專利名稱：氣缸的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實用新型涉及化學(xué)氣相沉積裝置，特別涉及化學(xué)氣相沉積裝置上的氣缸。
背景技術(shù)：
目前，半導(dǎo)體薄膜材料外延生長的方法主要采用化學(xué)氣相沉積技術(shù)。沉 積是指一種材料以物理方式沉積在晶圓表面上的工藝過程，其工藝如下，含 有薄膜所需的原子或分子的化學(xué)物質(zhì)在反應(yīng)室內(nèi)混合并在氣態(tài)下發(fā)生反應(yīng)， 其原子或分子沉積在晶圓表面聚集，形成薄膜?；瘜W(xué)氣相沉積技術(shù)則具有沉 積溫度低、薄膜成分和厚度易控制、均勻性和重復(fù)性好、臺階覆蓋優(yōu)良、適 用范圍廣、技術(shù)成本低、設(shè)備簡單、可大批量生長等一系列優(yōu)點。因此，目
前絕大多數(shù)鍺Ge、硅Si材料的外延生長都釆用化學(xué)氣相沉積技術(shù)。
如，專利號為ZL01141203.8的中國專利公開了一種化學(xué)氣相沉積方法，包括 下列步驟，在與所述基體平行的方向上提供原料氣體；以與所述基體垂直的 方向上提供強制氣體；且從強制氣體引入部分向反應(yīng)器提供的強制氣體在強 制氣體引入部分的中部的單位面積的流速小于在其圓周部分的對應(yīng)流速，或 者，在原料氣體通道中部的流速小于在所述通道兩端部分的流速。
在對于晶圓進(jìn)行化學(xué)氣相沉積之前，晶圓 一般都由機械手臂從晶圓暫存 裝置或是上一個制程的設(shè)備中傳送過來待命。當(dāng)化學(xué)氣相沉積設(shè)備可用時，
通過機械手臂將晶圓傳送至化學(xué)氣相沉積設(shè)備中。由于氣缸通常是釆用油密 封結(jié)構(gòu)的，因此在氣缸放氣打開腔體門的過程中，油滴可能會隨著放出氣體
一同從氣缸的排氣孔中排出而濺落在晶圓上，對晶圓質(zhì)量產(chǎn)生損壞。
實用新型內(nèi)容
本實用新型即是為了解決現(xiàn)有技術(shù)氣缸放氣打開密封門的時候會使油滴 從排氣孔中排出濺落在晶圓上。
為解決上述問題，本實用新型提供了一種氣缸，包括氣缸上的排氣孔， 其中氣缸排氣孔上還罩了濾油裝置。所述濾油裝置可以是一有通孔的金屬外
框，并且有一濾油層覆蓋于金屬外框的通孔上或者是覆蓋于排氣孔表面的濾 油層。所述濾油層的大小大于或等于排氣孔的大小。所述濾油層可以是油氈 或無塵過濾紙。
與現(xiàn)有技術(shù)相比，本實用新型具有以下優(yōu)點本實用新型氣缸通過設(shè)置 于排氣孔上的濾油裝置阻止油滴，防止油滴隨放出氣體排出而濺落到晶圓上， 對晶圓質(zhì)量產(chǎn)生損壞。


圖l是本實用新型第一實施例氣缸示意圖； 圖2是本實用新型第一實施例氣缸上濾油裝置示意圖； 圖3是本實用新型第一實施例氣缸下濾油裝置示意圖； 圖4是本實用新型第二實施例氣缸示意圖。
具體實施方式

本實用新型氣缸的實質(zhì)是通過設(shè)置于排氣孔上的濾油裝置過濾油滴來防 止油滴隨放出氣體排出而濺落到晶圓上。
缸的結(jié)構(gòu)更加清楚。
實施例1，參照圖1所述，本實用新型氣缸包括氣缸上的上排氣孔和下排 氣孔，以及，
上濾油裝置，罩于氣缸的上排氣孔上，包括具有通孔的外框1和覆蓋外
框1通孔的濾油層2;
下濾油裝置，罩于氣缸的下排氣孔上，包括具有通孔的外框3和覆蓋外 框3通孔的濾油層4。
所述濾油層可以是油氈或無塵過濾紙。
其中上濾油裝置通過螺栓結(jié)構(gòu)固定于上排氣孔上，下濾油裝置通過螺栓 結(jié)構(gòu)固定于下排氣孔上。當(dāng)然，上濾油裝置和下濾油裝置也可以通過卡槽分 別固定在上排氣孔上和下排氣孔上。
