專利名稱：機(jī)械減振密封件的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
機(jī)械減振密封件技術(shù)領(lǐng)域[0001]本實(shí)用新型涉及一種機(jī)械減振密封件。
背景技術(shù)：
[0002]密封件是防止流體或固體微粒從相鄰結(jié)合面間泄漏以及防止外界雜質(zhì)如灰塵與水分等侵入機(jī)器設(shè)備內(nèi)部的零部件的材料或零件。目前有一種機(jī)械減振密封件，包括設(shè)有中心孔的本體，該中心孔為臺(tái)階孔，使用時(shí)，可以與轉(zhuǎn)軸的臺(tái)階相配，從而軸向限位。以上這種結(jié)構(gòu)的密封件存在以下不足由于密封件使用時(shí)，其端面為平面，其接觸面積較大，但是降低了密封強(qiáng)度。實(shí)用新型內(nèi)容[0003]本實(shí)用新型要解決的技術(shù)問題是，提供一種密封效果好的機(jī)械減振密封件。[0004]本實(shí)用新型的技術(shù)方案是，提供一種具有以下結(jié)構(gòu)的機(jī)械減振密封件，包括設(shè)有中心孔的本體，所述中心孔為臺(tái)階孔，所述本體的一端設(shè)有臺(tái)階，所述臺(tái)階的側(cè)面為外小內(nèi)大的圓錐面。[0005]所述臺(tái)階的側(cè)壁與本體軸線的夾角為40 50度。[0006]所述臺(tái)階孔與臺(tái)階位于本體的同一端。[0007]采用以上結(jié)構(gòu)后，本實(shí)用新型與現(xiàn)有技術(shù)相比，具有以下優(yōu)點(diǎn)由于所述本體的一端設(shè)有臺(tái)階，所述臺(tái)階的側(cè)面為外小內(nèi)大的圓錐面，這樣可以嵌入到端部的孔內(nèi)，由面接觸變?yōu)橄冉佑|，縮小接觸面積，即使磨損后，也能自動(dòng)補(bǔ)償。使密封效果好。


[0008]附圖為本實(shí)用新型的機(jī)械減振密封件的結(jié)構(gòu)示意圖。[0009]如圖所示1、本體，I. I、中心孔，I. 2、臺(tái)階。
具體實(shí)施方式
[0010]
以下結(jié)合附圖和具體實(shí)施例對(duì)本實(shí)用新型作進(jìn)一步說明。[0011]如圖所示，本實(shí)用新型的機(jī)械減振密封件，包括設(shè)有中心孔I. I的本體1，所述中心孔I. I為臺(tái)階孔，所述本體I的一端設(shè)有臺(tái)階I. 2，所述臺(tái)階I. 2的側(cè)面為外小內(nèi)大的圓錐面。[0012]所述臺(tái)階I. 2的側(cè)壁與本體I軸線的夾角為40 50度。[0013]所述中心孔I. I中較小直徑的孔與臺(tái)階I. 2位于本體I的同一端。
權(quán)利要求1.一種機(jī)械減振密封件，包括設(shè)有中心孔(I. I)的本體(I)，所述中心孔(I. I)為臺(tái)階孔，其特征在于所述本體(I)的一端設(shè)有臺(tái)階(I. 2)，所述臺(tái)階(1.2)的側(cè)面為外小內(nèi)大的圓錐面。
2.根據(jù)權(quán)利要求I所述的機(jī)械減振密封件，其特征在于所述臺(tái)階(I.2)的側(cè)壁與本體(I)軸線的夾角為40 50度。
3.根據(jù)權(quán)利要求I所述的機(jī)械減振密封件，其特征在于所述臺(tái)階孔與臺(tái)階(I.2)位于本體(I)的同一端。
專利摘要本實(shí)用新型公開了一種機(jī)械減振密封件，包括設(shè)有中心孔(1.1)的本體(1)，所述中心孔(1.1)為臺(tái)階孔，所述本體(1)的一端設(shè)有臺(tái)階(1.2)，所述臺(tái)階(1.2)的側(cè)面為外小內(nèi)大的圓錐面。該機(jī)械減振密封件密封效果好。
文檔編號(hào)F16J15/16GK202812202SQ20122042919
公開日2013年3月20日 申請(qǐng)日期2012年8月21日 優(yōu)先權(quán)日2012年8月21日
發(fā)明者董惠剛, 鄭禮煙, 陳美蓮, 卞成蓮, 涂余南 申請(qǐng)人:寧波旭泰橡膠工業(yè)有限公司