專利名稱：一種控制閥閥座的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及氣液控制流通領(lǐng)域，具體的說是一種控制閥閥座。
背景技術(shù)：
目前廣泛使用的控制閥閥座多為平面結(jié)構(gòu)，這樣的好處是加工工藝較為簡單，但缺點(diǎn)也很明顯，一是對閥座的光潔度要求較高，二是使用較長時(shí)間或壓強(qiáng)較大的管路中時(shí)易發(fā)生泄露。
發(fā)明內(nèi)容為解決上述問題，本發(fā)明提供了一種控制閥閥座。本發(fā)明是這樣實(shí)現(xiàn)的將閥座底部密封面設(shè)置成一個(gè)上揚(yáng)1° -5°傾角的圈體。本發(fā)明的有益效果是閥座由于上揚(yáng)圈體產(chǎn)生一個(gè)被動(dòng)的線性密封圈，達(dá)到良好的密封效果。
以下結(jié)合附圖
作進(jìn)一步說明。附圖是本發(fā)明的結(jié)構(gòu)示意圖。圖中1、1° -5°傾角圈體。
具體實(shí)施方式
如圖所示，將閥座底部密封面設(shè)置成一個(gè)上揚(yáng)1° -5°傾角的圈體，閥座由于上揚(yáng)圈體產(chǎn)生一個(gè)被動(dòng)的線性密封圈，達(dá)到良好的密封效果。
權(quán)利要求1. ー種控制閥閥座，其特征在于，將閥座底部密封面設(shè)置成一個(gè)上揚(yáng)1° -5°傾角的圈體。
專利摘要本實(shí)用新型提供了一種控制閥閥座，將閥座底部密封面設(shè)置成一個(gè)上揚(yáng)1°-5°傾角的圈體，閥座由于上揚(yáng)圈體產(chǎn)生一個(gè)被動(dòng)的線性密封圈，達(dá)到良好的密封效果。
文檔編號(hào)F16K51/00GK202371295SQ20112054787
公開日2012年8月8日 申請日期2011年12月25日 優(yōu)先權(quán)日2011年12月25日
發(fā)明者劉業(yè)軍, 劉常成, 劉曉麗, 孫剛, 王宏, 王秀 申請人:山東沃克控制閥有限公司