專利名稱：用于設(shè)備內(nèi)腔面的耐磨陶瓷構(gòu)件的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實用新型涉及陶瓷構(gòu)件，特別是涉及一種用于設(shè)備內(nèi)腔面的耐磨陶瓷構(gòu)件。
技術(shù)背景 目前，在電力、冶金、礦山等諸多行業(yè)的輸料系統(tǒng)中，大多采用鋼材加工制成的金屬圓筒里面內(nèi)嵌耐磨陶瓷構(gòu)件作為輸送載體。在實際使用中，由于加工精度較低或不一致的原因，在工程應(yīng)用中，工作介質(zhì)粉塵和流體容易滲透到陶瓷構(gòu)件的接縫里，對金屬管道內(nèi)壁造成磨損，尤其是現(xiàn)有的陶瓷構(gòu)件其端面為平面，這樣形成的接縫對防止流體從接縫處流出不能起到雙層防護(hù)作用，且當(dāng)相鄰兩陶瓷構(gòu)件的端面錯開時，會使得相鄰端面的接觸面積減小，更會影響陶瓷構(gòu)件的密封效果和耐磨效果，為了克服這種結(jié)構(gòu)上的不足，勢必要在工藝上提高加工精度，從而導(dǎo)致加工成本過高。

實用新型內(nèi)容本實用新型的目的是為解決上述技術(shù)的不足，提供一種用于設(shè)備內(nèi)腔面的耐磨陶瓷構(gòu)件，本實用新型提供的陶瓷構(gòu)件的端面為凹面和凸面，能夠有效解決接縫處、尤其是錯開時的密封效果不佳的問題，進(jìn)而提高了耐磨效果。為了達(dá)到上述目的，本實用新型的技術(shù)方案是一種用于設(shè)備內(nèi)腔面的耐磨陶瓷構(gòu)件，所述的陶瓷構(gòu)件為管狀，其兩端面設(shè)置為相互配合的凸面和凹面，所述凸面徑向自內(nèi)而外依次設(shè)置的斜面一和平面一構(gòu)成；所述凹面徑向自內(nèi)而外依次設(shè)置的斜面二和平面二構(gòu)成。進(jìn)一步的，所述斜面一和斜面二平行設(shè)置。進(jìn)一步的，所述斜面一與軸向呈40 ° — 60 °，所述斜面二與軸向呈40 ° —60 ° 。采用上述技術(shù)方案，本實用新型的技術(shù)效果有I、本實用新型陶瓷構(gòu)件端面的斜面傾斜方向和流體的流動方向一致，使流體不容易滲透到陶瓷構(gòu)件的接縫里。2、本實用新型陶瓷構(gòu)件端面的凹面和凸面結(jié)構(gòu)，其獨特的斜面和平面設(shè)計，使其密封效果更好，即使流體滲透到接縫斜面里，平面會起到第二層防護(hù)效果，有效防止流體滲入陶瓷構(gòu)件的接縫處，進(jìn)而避免流體接觸到設(shè)備的內(nèi)腔面，防止內(nèi)腔面受到磨損。3、本實用新型的兩端面，即使接縫處出現(xiàn)一定程度的錯開，由于其雙層防護(hù)的作用，也不會影響陶瓷構(gòu)件的密封效果和耐磨效果，進(jìn)而降低了對于陶瓷構(gòu)件端面的加工精度要求，降低了加工成本。

圖I是本實用新型結(jié)構(gòu)示意圖；圖2是本實用新型實施例的結(jié)構(gòu)示意圖；[0013]圖3是現(xiàn)有的陶瓷構(gòu)件結(jié)構(gòu)示意圖；圖4是本實用新型陶瓷構(gòu)件錯開示意圖；其中1、陶瓷構(gòu)件,2、凸面，3、凹面，4、管體，21、斜面一，31、斜面二，22、平面一，
32、平面二，5、第一錯開部，6、第二錯開部。
具體實施方式
如圖I所示，一種用于設(shè)備內(nèi)腔面的耐 磨陶瓷構(gòu)件，陶瓷構(gòu)件I為管狀，其兩端面設(shè)置為相互配合的凸面2和凹面3，以實現(xiàn)相鄰的陶瓷構(gòu)件I能夠首尾插接，進(jìn)而保證相鄰陶瓷構(gòu)件相接端面之間的密封性能；其中的凸面2徑向自內(nèi)而外依次設(shè)置的斜面一 21和平面一 22構(gòu)成，斜面一 21與軸向呈40° — 60 ° ;其中的凹面3徑向自內(nèi)而外依次設(shè)置的斜面二 31和平面二 32構(gòu)成，斜面二 31與軸向呈40。一 60°。且斜面一 21和斜面二 31平行設(shè)置。如圖2所示，為本實用新型陶瓷構(gòu)件的具體應(yīng)用，即將其嵌裝在管體4的管腔內(nèi)。