣47，從而使螺線管機構(gòu)20和殼體32組件化。
[0040]副提升閥部10連結(jié)于柱塞22，柱塞22收納于在螺線管箱21的內(nèi)側(cè)被劃成的柱塞室23。柱塞室23與先導壓室7相連通，而被導入先導壓力。
[0041]在螺線管箱21的端部組裝調(diào)節(jié)螺桿24。在螺線管箱21內(nèi)以滑動自由的方式安裝與調(diào)節(jié)螺桿24相抵接的保持件25。在保持件25與副提升閥部10的端部之間夾設線圈狀的副復位彈簧26。通過改變調(diào)節(jié)螺桿24的螺合位置能夠調(diào)整副復位彈簧26的彈簧力。調(diào)節(jié)螺桿24的自螺線管箱21突出的端部利用安裝于螺線管箱21的罩19覆蓋。
[0042]在螺線管箱21的開口端部安裝圓筒狀的塊體28。塊體28具有保持副提升閥部10的中心并且將副提升閥部10向副座部14引導的功能，以使副提升閥部10可靠地落位于副座部
14。線圈狀的對向復位彈簧27夾設在柱塞22與塊體28之間。另外，線圈狀的主復位彈簧8夾設在塊體28與安裝于主提升閥部50內(nèi)的圓筒狀的引導件46之間。
[0043]副提升閥部10在其背面所承受的先導壓力和副復位彈簧26與對向復位彈簧27之間的彈簧力之差的作用下被向閉閥方向(圖1中右方向)施力。
[0044]勵磁電流經(jīng)由與連接器17相連接的未圖示的引線和端子18被導入線圈29。在由線圈29的磁場產(chǎn)生的推力大于由先導壓力產(chǎn)生的閉閥力和副復位彈簧26的彈簧力以及對向復位彈簧27的彈簧力的合力時，副提升閥部10在圖1中向左方向移動而離開副座部14。
[0045]電磁閥100包括用于調(diào)節(jié)副復位彈簧26的作用力的壓力補償機構(gòu)40，以便即使被導入到先導壓室7的先導壓力變化，用于使副提升閥部10移動的推力也能夠大致恒定。
[0046]壓力補償機構(gòu)40具有以滑動自由的方式夾設在引導件46內(nèi)的壓力補償套筒41和對壓力補償套筒41施力的壓力補償彈簧42。
[0047]在壓力補償套筒41的基端形成副座部14。如圖2所示，設于副提升閥部10的頂端的副提升閥部13落位于副座部14。
[0048]在壓力補償套筒41的頂端部連結(jié)圓盤狀的彈簧支座43。在彈簧支座43與主提升閥部50之間夾設碟形彈簧狀的壓力補償彈簧42。壓力補償套筒41在其基端面所承受的先導壓力的作用下隔著彈簧支座43對壓力補償彈簧42進行壓縮。
[0049]副復位彈簧26、副提升閥部10、對向復位彈簧27、壓力補償套筒41、彈簧支座43以及壓力補償彈簧42在同一中心線上排列配置。
[0050]如圖2所示，彈簧支座43具有自其頂端面突出的圓柱狀的凸部49。通過向由兩個碟形彈簧構(gòu)成的壓力補償彈簧42的內(nèi)周插入凸部49，從而使壓力補償彈簧42與壓力補償套筒41支承在同一中心上。另外，彈簧支座43還具有作為限制壓力補償套筒41在軸線方向上的位移的止擋件的功能。
[0051]當先導壓力上升時，壓力補償套筒41與副提升閥部10—起克服壓力補償彈簧42在圖1、圖2中向右方移動。此時，副復位彈簧26拉伸，副復位彈簧26產(chǎn)生的作用力減小。這樣，由于在先導壓力上升了的情況下，副復位彈簧26的作用力下降，因此，能夠抑制用于使副提升閥部10移動所需的推力的上升。
[0052]另外，如圖2所示，在壓力補償套筒41形成構(gòu)成副通路4的通孔44、通孔45。在通孔44的一端形成上述的副座部14。
[0053]在主提升閥部50的比提升閥51靠下游側(cè)的部分形成構(gòu)成副通路4的通孔54。當副提升閥部10離開副座部14時，先導壓室7內(nèi)的工作油經(jīng)由這些通孔44、45、54向出口 16流動。
[0054]在外殼31形成構(gòu)成副通路4的通孔37、通孔38、通孔39。通孔37與入口 15連通。在通孔38夾設單向閥6。單向閥6阻止工作油自副通路4的流出側(cè)向流入側(cè)的逆流。在通孔39夾設節(jié)流件5。通孔39經(jīng)由節(jié)流件5與先導壓室7連通。
[0055]接著，說明電磁閥100的動作。
