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一種三聯(lián)端齒盤及其防錯(cuò)位的方法

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一種三聯(lián)端齒盤及其防錯(cuò)位的方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及多齒端齒分度定位技術(shù)領(lǐng)域,特別是涉及一種三聯(lián)端齒盤及其防錯(cuò)位的方法。
【背景技術(shù)】
[0002]三聯(lián)端齒盤以其松開(kāi)、剎緊過(guò)程中產(chǎn)品外部免抬起,精度高、剛性高、可靠性高的特點(diǎn),廣泛應(yīng)用于分度定位的各種機(jī)械結(jié)構(gòu)中。如圖1所示,三聯(lián)齒盤的動(dòng)齒盤30與定齒盤20齒高設(shè)計(jì)為齒頂?shù)雀?,在端齒盤(端面有齒的分度定位元件的統(tǒng)稱)松開(kāi)過(guò)程中,定齒盤20和雙聯(lián)齒盤10分離,動(dòng)齒盤30回轉(zhuǎn)進(jìn)行產(chǎn)品分度動(dòng)作,到位后,雙聯(lián)齒盤10重新回到與定齒盤20嚙合位置,實(shí)現(xiàn)角度定位。在此過(guò)程中,雙聯(lián)齒盤10與定齒盤20容易發(fā)生相對(duì)角度移動(dòng),發(fā)生錯(cuò)位。
[0003]為避免雙聯(lián)齒盤10與定齒盤20發(fā)生相對(duì)角度移動(dòng),防止發(fā)生圖2所示的“齒對(duì)齒”現(xiàn)象(齒盤無(wú)法正常嚙合導(dǎo)致無(wú)法剎緊定位),需要如圖3所示在雙聯(lián)齒盤10與定齒盤20之間設(shè)置一防止發(fā)生相對(duì)角度移動(dòng)的銷子機(jī)構(gòu),或者在齒盤外部設(shè)置導(dǎo)向塊。兩種方式存在明顯的不足。首先,導(dǎo)向銷子加工困難,兩個(gè)盲孔的加工位置度誤差不容易控制,容易發(fā)生與齒盤嚙合干涉現(xiàn)象;銷子防止齒盤發(fā)生錯(cuò)位的能力不足,保護(hù)力度不大,尤其是受到外力沖擊的情況下,銷子很容易折斷;外部設(shè)置導(dǎo)向塊的方式增加了零件數(shù)量,破壞了齒盤外圓的整體性,尤其是在外圓需要密封的情況下無(wú)法采用。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0004]本發(fā)明的一個(gè)目的是要提供一種防止雙聯(lián)齒盤與定齒盤容易發(fā)生相對(duì)角度移動(dòng)的新的三聯(lián)端齒盤及其防錯(cuò)位的方法。
[0005]特別地,本發(fā)明提供了一種三聯(lián)端齒盤,包括動(dòng)齒盤、定齒盤、雙聯(lián)齒盤,所述雙聯(lián)齒盤的齒頂始終低于所述定齒盤的齒頂。
[0006]可選地,所述定齒盤的齒高大于所述雙聯(lián)齒盤的齒高;所述定齒盤與所述雙聯(lián)齒盤嚙合時(shí),所述定齒盤的齒頂與所述雙聯(lián)齒盤的第一距離小于所述雙聯(lián)齒盤的齒頂與所述定齒盤的第二距離。
[0007]可選地,所述雙聯(lián)齒盤的齒頂相對(duì)于所述定齒盤的最大位移與所述第一距離之和,小于所述定齒盤的齒高。
[0008]本發(fā)明還提供了一種三聯(lián)端齒盤的防錯(cuò)位的方法,包括:對(duì)所述動(dòng)齒盤和所述雙聯(lián)齒盤進(jìn)行設(shè)置,使得所述雙聯(lián)齒盤的齒頂始終低于所述定齒盤的齒頂。