具體的，陶瓷構(gòu)件I為多個陶瓷片沿軸向拼接在一起，斜面一 21與斜面二 31平行設(shè)置，且斜面一 21與斜面二 31的傾斜方向設(shè)置為與流體的流動方向相同，陶瓷構(gòu)件I的斜面一 21與斜面二 31的方向平行設(shè)置，使流體不容易滲透到耐磨陶瓷構(gòu)件的接縫內(nèi)，斜面和平面的結(jié)構(gòu)設(shè)計，即使少量流體滲透到斜面里，也可以通過相鄰平面的對接處對流體的滲透起到第二層防護(hù)。本實用新型中相鄰的陶瓷構(gòu)件I的斜面和平面的設(shè)計使得防止流體從接縫處流出起到雙層防護(hù)作用，端面凹凸設(shè)置，即一端面沿軸向向外凸出，另一端面沿軸向向內(nèi)凹陷，且凹凸對應(yīng)能夠使得相鄰的陶瓷構(gòu)件緊密配合，雙層防護(hù)，密封效果好，能夠很有效的防止粉塵由接縫處滲入，進(jìn)而避免流體接觸到管體4的內(nèi)腔面，有效達(dá)到耐磨效果。而當(dāng)相鄰陶瓷構(gòu)件I相錯開時，如果錯開方式為沿流體流動方向由高面到低面(如圖4所示的第一錯開部5)，則會在錯開處形成渦流，進(jìn)而可能導(dǎo)致流體滲入斜面的接縫內(nèi)，但是由于平面交接處的防護(hù)，能夠有效防止?jié)B入的流體進(jìn)一步滲入，避免其接觸到管體4的內(nèi)腔面；如果錯開方式為沿流體流動方向由低面到高面(如圖4所示的第二錯開部6)，則流體不斷的沖刷高出的部分，使其相對較快的磨損至平整，此時仍有部分斜面和平面相接觸，仍然能夠有效防止流體滲入接縫內(nèi)。因此，本實用新型的陶瓷構(gòu)件在具體應(yīng)用時，拼接時一定程度的錯開不會影響耐磨效果，進(jìn)而降低了對于陶瓷構(gòu)件的加工精度，減少了工作時間，降低了加工成本，提高了加工質(zhì)量。最后應(yīng)說明的是，以上實施例僅用以說明本實用新型的技術(shù)方案而非限制，盡管參照較佳實施例對本實用新型進(jìn)行了詳細(xì)說明，本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員應(yīng)當(dāng)理解，可以對本實用新型的技術(shù)方案進(jìn)行修改或者等同替換，而不脫離本實用新型技術(shù)方案的精神和范圍，其均應(yīng)涵蓋在本實用新型的權(quán)利要求范圍當(dāng)中。
權(quán)利要求1.一種用于設(shè)備內(nèi)腔面的耐磨陶瓷構(gòu)件，其特征在于所述的陶瓷構(gòu)件(I)為管狀，其兩端面設(shè)置為相互配合的凸面(2)和凹面(3)，所述凸面(2)徑向自內(nèi)而外依次設(shè)置有斜面一(21)和平面一(22);所述凹面(3)徑向自內(nèi)而外依次設(shè)置有斜面二(31)和平面二(32)。
2.根據(jù)權(quán)利要求I所述的用于設(shè)備內(nèi)腔面的耐磨陶瓷構(gòu)件，其特征在于所述斜面一(21)和斜面二(31)平行設(shè)置。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的用于設(shè)備內(nèi)腔面的耐磨陶瓷構(gòu)件，其特征在于所述斜面一(21)與軸向呈40 ° — 60°，所述斜面二(31)與軸向呈40 ° — 60 °。
專利摘要本實用新型提供了一種用于設(shè)備內(nèi)腔面的耐磨陶瓷構(gòu)件，所述的陶瓷構(gòu)件為管狀，其兩端面設(shè)置為相互配合的凸面和凹面，所述凸面徑向自內(nèi)而外依次設(shè)置的斜面一和平面一構(gòu)成；所述凹面徑向自內(nèi)而外依次設(shè)置的斜面二和平面二構(gòu)成；本實用新型提供的用于設(shè)備內(nèi)腔面的耐磨陶瓷構(gòu)件，斜面的傾斜方向和流體的流動方向一致，使流體不容易滲透到陶瓷構(gòu)件的接縫里，凹面和凸面結(jié)構(gòu)對加工精度的要求不是很高，節(jié)省加工成本。
文檔編號F16L57/06GK202580484SQ20122023978
公開日2012年12月5日 申請日期2012年5月25日 優(yōu)先權(quán)日2012年5月25日
發(fā)明者馮萬春 申請人:北京中電聯(lián)眾電力技術(shù)有限公司