[0056]在線圈29處于非通電狀態(tài)時，副提升閥部10落位于副座部14而切斷副通路4。此時，先導壓室7內(nèi)的壓力與供給到入口 15的工作油的壓力相同。也就是說，在主提升閥部50的背面作用與被供給到入口 15的工作油的壓力相同的壓力。因此，主提升閥部50在先導壓力與被導入到入口 15的供給壓力之間的壓力差和主復位彈簧8的彈簧力的作用下被向閉閥方向施力。而且，主提升閥部50的提升閥51落位于第I座部11，從而主通路3被切斷。這樣，在線圈29處于非通電狀態(tài)時，利用電磁閥100能夠切斷工作油的流動。
[0057]另一方面，在線圈29處于通電狀態(tài)時，在螺線管機構(gòu)20所產(chǎn)生的推力的作用下，副提升閥部10離開副座部14，副通路4開通。由此，自入口 15經(jīng)過節(jié)流件5被導入到先導壓室7內(nèi)的工作油經(jīng)過副座部14向出口 16流動。這樣，先導壓室7與出口 16連通，使得先導壓室7內(nèi)的先導壓力下降。而且，當先導壓力與被導入到入口 15的供給壓力之間的壓力差大于主復位彈簧8的彈簧力時，主提升閥部50的提升閥51離開第I座部11，主通路3開通。其結(jié)果，工作油自入口 15經(jīng)過通孔62與第2座部12之間、提升閥51與第I座部11之間，向出口 16流動。
[0058]當增加流入線圈29的電流而使副提升閥部10進一步離開副座部14時，在副通路4中流動的工作油的流量增加，先導壓室7的先導壓力進一步下降。而且，主提升閥部50與先導壓力的下降相對應地移動，滑閥61的通孔62自第2座部12露出的面積變大，因此，通過主通路3的工作油的流量增加。
[0059]如圖3所示，電磁閥100被設定為具有副提升閥部10中的閥通路2的開口面積與流入線圈29的電流值成比例地變大的特性。另外，圖3所示的特性只是示例，流入線圈29的電流值與副提升閥部10中的閥通路2的開口面積之間的關系能夠通過改變通孔62的配置、形狀、數(shù)量而任意設定。例如設定開口面積以二次曲線增加的區(qū)間、維持恒定值的區(qū)間等，能夠提高電磁閥100的流量特性的設定自由度。
[0060]根據(jù)以上的第I實施方式，起到以下所示的作用效果。
[0061]在上述的電磁閥100中，由于通過提升閥51落位于第I座部11而封閉閥通路2，因此，能夠利用主提升閥部50確保閥通路2的密閉性。另外，由于通過滑閥61在第2座部12滑動而使通孔62自第2座部12露出的開口面積變化，因此，能夠提高在閥通路2中流動的工作油的流量控制的精度。另外，與以往的二級先導式電磁閥相比，電磁閥100的彈簧的數(shù)量較少且滑動部較少，因此，能夠降低制造成本，并且能夠使性能穩(wěn)定。
[0062]另外，通過第I座部11之前的工作油被導入到第2座部12，利用滑閥61控制工作油的流量。因此，通過改變形成于以滑動自由的方式設于第2座部12的內(nèi)周的環(huán)狀部65的通孔62的數(shù)量、形狀，能夠充分地確保閥通路2的開口面積，并且，能夠任意設定閥通路2的開口面積相對于滑閥61的行程變化的程度。
[0063]另外，由于第2座部12設于第I座部11的上游側(cè)，因此，貫穿第2座部12的環(huán)狀部65設于主提升閥部50的頂端側(cè)。因此，能夠容易地形成被設于環(huán)狀部65的通孔62。
[0064]另外，先導壓室7內(nèi)的先導壓力與副提升閥部10相對于副座部14的位移量相對應地變化。因此，通過控制副提升閥部10的位移量，能夠使主提升閥部50的開度變化。另外，由于在副通路4中利用副提升閥部10進行了流量控制的工作油和在主通路3中利用主提升閥部50進行了流量控制的工作油在閥通路2中合流，因此，能夠控制在閥通路2中流動的工作油的流量。
[0065]另外，由于能夠利用單向閥6阻止工作油在副通路4中的逆流，因此，也能夠防止工作油在閥通路2中的逆流。
[0066]另外，隨著向閉閥方向?qū)Ω碧嵘y部10施力的先導壓力上升，副座部14和壓力補償套筒41與副提升閥部10—起移動。因此，能夠抑制用于使副提升閥部10移動所需的推力的上升。另外，即使流入側(cè)壓力與流出側(cè)壓力之間的壓力差變化，副提升閥部10的位移量即副座部14的開口程度也不會變化，因此，能夠容易地對電磁閥100進行控制。