[0009]可選地,所述定齒盤的齒高大于所述雙聯(lián)齒盤的齒高;所述定齒盤與所述雙聯(lián)齒盤嚙合時(shí),所述定齒盤的齒頂與所述雙聯(lián)齒盤的第一距離小于所述雙聯(lián)齒盤的齒頂與所述定齒盤的第二距離。
[0010]可選地,所述雙聯(lián)齒盤的齒頂相對(duì)于所述定齒盤的最大位移與所述第一距離之和,小于所述定齒盤的齒高。
[0011]本發(fā)明的三聯(lián)端齒盤及其防錯(cuò)位的方法由于雙聯(lián)齒盤的齒頂始終低于所述定齒盤的齒頂,因此能夠防止多齒端齒分度定位過(guò)程中發(fā)生錯(cuò)位,降低了原有為保證齒盤工作過(guò)程避免錯(cuò)位的零件加工的復(fù)雜程度,提高生產(chǎn)效率,降低了裝配難度,提高產(chǎn)品可靠性。其實(shí)現(xiàn)的改進(jìn)以成本不高的技術(shù)手段解決了技術(shù)難題,克服了現(xiàn)有技術(shù)中動(dòng)齒盤、雙聯(lián)齒盤的齒高相等的技術(shù)偏見(jiàn),具有出乎意料的技術(shù)效果。
[0012]根據(jù)下文結(jié)合附圖對(duì)本發(fā)明具體實(shí)施例的詳細(xì)描述,本領(lǐng)域技術(shù)人員將會(huì)更加明了本發(fā)明的上述以及其他目的、優(yōu)點(diǎn)和特征。
【附圖說(shuō)明】
[0013]后文將參照附圖以示例性而非限制性的方式詳細(xì)描述本發(fā)明的一些具體實(shí)施例。附圖中相同的附圖標(biāo)記標(biāo)示了相同或類似的部件或部分。本領(lǐng)域技術(shù)人員應(yīng)該理解,這些附圖未必是按比例繪制的。附圖中:
[0014]圖1是現(xiàn)有技術(shù)中的三聯(lián)端齒盤的定齒盤和雙聯(lián)齒盤的嚙合和脫開(kāi)狀態(tài)示意圖;
[0015]圖2是現(xiàn)有技術(shù)中的三聯(lián)端齒盤的定齒盤和雙聯(lián)齒盤的錯(cuò)位狀態(tài)下的示意圖;
[0016]圖3是現(xiàn)有技術(shù)中以銷子防止定齒盤和雙聯(lián)齒盤相對(duì)轉(zhuǎn)動(dòng)的結(jié)構(gòu)示意圖;
[0017]圖4是現(xiàn)有技術(shù)中的三聯(lián)端齒盤與本發(fā)明實(shí)施例的三聯(lián)端齒盤的嚙合狀態(tài)對(duì)比示意圖;
[0018]圖5是現(xiàn)有技術(shù)中的三聯(lián)端齒盤與本發(fā)明實(shí)施例的三聯(lián)端齒盤的脫開(kāi)狀態(tài)對(duì)比示意圖;
[0019]圖6是現(xiàn)有技術(shù)中的三聯(lián)端齒盤與本發(fā)明實(shí)施例的三聯(lián)端齒盤的齒長(zhǎng)方向的脫開(kāi)狀態(tài)的對(duì)比示意圖。
【具體實(shí)施方式】
[0020]圖4是現(xiàn)有技術(shù)中的三聯(lián)端齒盤與本發(fā)明實(shí)施例的三聯(lián)端齒盤的嚙合狀態(tài)對(duì)比示意圖。圖4公開(kāi)了一種三聯(lián)端齒盤,包括動(dòng)齒盤30、定齒盤20、雙聯(lián)齒盤10,定齒盤20、動(dòng)齒盤30為同樣精度等級(jí)的分度元件,定齒盤20不動(dòng),動(dòng)齒盤30隨回轉(zhuǎn)分度的部件回轉(zhuǎn),通過(guò)與兩個(gè)齒盤同時(shí)嚙合的雙聯(lián)齒盤10使動(dòng)齒盤30的角度位置與定齒盤20相一致,實(shí)現(xiàn)角度精確定位。所述雙聯(lián)齒盤10的齒頂始終低于所述定齒盤20的齒頂。
