專利名稱：一種滾柱式超越離合器的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實用新型涉及原動機和工作機之間或機器內(nèi)部主動軸與從動軸之間動力傳遞與分離功能的重要部件，具體就是一種滾柱式超越離合器。
背景技術(shù)：
超越離合器是隨著機電一體化產(chǎn)品的發(fā)展而出現(xiàn)的基礎(chǔ)件，它是用于它是利用主、從動部分的速度變化或旋轉(zhuǎn)方向的變換，具有自行離合功能的裝置。超越離合器分為楔塊式超越離合器、滾柱式超越離合器和棘輪式超越離合器。楔塊超越離合器用異形楔塊代替滾柱作為楔緊件，是用楔塊和內(nèi)、外滾道組成摩擦副的一種離合器。當(dāng)內(nèi)環(huán)、外環(huán)與楔塊間無相對運動，轉(zhuǎn)向相同，轉(zhuǎn)速相等，才能傳遞轉(zhuǎn)矩，否則均為相對滑動，這種不傳速轉(zhuǎn)矩的滑動狀態(tài)稱為超越。楔塊超越離合器主要有基本型、無內(nèi)環(huán)型和帶軸承型。其連接形式分為鍵連接、齒輪連接、帶輪連接、鏈輪連接、螺栓連接等。滾柱式超越離合器根其內(nèi)軛(星輪)位置不同分為外星輪和內(nèi)星輪兩種，所謂軛是指圓柱與圓柱孔的共軛面，而星輪是具有容納滾柱的凹槽的零件。為了便于加工和保證加工精度，內(nèi)星輪式的被廣泛采用。按星輪工作面的形狀不同，又可分為平面型、對數(shù)螺旋面型和偏心圓柱面型等三種。其中平面型加工簡單，應(yīng)用廣泛，但其楔觸角不隨滾柱磨損和接觸位置的不同而改變而改變而變化，但加工較困難；偏心圓柱面的加工難易程度、使用性能、壽命均居于前二者之間。滾柱式超越離合器的關(guān)鍵是，當(dāng)內(nèi)環(huán)、外環(huán)與滾柱間因摩擦力無相對運動，轉(zhuǎn)向相同，轉(zhuǎn)速相等，才能傳遞轉(zhuǎn)矩，所以增加內(nèi)環(huán)、外環(huán)與楔塊間產(chǎn)生的摩擦力是關(guān)鍵。
發(fā)明內(nèi)容為了增加內(nèi)環(huán)、外環(huán)與楔塊之間產(chǎn)生的摩擦力，本實用新型提供一種滾柱式超越
宦人興兩口名> O本實用新型是這樣實現(xiàn)的，一種滾柱式超越離合器，包括主動部分的外環(huán)、星輪、及其間的滾柱，滾柱的摩擦面設(shè)置至少一個環(huán)狀溝槽，外環(huán)、星輪的摩擦面為與環(huán)狀溝槽相配合的面；所述環(huán)狀溝槽為環(huán)狀V字型溝槽，外環(huán)、星輪的摩擦面為與環(huán)狀V字型溝槽相配合的環(huán)狀V字型凸筋面。所述的滾柱式超越離合器，所述環(huán)狀V字型凸筋平均寬度的數(shù)值大于環(huán)狀V字型溝槽平均寬度的數(shù)值，環(huán)狀V字型凸筋頂端為圓弧。所述的滾柱式超越離合器，所述環(huán)狀溝槽數(shù)量為2個、3個、4個、5個、6個之一。所述的滾柱式超越離合器，所述環(huán)狀溝槽設(shè)置在外環(huán)、星輪的摩擦面，所述環(huán)狀V字型凸筋設(shè)置在滾柱的摩擦面。本實用新型的離合器的摩擦面設(shè)溝槽，增大了摩擦面積，就能產(chǎn)生大的摩擦力，就能減小摩擦離合器的體積，降低摩擦離合器的成本。對于環(huán)狀V字型溝槽配合環(huán)狀V字型凸筋，當(dāng)環(huán)狀V字型溝槽與環(huán)狀V字型凸筋完全貼緊時(二者夾角相同)，由于V字型凸筋平均寬度的數(shù)值稍微大于V字型溝槽平均寬度的數(shù)值，V字型凸筋頂端為圓弧，V字型凸筋再稍微向前移動，溝槽就產(chǎn)生巨大的夾緊力，能夠有效傳遞摩擦力，進一步減小摩擦離合器的體積，降低摩擦離合器的成本。