[0067]另外，壓力補償機構(gòu)40為在彈簧支座43與主提升閥部50之間串聯(lián)排列地夾設由多個碟形彈簧構(gòu)成的壓力補償彈簧42的結(jié)構(gòu)。這樣，由于壓力補償機構(gòu)40的滑動部較少，因此，能夠?qū)笠种频幂^小。
[0068]另外，由于第2座部12的直徑設定為與第I座部11的直徑相同，因此，能夠容易地進行座部的加工。另外，相比于將第2座部12的直徑設定為小于第I座部11的直徑的情況，由于在第2座部12滑動自由的滑閥61的外徑較大，因此，能夠增加形成于滑閥61的通孔62的數(shù)量，或者增大通孔62的直徑。因此，能夠擴大可控制的流量的范圍。
[0069]第2實施方式
[0070]接著，參照圖4來說明本發(fā)明的第2實施方式的電磁閥200。以下，以與第I實施方式不同的方面為中心進行說明，對與第I實施方式相同的結(jié)構(gòu)標注相同的附圖標記，并省略說明。
[0071]電磁閥200的基本結(jié)構(gòu)與第I實施方式的電磁閥100相同。在第I座部211的直徑與第2座部212直徑不同這方面，電磁閥200與電磁閥100不同。以下，一邊與第I實施方式的電磁閥100比較一邊說明第2實施方式的電磁閥200的具體結(jié)構(gòu)。
[0072]如圖2所示，在電磁閥100中，第I座部11的直徑Dl和第2座部12的直徑Dl設定為相同直徑。相對于此，如圖4所示，在電磁閥200中，以滑動自由的方式供滑閥261貫穿的第2座部212的直徑D4設定為小于供提升閥251落位的第I座部211的直徑D3。
[0073]另外，在電磁閥100中，為了確保通過了滑閥61的工作油向提升閥51流動的流路，在主提升閥部50的位于滑閥61與提升閥51之間的部分形成向徑向內(nèi)側(cè)凹陷的環(huán)狀凹部50a，另外，在殼體32的位于第I座部11與第2座部12之間的部分形成有向徑向外側(cè)凹陷的環(huán)狀凹部32a。
[0074]相對于此，在電磁閥200的主提升閥部250中，在滑閥261與提升閥251之間不設置凹部，而使提升閥251的外周面253與滑閥261的外周面263連續(xù)形成。另外，在殼體232的第I座部211與第2座部212之間不設置凹部，而僅形成因第I座部211與第2座部212的直徑不同而產(chǎn)生的臺階部232a。
[0075]在電磁閥200中，由于通過了滑閥261的工作油沿著滑閥261的外周面263和提升閥251的外周面253流動到提升閥251，因此，不需要另外設置流路。因此，如上所述，能夠使主提升閥部250和殼體232的形狀簡單化。
[0076]另外，在電磁閥200中，由于在主提升閥部250的提升閥251與滑閥261之間未形成流路，因此，自第2座部212的下游側(cè)端到第I座部211的座部間距離L2設定得比電磁閥100中的座部間距離LI短。其結(jié)果，在電磁閥200中，能夠縮短電磁閥200的全長。
[0077]另外，在各實施方式中，第I座部11、211的直徑設定為小于主提升閥部50、250的外徑D2。這是因為，通過使先導壓力所作用的主提升閥部50、250的背面的面積大于第I座部
11、211的截面積，從而提高閉閥時的響應性。
[0078]根據(jù)以上的第2實施方式，起到以下所示的效果。
[0079]在電磁閥200中，通過將第2座部212的直徑D4設定為小于第I座部211的直徑D3，能夠縮短第I座部211與第2座部212之間的距離。其結(jié)果，能夠縮短電磁閥200的全長。
[0080]另外，在主提升閥部250和殼體232未形成成為流路的凹部等，而能夠使它們的形狀簡單化。因此，能夠降低電磁閥200的制造成本。
[0081]以上，說明了本發(fā)明的實施方式，但上述實施方式僅示出了本發(fā)明的應用例的一部分，其宗旨并不在于將本發(fā)明的保護范圍限定于上述實施方式的具體結(jié)構(gòu)。