[0021]如圖4-6所示,所述定齒盤20的齒高大于所述雙聯(lián)齒盤10的齒高;所述定齒盤20與所述雙聯(lián)齒盤10嚙合時(shí),所述定齒盤20的齒頂與所述雙聯(lián)齒盤10的第一距離小于所述雙聯(lián)齒盤10的齒頂與所述定齒盤20的第二距離。此處的“第一距離”可以理解為定齒盤20的齒頂與對(duì)應(yīng)的雙聯(lián)齒盤10齒槽的槽底的最大距離,此處的“第二距離”可以理解為雙聯(lián)齒盤10的齒頂與對(duì)應(yīng)的定齒盤20齒槽的槽底的最大距離??梢钥闯?,所述雙聯(lián)齒盤10的齒頂相對(duì)于所述定齒盤20的最大位移與所述第一距離之和,小于所述定齒盤20的齒高。
[0022]本發(fā)明還提供了一種三聯(lián)端齒盤的防錯(cuò)位的方法,包括:對(duì)所述動(dòng)齒盤30和所述雙聯(lián)齒盤10進(jìn)行設(shè)置,使得所述雙聯(lián)齒盤10的齒頂始終低于所述定齒盤20的齒頂。
[0023]在本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例中,所述定齒盤20的齒高大于所述雙聯(lián)齒盤10的齒高;所述定齒盤20與所述雙聯(lián)齒盤10嚙合時(shí),所述定齒盤20的齒頂與所述雙聯(lián)齒盤10的第一距離小于所述雙聯(lián)齒盤10的齒頂與所述定齒盤20的第二距離。
[0024]在本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例中,所述雙聯(lián)齒盤10的齒頂相對(duì)于所述定齒盤20的最大位移與所述第一距離之和,小于所述定齒盤20的齒高。
[0025]本發(fā)明適用于所有應(yīng)用三聯(lián)齒盤作為分度度定位元件的機(jī)械產(chǎn)品。
[0026]應(yīng)用本發(fā)明導(dǎo)向方法,可徹底避免雙聯(lián)齒盤10與定齒盤20錯(cuò)位的現(xiàn)象發(fā)生,降低了應(yīng)用導(dǎo)向銷等結(jié)構(gòu)對(duì)加工的額外要求,降低了加工難度,提高了勞動(dòng)效率,提高了產(chǎn)品可靠性。
[0027]本發(fā)明解決了雙聯(lián)齒盤10與定齒盤20發(fā)生頂齒而造成的無(wú)法正常嚙合的問(wèn)題,又避免了設(shè)置導(dǎo)向銷所增加的加工難度;脫開(kāi)狀態(tài)時(shí)定齒盤20由于齒高大于齒盤脫開(kāi)的尺寸,始終保持部分齒高在雙聯(lián)齒盤10的齒槽內(nèi),徹底避免了出現(xiàn)定齒盤20與雙聯(lián)齒盤10發(fā)生頂齒的現(xiàn)象,由于多齒共同參與導(dǎo)向,相對(duì)于導(dǎo)向銷與導(dǎo)向塊提高了強(qiáng)度,又不影響分度齒盤的外圓的整體性,相對(duì)于原有導(dǎo)向機(jī)構(gòu),降低了加工難度,減少了零件數(shù)量,提高了廣品可靠性,提尚了生廣效率。
[0028]本發(fā)明充分利用分度定位元件一一端齒盤(端齒盤是端面有齒的分度定位元件的統(tǒng)稱)本身的特點(diǎn),利用端齒的兩個(gè)斜面限制雙聯(lián)齒盤10在脫開(kāi)狀態(tài)下自由活動(dòng)角度,因?yàn)辇X高的差距,齒盤在脫開(kāi)狀態(tài)下,動(dòng)齒盤30與雙聯(lián)齒盤10完全脫開(kāi),此時(shí)具有更高齒高的定齒盤20與雙聯(lián)齒盤10尚有部分齒高處于不完全嚙合狀態(tài),因此動(dòng)齒盤30可以自由回轉(zhuǎn),而定齒盤20與雙聯(lián)齒盤10只能在單個(gè)端齒限定的區(qū)域內(nèi)轉(zhuǎn)動(dòng),起到了限位作用。