上濾油裝置的大小與上排氣孔所處的氣缸部件的尺寸配合，大于或等于 該氣缸部件的尺寸，如圖2所示，上濾油裝置的詳細(xì)尺寸如下，上濾油裝置 外框1的長邊為250mm,短邊為53mm,濾油層2距離外框1的短邊的距離 為75mm，距離長邊的距離為無特殊要求，濾油層2的長邊為100mm,短邊 為30mm。當(dāng)然，濾油層的大小并不僅限于所述的尺寸，濾油層也并不僅限于 一個，也可以在濾油裝置的外框上設(shè)置與所述氣缸的每一個排氣孔位置和大 小對應(yīng)的濾油層，所述濾油層2的大小大于或等于排氣孔的大小。
下濾油裝置的大小與下排氣孔所處的氣缸部件的尺寸配合，大于或等于 該氣缸部件的尺寸，如圖3所示，下濾油裝置的詳細(xì)尺寸如下，下濾油裝置 外框3的長邊為173mm,短邊為75mm,濾油層4距離外框3的短邊的距離 為36mm,距離長邊的距離為22.5mm。濾油層4的長邊為100mm,短邊為 30mm。當(dāng)然，濾油層的大小并不僅限于所述的尺寸，濾油層也并不僅限于一 個，也可以在濾油裝置的外框上設(shè)置與所述氣缸的每一個排氣孔位置和大小 對應(yīng)的濾油層，所述濾油層4的大小大于或等于排氣孔的大小。
當(dāng)氣缸排氣打開化學(xué)氣相沉積設(shè)備的腔體門時，氣體會通過濾油層排出，
而隨氣體排出的油滴則會被濾油層阻擋，從而使得排氣孔排出的僅僅是氣體， 避免了油滴濺落到晶圓上。
實施例2，參照圖4所述，本實用新型氣缸包括氣缸上的上排氣孔和下排 氣孑U以及，
上濾油裝置，罩于氣缸的上排氣孔上，包括濾油層10; 下濾油裝置，罩于氣缸的下排氣孔上，包括濾油層20; 所述濾油層可以是油氈或無塵過濾紙。
其中上濾油裝置通過粘合劑貼于上排氣孔上，下濾油裝置通過粘合劑貼 于下排氣孔上。并且，上濾油裝置的濾油層IO與上排氣孔的大小相同或稍大 于上排氣孔，下濾油裝置的濾油層20的大小與下排氣孔的大小相同或稍大于 下排氣孔。
當(dāng)氣缸排氣打開化學(xué)氣相沉積設(shè)備的腔體門時，氣體會通過濾油層排出， 而隨氣體排出的油滴則會被濾油層阻擋，從而使得排氣孔排出的僅僅是氣體， 避免了油滴濺落到晶圓上。
綜上所述，本實用新型氣缸通過罩于排氣孔上的濾油裝置阻止油滴，防 止油滴隨放出氣體排出而濺落到晶圓上，對晶圓質(zhì)量產(chǎn)生損壞。
權(quán)利要求1.一種氣缸，包括氣缸上的排氣孔，其特征在于，在所述氣缸的排氣孔上罩有釋放排氣孔所排出氣體且阻擋油滴排出的濾油裝置。
2. 如權(quán)利要求l所述的氣缸，其特征在于，所述濾油裝置包括具有通孔的外 框和覆蓋外框通孔的濾油層。
3. 如權(quán)利要求2所述的氣缸，其特征在于，所述濾油層的大小大于或等于與 排氣孔的大小。
4. 如權(quán)利要求3所述的氣缸，其特征在于，所述外框通過螺栓固定于氣缸上。
5. 如權(quán)利要求l所述的氣缸，其特征在于，所述濾油裝置為濾油層，且濾油 層的大小大于或等于排氣孔的大小。
6. 如權(quán)利要求5所述的氣缸，其特征在于，所述濾油層貼附于排氣孔上。
7. 如權(quán)利要求2至6任一項所述的氣缸，其特征在于，所述濾油層為油氈或 無塵過濾紙。
專利摘要本實用新型公開了一種氣缸，包括氣缸上的排氣孔，在所述氣缸的排氣孔上罩有釋放排氣孔所排出氣體且阻擋油滴排出的濾油裝置。所述濾油裝置可以是具有通孔的金屬外框，并且有一濾油層覆蓋金屬外框通孔，所述濾油裝置還可以是覆蓋于排氣孔表面的濾油層。所述濾油層的大小大于或等于排氣孔的大小。所述濾油層可以是油氈或無塵過濾紙。本實用新型氣缸通過罩于排氣孔上的濾油裝置，防止油滴隨放出氣體排出而濺落到晶圓上，對晶圓質(zhì)量產(chǎn)生損壞。
文檔編號F16J10/00GK201057265SQ20072007124
公開日2008年5月7日 申請日期2007年6月18日 優(yōu)先權(quán)日2007年6月18日
發(fā)明者丁備林, 龐明磊, 亮 成, 鵬 桂 申請人:中芯國際集成電路制造(上海)有限公司