本實(shí)用新型屬于高溫設(shè)備領(lǐng)域，涉及一種密封圈，具體涉及一種耐高溫密封圈。

背景技術(shù)：

耐高溫密封圈主要用于國防、電力、機(jī)械、石油、化工、冶金、造紙、船舶等國民經(jīng)濟(jì)各個(gè)領(lǐng)域，以及礦山系統(tǒng)、柴油機(jī)系統(tǒng)、鐵路系統(tǒng)、航空航天、電火花以及高新技術(shù)產(chǎn)業(yè)等。

現(xiàn)有的耐高溫密封圈應(yīng)用在一些高溫的特殊設(shè)備中，由于耐高溫密封圈自身的結(jié)構(gòu)問題，在使用時(shí)，安裝不方便，密封性差，安裝后很容易磨壞，導(dǎo)致壽命短。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

針對(duì)上述現(xiàn)有技術(shù)中的不足，本實(shí)用新型提供了一種耐高溫密封圈。本實(shí)用新型結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單，制造方便，安裝方便快捷，密封效果好，使用壽命長(zhǎng)。

為了實(shí)現(xiàn)上述發(fā)明目的，本實(shí)用新型采用如下的技術(shù)方案：

一種耐高溫密封圈，其特征在于：包括上環(huán)、中環(huán)和下環(huán)，所述中環(huán)安裝在下環(huán)上，所述上環(huán)安裝在中環(huán)上，所述下環(huán)上設(shè)有凸臺(tái)Ⅰ、凸臺(tái)Ⅱ、凸臺(tái)Ⅲ和凸臺(tái)Ⅳ，所述凸臺(tái)Ⅰ、凸臺(tái)Ⅱ、凸臺(tái)Ⅲ和凸臺(tái)Ⅳ呈十字狀分布在下環(huán)上，所述中環(huán)上設(shè)有缺口Ⅰ和缺口Ⅱ，上環(huán)上設(shè)有缺口Ⅲ和缺口Ⅳ，所述缺口Ⅰ與缺口Ⅲ連通形成嵌口Ⅰ，缺口Ⅱ和缺口Ⅳ連通形成嵌口Ⅱ，所述嵌口Ⅰ位于凸臺(tái)Ⅰ和凸臺(tái)Ⅳ之間，嵌口Ⅱ位于凸臺(tái)Ⅱ和凸臺(tái)Ⅲ之間，所述下環(huán)上設(shè)有凹槽，凸臺(tái)Ⅰ、凸臺(tái)Ⅱ、凸臺(tái)Ⅲ和凸臺(tái)Ⅳ分別通過凹槽安裝在下環(huán)上，所述下環(huán)上設(shè)有凸起。

本實(shí)用新型所述上環(huán)的外環(huán)壁表面為斜面Ⅰ。

優(yōu)選地，所述斜面Ⅰ的傾斜角度為60-70度。

本實(shí)用新型所述缺口Ⅰ和缺口Ⅱ的兩側(cè)壁均為由內(nèi)向外擴(kuò)的斜面Ⅱ。

優(yōu)選地，所述斜面Ⅱ的傾斜角度為40-50度。

本實(shí)用新型所述缺口Ⅲ和缺口Ⅳ的兩側(cè)壁均為由內(nèi)向外擴(kuò)的斜面Ⅲ。

優(yōu)選地，所述斜面Ⅲ的傾斜角度為60-70度。

本實(shí)用新型的有益效果在于:

1、本實(shí)用新型結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單，制造方便，安裝方便快捷，密封效果好，使用壽命長(zhǎng)。

2、本實(shí)用新型采用所述上環(huán)的外環(huán)壁表面為斜面Ⅰ，所述斜面Ⅰ的傾斜角度為60-70度；斜面可以為密封圈的安裝起到導(dǎo)向作用，加快了安裝和維護(hù)換取的速度。

3、本實(shí)用新型采用所述缺口Ⅰ和缺口Ⅱ的兩側(cè)壁均為由內(nèi)向外擴(kuò)的斜面Ⅱ所述斜面Ⅱ的傾斜角度為40-50度；斜面可以為密封圈的安裝起到導(dǎo)向作用，加快了安裝和維護(hù)換取的速度。

4、本實(shí)用新型采用所述缺口Ⅲ和缺口Ⅳ的兩側(cè)壁均為由內(nèi)向外擴(kuò)的斜面Ⅲ，所述斜面Ⅲ的傾斜角度為60-70度；斜面可以為密封圈的安裝起到導(dǎo)向作用，加快了安裝和維護(hù)換取的速度。

5、本實(shí)用新型采用所述下環(huán)上設(shè)有凹槽，凸臺(tái)Ⅰ、凸臺(tái)Ⅱ、凸臺(tái)Ⅲ和凸臺(tái)Ⅳ分別通過凹槽安裝在下環(huán)上；通過凹槽來安裝凸臺(tái)，當(dāng)出現(xiàn)凸臺(tái)有損壞時(shí)，可以單獨(dú)對(duì)其中一個(gè)凸臺(tái)拆卸換取，有效避免了整個(gè)密封圈報(bào)廢的情況，節(jié)約成本。