[0029]至此,本領(lǐng)域技術(shù)人員應(yīng)認(rèn)識(shí)到,雖然本文已詳盡示出和描述了本發(fā)明的多個(gè)示例性實(shí)施例,但是,在不脫離本發(fā)明精神和范圍的情況下,仍可根據(jù)本發(fā)明公開(kāi)的內(nèi)容直接確定或推導(dǎo)出符合本發(fā)明原理的許多其他變型或修改。因此,本發(fā)明的范圍應(yīng)被理解和認(rèn)定為覆蓋了所有這些其他變型或修改。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種三聯(lián)端齒盤,包括動(dòng)齒盤、定齒盤、雙聯(lián)齒盤,其特征在于, 所述雙聯(lián)齒盤的齒頂始終低于所述定齒盤的齒頂。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的三聯(lián)端齒盤,其特征在于, 所述定齒盤的齒高大于所述雙聯(lián)齒盤的齒高; 所述定齒盤與所述雙聯(lián)齒盤嚙合時(shí),所述定齒盤的齒頂與所述雙聯(lián)齒盤的第一距離小于所述雙聯(lián)齒盤的齒頂與所述定齒盤的第二距離。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的三聯(lián)端齒盤,其特征在于, 所述雙聯(lián)齒盤的齒頂相對(duì)于所述定齒盤的最大位移與所述第一距離之和,小于所述定齒盤的齒高。
4.一種三聯(lián)端齒盤的防錯(cuò)位的方法,其特征在于,包括: 對(duì)所述動(dòng)齒盤和所述雙聯(lián)齒盤進(jìn)行設(shè)置,使得所述雙聯(lián)齒盤的齒頂始終低于所述定齒盤的齒頂。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的方法,其特征在于, 所述定齒盤的齒高大于所述雙聯(lián)齒盤的齒高; 所述定齒盤與所述雙聯(lián)齒盤嚙合時(shí),所述定齒盤的齒頂與所述雙聯(lián)齒盤的第一距離小于所述雙聯(lián)齒盤的齒頂與所述定齒盤的第二距離。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的方法,其特征在于, 所述雙聯(lián)齒盤的齒頂相對(duì)于所述定齒盤的最大位移與所述第一距離之和,小于所述定齒盤的齒高。
【專利摘要】本發(fā)明提供了一種三聯(lián)端齒盤及其防錯(cuò)位的方法,涉及多齒端齒分度定位技術(shù)領(lǐng)域。該三聯(lián)端齒盤包括動(dòng)齒盤、定齒盤、雙聯(lián)齒盤,所述雙聯(lián)齒盤的齒頂始終低于所述定齒盤的齒頂。該方案能夠有效防止雙聯(lián)齒盤與定齒盤容易發(fā)生相對(duì)角度移動(dòng),徹底避免了出現(xiàn)定齒盤與雙聯(lián)齒盤發(fā)生頂齒的現(xiàn)象,降低了原有為保證齒盤工作過(guò)程避免錯(cuò)位的零件加工的復(fù)雜程度,提高生產(chǎn)效率。
【IPC分類】F16H57-023, F16H27-04, F16H55-08
【公開(kāi)號(hào)】CN104806735
【申請(qǐng)?zhí)枴緾N201510214304
【發(fā)明人】吳培堅(jiān), 尹俊海, 臧克寶, 解美玲, 申國(guó)棟, 胡春霞, 邊輝
【申請(qǐng)人】煙臺(tái)環(huán)球機(jī)床附件集團(tuán)有限公司
【公開(kāi)日】2015年7月29日
【申請(qǐng)日】2015年4月30日
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