圖1是滾柱式超越離合器主視圖。圖2是滾柱式超越離合器曲面摩擦面結(jié)構(gòu)示意圖。圖3是滾柱式超越離合器V字形摩擦面結(jié)構(gòu)示意圖。
具體實施方式
如圖1-3，一種滾柱式超越離合器，包括主動部分的外環(huán)1、星輪2、及其間的滾柱3，滾柱的摩擦面設(shè)置至少一個環(huán)狀溝槽，外環(huán)、星輪的摩擦面為與環(huán)狀溝槽相配合的面。如圖2所述的滾柱式超越離合器，所述環(huán)狀溝槽為環(huán)狀曲面溝槽31，外環(huán)的摩擦面為與環(huán)狀曲面溝槽相配合的面環(huán)狀曲面凸筋11、星輪的摩擦面為與環(huán)狀曲面溝槽相配合的環(huán)狀曲面凸筋面21。如圖3所述的滾柱式超越離合器，所述環(huán)狀溝槽為環(huán)狀V字型溝槽33，外環(huán)的摩擦面為與環(huán)狀V字型溝槽相配合的環(huán)狀V字型凸筋面13、星輪的摩擦面為與環(huán)狀V字型溝槽相配合的環(huán)狀V字型凸筋面23。所述的滾柱式超越離合器，所述V字型凸筋平均寬度的數(shù)值大于V字型溝槽平均寬度的數(shù)值，V字型凸筋頂端為圓弧。所述的滾柱式超越離合器，所述環(huán)狀溝槽數(shù)量為2個、3個、4個、5個、6個之一。所述的滾柱式超越離合器，所述環(huán)狀溝槽設(shè)置在外環(huán)、星輪的摩擦面，所述環(huán)狀凸筋設(shè)置在滾柱的摩擦面。
權(quán)利要求1.一種滾柱式超越離合器，包括主動部分的外環(huán)、星輪、及其間的滾柱，其特征在于:滾柱的摩擦面設(shè)置至少一個環(huán)狀溝槽，外環(huán)、星輪的摩擦面為與環(huán)狀溝槽相配合的面；所述環(huán)狀溝槽為環(huán)狀V字型溝槽，外環(huán)、星輪的摩擦面為與環(huán)狀V字型溝槽相配合的環(huán)狀V字型凸筋面。
2.如權(quán)利要求1所述的滾柱式超越離合器，其特征在于:所述環(huán)狀V字型凸筋平均寬度的數(shù)值大于環(huán)狀V字型溝槽平均寬度的數(shù)值，環(huán)狀V字型凸筋頂端為圓弧。
3.如權(quán)利要求1-2之一所述的滾柱式超越離合器，其特征在于:所述環(huán)狀溝槽數(shù)量為2個、3個、4個、5個、6個之一。
4.如權(quán)利要求1-2之一所述的滾柱式超越離合器，其特征在于:所述環(huán)狀溝槽設(shè)置在外環(huán)、星輪的摩擦面，所述環(huán)狀V字型凸筋設(shè)置在滾柱的摩擦面。
專利摘要一種滾柱式超越離合器，包括主動部分的外環(huán)、星輪、及其間的滾柱，滾柱的摩擦面設(shè)置至少一個環(huán)狀溝槽，外環(huán)、星輪的摩擦面為與環(huán)狀溝槽相配合的面。所述環(huán)狀溝槽為環(huán)狀曲面溝槽，外環(huán)、星輪的摩擦面為與環(huán)狀曲面溝槽相配合的環(huán)狀曲面凸筋。本實用新型的離合器的摩擦面設(shè)溝槽，增大了摩擦面積，就能產(chǎn)生大的摩擦力，就能減小摩擦離合器的體積，降低摩擦離合器的成本。對于環(huán)狀V字型溝槽配合環(huán)狀V字型凸筋，當(dāng)環(huán)狀V字型溝槽與環(huán)狀V字型凸筋完全貼緊時(二者夾角相同)，由于V字型凸筋平均寬度的數(shù)值稍微大于V字型溝槽平均寬度的數(shù)值，V字型凸筋頂端為圓弧，V字型凸筋再稍微向前移動，溝槽就產(chǎn)生巨大的夾緊力，能夠有效傳遞摩擦力，進一步減小摩擦離合器的體積，降低摩擦離合器的成本。
文檔編號F16D41/066GK203161894SQ201220675808
公開日2013年8月28日 申請日期2012年12月10日 優(yōu)先權(quán)日2012年12月10日
發(fā)明者楊勇 申請人:楊勇