[0082]例如，對于在滑閥61、261的外周面63、263開口的節(jié)流部來說，也可以是，設置孔狀的通孔62并且設置在外周面63、263開口的錐形槽狀的凹槽。另外，對于在滑閥61、261的外周面63、263開口的節(jié)流部來說，也可以是，不設置孔狀的通孔62而僅設置在外周面63、263開口的錐形槽狀的凹槽。
[0083]本申請基于2014年I月9日向日本國特許廳申請的日本特愿2014-2137主張優(yōu)先權(quán)，該申請的全部內(nèi)容通過參照編入到本說明書中。
[0084]附圖標記說明
[0085]100、200、電磁閥；2、閥通路;3、主通路;4、副通路;5、節(jié)流件;6、單向閥；7、先導壓室；10、副提升閥部；11、211、第I座部；12、212、第2座部；14、副座部;41、壓力補償套筒;42、壓力補償彈簧;50、250、主提升閥部;51、251、提升閥；61、261、滑閥；62、通孔(節(jié)流部)；63、263、外周面;65、265、環(huán)狀部;Dl、第I座部11的直徑以及第2座部12的直徑;D2、主提升閥部50、250的外徑;D3、第I座部211的直徑;D4、第2座部212的直徑;L1、L2、座部間距離。
【主權(quán)項】
1.一種電磁閥，其用于與電磁力相對應地控制在閥通路中流動的工作流體的流量，其中， 該電磁閥包括:主提升閥部，其與先導壓力相對應地移動而控制在上述閥通路中流動的工作流體的流量； 副提升閥部，其與上述電磁力相對應地移動而調(diào)節(jié)上述先導壓力；以及第I座部和第2座部，該第I座部和第2座部呈環(huán)狀且設于上述閥通路， 上述主提升閥部具有: 提升閥，其落位于上述第I座部而封閉上述第I座部；以及 滑閥，其以滑動自由的方式設于上述第2座部的內(nèi)周， 上述滑閥具有: 外周面，其相對于上述第2座部的內(nèi)周面滑動自由；以及 節(jié)流部，其在上述外周面開口，且自上述第2座部露出的面積隨著上述滑閥的移動而變化。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電磁閥，其中， 上述第I座部設于上述第2座部的下游側(cè)， 上述滑閥具有以滑動自由的方式設于上述第2座部的內(nèi)周的環(huán)狀部， 上述節(jié)流部設于上述環(huán)狀部。3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的電磁閥，其中， 上述節(jié)流部為連通上述環(huán)狀部的內(nèi)周和外周的通孔。4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電磁閥，其中， 上述閥通路具有: 主通路，其利用落位于上述第I座部的上述提升閥進行開閉；以及 副通路，其自上述主通路分支， 在上述副通路設有: 節(jié)流件，其對工作流體的流動進行節(jié)流；以及上述副提升閥部，其落位于設在上述節(jié)流件的下游側(cè)的副座部且用于開閉上述副通路， 在上述節(jié)流件與上述副座部之間設有能夠?qū)肷鲜鱿葘毫Φ南葘菏摇?.根據(jù)權(quán)利要求4所述的電磁閥，其中， 在上述副通路設有單向閥，該單向閥阻止工作流體自上述副通路的流出側(cè)向流入側(cè)的逆流。6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的電磁閥，其中， 該電磁閥還包括:壓力補償套筒，其以滑動自由的方式設于上述主提升閥部內(nèi)， 在上述壓力補償套筒設有上述副座部， 在上述壓力補償套筒與上述主提升閥部之間夾設有壓力補償彈簧。7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電磁閥，其中， 上述第2座部的直徑設定為與上述第I座部的直徑相同。8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電磁閥，其中，上述第2座部的直徑設定為小于上述第I座部的直徑。
【文檔編號】F16K15/03GK105874253SQ201480072062
【公開日】2016年8月17日
【申請日】2014年12月3日
【發(fā)明人】竹內(nèi)亨
【申請人】Ｋｙｂ株式會社