專利名稱：密封圈的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及一種用來(lái)對(duì)連接面進(jìn)行內(nèi)外密封的密封圈。
背景技術(shù)：
現(xiàn)有的氣體絕緣開(kāi)關(guān)柜等有氣密要求的裝置中，對(duì)于平面連接的安裝面，經(jīng)常采 用0型密封圈進(jìn)行密封。普通的0型密封圈在使用時(shí)，氣壓較高的一側(cè)氣體會(huì)在壓力作用下 克服密封圈的材料彈性從密封圈與密封面的接觸部分向低壓側(cè)滲漏，內(nèi)外的壓力差越大， 這種滲漏的趨勢(shì)就越強(qiáng)，從而影響了密封效果。
發(fā)明內(nèi)容本實(shí)用新型解決的技術(shù)問(wèn)題是在現(xiàn)有的0型密封圈結(jié)構(gòu)基礎(chǔ)上，提供一種密封 性效果理好的密封圈。本實(shí)用新型的技術(shù)方案是該密封圈具有截面呈0形的環(huán)狀的基體，在環(huán)狀基體 的前后端面上分別開(kāi)有環(huán)形的凹槽，所述凹槽的截面形狀為口部較窄而底部較寬的梯形。本實(shí)用新型的有益技術(shù)效果是由于在傳統(tǒng)的0型密封圈的前后端面設(shè)置了梯形 截面的凹槽，在使用過(guò)程中，兩個(gè)環(huán)形凹槽部分會(huì)分別壓緊在兩個(gè)接觸面上，形成環(huán)形的封 閉腔，當(dāng)密封圈高壓側(cè)的氣體向低壓側(cè)滲漏時(shí)會(huì)首先進(jìn)入該封閉腔并在該封閉腔內(nèi)產(chǎn)生較 大的壓力，該壓力作用于梯形截面兩腰的部位，使密封圈基體材料向外脹開(kāi)并更加緊密地 壓在接觸面上，內(nèi)部的壓力越大，密封圈基體材料壓緊接觸面的壓力也越大，從而保證了較 好的密封效果。

圖1是本實(shí)用新型的結(jié)構(gòu)示意圖。圖2是本實(shí)用新型使用狀態(tài)下的局部放大結(jié)構(gòu)示意圖。附圖中包括基體1、凹槽2、密封接觸面3、高壓側(cè)4、低壓側(cè)具體實(shí)施方式
如圖所示，該密封圈具有截面呈0形的環(huán)狀的基體1，在環(huán)狀基體的前后端面上分 別開(kāi)有環(huán)形的凹槽2，凹槽的截面形狀為口部較窄而底部較寬的梯形。使用過(guò)程中，密封圈的前后端面分別壓在兩個(gè)需要密封連接的密封接觸面3上， 凹槽2構(gòu)成封閉腔，當(dāng)高壓側(cè)4的氣體向低壓側(cè)5滲漏時(shí)，首先進(jìn)入凹槽2構(gòu)成封閉腔，隨 著封閉腔中氣體的增多，其中的壓強(qiáng)也在增大，由于它是梯形結(jié)構(gòu)，壓強(qiáng)產(chǎn)生的壓力作用在 梯形的兩條邊上，其產(chǎn)生的豎直方向的分力使密封圈基體材料與接觸面更緊密地貼合在一 起，提高了密封效果。
權(quán)利要求一種密封圈，具有截面呈O形的環(huán)狀的基體(1)，其特征是在環(huán)狀基體的前后端面上分別開(kāi)有環(huán)形的凹槽(2)，凹槽的截面形狀為口部較窄而底部較寬的梯形。
專利摘要本實(shí)用新型涉及一種用來(lái)對(duì)連接面進(jìn)行內(nèi)外密封的密封圈。該密封圈具有截面呈O形的環(huán)狀的基體，在環(huán)狀基體的前后端面上分別開(kāi)有環(huán)形的凹槽，所述凹槽的截面形狀為口部較窄而底部較寬的梯形。本實(shí)用新型在使用過(guò)程中，當(dāng)密封圈高壓側(cè)的氣體向低壓側(cè)滲漏時(shí)會(huì)使密封圈基體材料向外脹開(kāi)并更加緊密地壓在接觸面上，內(nèi)部的壓力越大，密封圈基體材料壓緊接觸面的壓力也越大，從而保證了較好的密封效果。
文檔編號(hào)F16J15/06GK201723710SQ20102018183
公開(kāi)日2011年1月26日 申請(qǐng)日期2010年5月7日 優(yōu)先權(quán)日2010年5月7日
發(fā)明者孫華美, 戴俊, 李衛(wèi)衛(wèi), 林永峰, 獨(dú)田娃, 裴軍, 馬永范 申請(qǐng)人:大全集團(tuán)有限公司