6、本實(shí)用新型采用所述下環(huán)上設(shè)有凸起，凸起在安裝后嵌入設(shè)備的對(duì)應(yīng)槽中，可以有效防止設(shè)備工作時(shí)，密封圈在水平方向上發(fā)生位移，導(dǎo)致密封圈出現(xiàn)磨損的情況，保證了密封圈的安全，也延長(zhǎng)了密封圈的使用壽命。

附圖說明

圖1為本實(shí)用新型結(jié)構(gòu)示意圖。

圖2為本實(shí)用新型結(jié)構(gòu)側(cè)視圖。

圖3為本實(shí)用新型下環(huán)結(jié)構(gòu)示意圖。

圖中標(biāo)記為：1、上環(huán)，2、中環(huán)，3、下環(huán)，4、凸臺(tái)Ⅰ，5、凸臺(tái)Ⅱ，6、凸臺(tái)Ⅲ，7、凸臺(tái)Ⅳ，8、嵌口Ⅰ，9、嵌口Ⅱ，10、凹槽，11、凸起。

具體實(shí)施方式

下面結(jié)合具體實(shí)施方式對(duì)本實(shí)用新型的實(shí)質(zhì)性內(nèi)容作進(jìn)一步詳細(xì)的描述。

實(shí)施例1

如圖1、圖2和圖3所示，一種耐高溫密封圈，包括上環(huán)1、中環(huán)2和下環(huán)3，所述中環(huán)2安裝在下環(huán)3上，所述上環(huán)1安裝在中環(huán)2上，所述下環(huán)3上設(shè)有凸臺(tái)Ⅰ4、凸臺(tái)Ⅱ5、凸臺(tái)Ⅲ6和凸臺(tái)Ⅳ7，所述凸臺(tái)Ⅰ4、凸臺(tái)Ⅱ5、凸臺(tái)Ⅲ6和凸臺(tái)Ⅳ7呈十字狀分布在下環(huán)上，所述中環(huán)2上設(shè)有缺口Ⅰ和缺口Ⅱ，上環(huán)1上設(shè)有缺口Ⅲ和缺口Ⅳ，所述缺口Ⅰ與缺口Ⅲ連通形成嵌口Ⅰ8，缺口Ⅱ和缺口Ⅳ連通形成嵌口Ⅱ9，所述嵌口Ⅰ8位于凸臺(tái)Ⅰ4和凸臺(tái)Ⅳ7之間，嵌口Ⅱ9位于凸臺(tái)Ⅱ5和凸臺(tái)Ⅲ6之間，所述下環(huán)3上設(shè)有凹槽10，凸臺(tái)Ⅰ4、凸臺(tái)Ⅱ5、凸臺(tái)Ⅲ6和凸臺(tái)Ⅳ7分別通過凹槽10安裝在下環(huán)3上，所述下環(huán)3上設(shè)有凸起11。

實(shí)施例2

如圖1、圖2和圖3所示，一種耐高溫密封圈，包括上環(huán)1、中環(huán)2和下環(huán)3，所述中環(huán)2安裝在下環(huán)3上，所述上環(huán)1安裝在中環(huán)2上，所述下環(huán)3上設(shè)有凸臺(tái)Ⅰ4、凸臺(tái)Ⅱ5、凸臺(tái)Ⅲ6和凸臺(tái)Ⅳ7，所述凸臺(tái)Ⅰ4、凸臺(tái)Ⅱ5、凸臺(tái)Ⅲ6和凸臺(tái)Ⅳ7呈十字狀分布在下環(huán)上，所述中環(huán)2上設(shè)有缺口Ⅰ和缺口Ⅱ，上環(huán)1上設(shè)有缺口Ⅲ和缺口Ⅳ，所述缺口Ⅰ與缺口Ⅲ連通形成嵌口Ⅰ8，缺口Ⅱ和缺口Ⅳ連通形成嵌口Ⅱ9，所述嵌口Ⅰ8位于凸臺(tái)Ⅰ4和凸臺(tái)Ⅳ7之間，嵌口Ⅱ9位于凸臺(tái)Ⅱ5和凸臺(tái)Ⅲ6之間，所述下環(huán)3上設(shè)有凹槽10，凸臺(tái)Ⅰ4、凸臺(tái)Ⅱ5、凸臺(tái)Ⅲ6和凸臺(tái)Ⅳ7分別通過凹槽10安裝在下環(huán)3上，所述下環(huán)3上設(shè)有凸起11。

所述上環(huán)1的外環(huán)壁表面為斜面Ⅰ。

優(yōu)選地，所述斜面Ⅰ的傾斜角度為60-度。

所述缺口Ⅰ和缺口Ⅱ的兩側(cè)壁均為由內(nèi)向外擴(kuò)的斜面Ⅱ。

優(yōu)選地，所述斜面Ⅱ的傾斜角度為40度。

所述缺口Ⅲ和缺口Ⅳ的兩側(cè)壁均為由內(nèi)向外擴(kuò)的斜面Ⅲ。

優(yōu)選地，所述斜面Ⅲ的傾斜角度為60度。

實(shí)施例3

如圖1、圖2和圖3所示，一種耐高溫密封圈，包括上環(huán)1、中環(huán)2和下環(huán)3，所述中環(huán)2安裝在下環(huán)3上，所述上環(huán)1安裝在中環(huán)2上，所述下環(huán)3上設(shè)有凸臺(tái)Ⅰ4、凸臺(tái)Ⅱ5、凸臺(tái)Ⅲ6和凸臺(tái)Ⅳ7，所述凸臺(tái)Ⅰ4、凸臺(tái)Ⅱ5、凸臺(tái)Ⅲ6和凸臺(tái)Ⅳ7呈十字狀分布在下環(huán)上，所述中環(huán)2上設(shè)有缺口Ⅰ和缺口Ⅱ，上環(huán)1上設(shè)有缺口Ⅲ和缺口Ⅳ，所述缺口Ⅰ與缺口Ⅲ連通形成嵌口Ⅰ8，缺口Ⅱ和缺口Ⅳ連通形成嵌口Ⅱ9，所述嵌口Ⅰ8位于凸臺(tái)Ⅰ4和凸臺(tái)Ⅳ7之間，嵌口Ⅱ9位于凸臺(tái)Ⅱ5和凸臺(tái)Ⅲ6之間，所述下環(huán)3上設(shè)有凹槽10，凸臺(tái)Ⅰ4、凸臺(tái)Ⅱ5、凸臺(tái)Ⅲ6和凸臺(tái)Ⅳ7分別通過凹槽10安裝在下環(huán)3上，所述下環(huán)3上設(shè)有凸起11。

所述上環(huán)1的外環(huán)壁表面為斜面Ⅰ。

優(yōu)選地，所述斜面Ⅰ的傾斜角度為65度。

所述缺口Ⅰ和缺口Ⅱ的兩側(cè)壁均為由內(nèi)向外擴(kuò)的斜面Ⅱ。

優(yōu)選地，所述斜面Ⅱ的傾斜角度為45度。

所述缺口Ⅲ和缺口Ⅳ的兩側(cè)壁均為由內(nèi)向外擴(kuò)的斜面Ⅲ。

優(yōu)選地，所述斜面Ⅲ的傾斜角度為65度。

實(shí)施例4

如圖1、圖2和圖3所示，一種耐高溫密封圈，包括上環(huán)1、中環(huán)2和下環(huán)3，所述中環(huán)2安裝在下環(huán)3上，所述上環(huán)1安裝在中環(huán)2上，所述下環(huán)3上設(shè)有凸臺(tái)Ⅰ4、凸臺(tái)Ⅱ5、凸臺(tái)Ⅲ6和凸臺(tái)Ⅳ7，所述凸臺(tái)Ⅰ4、凸臺(tái)Ⅱ5、凸臺(tái)Ⅲ6和凸臺(tái)Ⅳ7呈十字狀分布在下環(huán)上，所述中環(huán)2上設(shè)有缺口Ⅰ和缺口Ⅱ，上環(huán)1上設(shè)有缺口Ⅲ和缺口Ⅳ，所述缺口Ⅰ與缺口Ⅲ連通形成嵌口Ⅰ8，缺口Ⅱ和缺口Ⅳ連通形成嵌口Ⅱ9，所述嵌口Ⅰ8位于凸臺(tái)Ⅰ4和凸臺(tái)Ⅳ7之間，嵌口Ⅱ9位于凸臺(tái)Ⅱ5和凸臺(tái)Ⅲ6之間，所述下環(huán)3上設(shè)有凹槽10，凸臺(tái)Ⅰ4、凸臺(tái)Ⅱ5、凸臺(tái)Ⅲ6和凸臺(tái)Ⅳ7分別通過凹槽10安裝在下環(huán)3上，所述下環(huán)3上設(shè)有凸起11。

所述上環(huán)1的外環(huán)壁表面為斜面Ⅰ。

優(yōu)選地，所述斜面Ⅰ的傾斜角度為70度。

所述缺口Ⅰ和缺口Ⅱ的兩側(cè)壁均為由內(nèi)向外擴(kuò)的斜面Ⅱ。

優(yōu)選地，所述斜面Ⅱ的傾斜角度為50度。

所述缺口Ⅲ和缺口Ⅳ的兩側(cè)壁均為由內(nèi)向外擴(kuò)的斜面Ⅲ。

優(yōu)選地，所述斜面Ⅲ的傾斜角度為70度。