專利名稱：一種散熱風(fēng)扇及其底座的金屬蝕刻方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種散熱風(fēng)扇及其底座加工方法，特別是一種散熱風(fēng)扇及其底座的金屬蝕刻方法。
背景技術(shù)：
目前散熱風(fēng)扇有很多使用金屬底座。多采用沖壓件。礙于本身特性，沖壓件無法 成型出出線溝槽10，參見圖I。現(xiàn)有技術(shù)采用的エ藝是采用數(shù)控機(jī)床(CNC)機(jī)械加工的方式來銑出此道溝槽。但CNC機(jī)械加工如果用于硬度比較高的金屬(不銹鋼系列)，會(huì)有毛刺和應(yīng)カ變形。毛刺會(huì)有刺傷出線的隱患，所以數(shù)控機(jī)床(CNC)機(jī)械加工后還要增加去毛刺和打磨兩個(gè)步驟，會(huì)進(jìn)一步加劇應(yīng)カ變形。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明所要解決的技術(shù)問題是提供一種散熱風(fēng)扇及其金屬底座蝕刻方法，以克服現(xiàn)有技術(shù)的上述缺陷。為了實(shí)現(xiàn)上述目的，本發(fā)明提供了ー種金屬蝕刻方法，用于散熱風(fēng)扇的金屬底座上的出線溝槽的加工，其中，包括涂裝保護(hù)膜步驟，在金屬底座全部表面電泳涂裝一層保護(hù)膜；激光雕刻出線溝槽步驟，采用激光去除待蝕刻的所述出線溝槽位置的該保護(hù)膜；蝕刻出線溝槽步驟，將去除待蝕刻的所述出線溝槽位置的保護(hù)膜后的該金屬底座放入蝕刻機(jī)中進(jìn)行蝕刻；脫除保護(hù)膜步驟，蝕刻完成后，將該金屬底座自蝕刻機(jī)中取出并放置在酸性溶液里去除該保護(hù)膜。上述的金屬蝕刻方法，其中，所述保護(hù)膜為電泳漆膜。上述的金屬蝕刻方法，其中，在蝕刻出線溝槽步驟之前，還包括補(bǔ)點(diǎn)步驟，把所述金屬底座表面的露白用漆補(bǔ)上，以保護(hù)其內(nèi)部。上述的金屬蝕刻方法，其中，所述蝕刻出線溝槽步驟中，所述蝕刻機(jī)的蝕刻溫度為400C _75°C，蝕刻壓カ為20-40，蝕刻溶液為FeCl3溶液，F(xiàn)eCl3的濃度為40-55。上述的金屬蝕刻方法，其中，在脫除保護(hù)膜步驟之后，還包括沖洗晾干步驟，將脫除保護(hù)膜的金屬底座用清水沖洗后晾干。上述的金屬蝕刻方法，其中，在脫除保護(hù)膜步驟之后，還包括沖洗晾干步驟，將脫除保護(hù)膜的金屬底座用清水沖洗后晾干。上述的金屬蝕刻方法，其中，所述涂裝保護(hù)膜步驟包括去油潰、磷化、水洗、電泳、水洗及烘干步驟。上述的金屬蝕刻方法，其中，所述涂裝保護(hù)膜步驟包括去油潰、磷化、水洗、電泳、水洗及烘干步驟。為了更好地實(shí)現(xiàn)上述目的，本發(fā)明還提供了ー種散熱風(fēng)扇，包括風(fēng)扇轉(zhuǎn)子、風(fēng)扇外殼、風(fēng)扇底座和風(fēng)扇電子組件，所述風(fēng)扇外殼安裝在所述風(fēng)扇底座上，所述風(fēng)扇轉(zhuǎn)子設(shè)置在所述風(fēng)扇外殼和所述風(fēng)扇底座圍合的容置空間內(nèi)，所述風(fēng)扇轉(zhuǎn)子與所述風(fēng)扇電子組件連接，所述風(fēng)扇底座為金屬底座，所述金屬底座上設(shè)置有用于連接所述風(fēng)扇電子組件的出線溝槽，其中，所述金屬底座為上述的金屬蝕刻方法加工的金屬底座。本發(fā)明的技術(shù)效果在于本發(fā)明采用化學(xué)蝕刻(Etchiing)的エ藝加工出線溝槽，利用3價(jià)鐵(Fe3+)的高活性腐蝕氧化金屬元素，在金屬表面蝕刻出紋路以及溝槽；化學(xué)蝕刻加工出的溝槽不會(huì)有毛刺，外觀美觀；無受カ應(yīng)變，可以改善金屬底座的平面度；化學(xué)蝕刻加工溝槽深度可控，并且均勻；化學(xué)蝕刻產(chǎn)能穩(wěn)定，可以達(dá)到40KPCS/20H。以下結(jié)合附圖和具體實(shí)施例對(duì)本發(fā)明進(jìn)行詳細(xì)描述，但不作為對(duì)本發(fā)明的限定。


圖I為現(xiàn)有技術(shù)加工的出線溝槽示意圖；圖2為本發(fā)明的散熱風(fēng)扇結(jié)構(gòu)示意圖；圖3為圖2的后視圖；圖4為本發(fā)明的金屬蝕刻方法流程圖。其中，附圖標(biāo)記現(xiàn)有技術(shù)10出線溝槽本發(fā)明I風(fēng)扇轉(zhuǎn)子2風(fēng)扇外殼3風(fēng)扇底座31出線溝槽4風(fēng)扇電子組件SI S4 步驟
具體實(shí)施例方式下面結(jié)合附圖對(duì)本發(fā)明的結(jié)構(gòu)原理和工作原理作具體的描述參見圖2及圖3，圖2為本發(fā)明的散熱風(fēng)扇結(jié)構(gòu)示意圖，圖3為圖2的后視圖。本發(fā)明的散熱風(fēng)扇，包括風(fēng)扇轉(zhuǎn)子I、風(fēng)扇外殼2、風(fēng)扇底座3和風(fēng)扇電子組件4，所述風(fēng)扇外殼2安裝在所述風(fēng)扇底座3上，所述風(fēng)扇轉(zhuǎn)子I設(shè)置在所述風(fēng)扇外殼2和所述風(fēng)扇底座3圍合的容置空間內(nèi)，所述風(fēng)扇轉(zhuǎn)子I與所述風(fēng)扇電子組件4連接，所述風(fēng)扇底座3為金屬底座，所述金屬底座上設(shè)置有用于連接所述風(fēng)扇電子組件4的出線溝槽31，所述金屬底座為下述的金屬蝕刻方法加工而成。因該散熱風(fēng)扇的其他部分的結(jié)構(gòu)與功能均為較成熟的現(xiàn)有技術(shù)，下面僅對(duì)該金屬底座的加工方法予以詳細(xì)說明。參見圖4，圖4為本發(fā)明的金屬蝕刻方法流程圖。本發(fā)明的金屬蝕刻方法，用于散熱風(fēng)扇的金屬底座上的出線溝槽31的加工，包括涂裝保護(hù)膜步驟SI，在金屬底座全部表面電泳涂裝(ED) —層保護(hù)膜，所述保護(hù)膜優(yōu)選為電泳漆膜；電泳涂裝(ED)是指利用外加電場使懸浮于電泳液中的環(huán)氧樹脂微粒定向沉積在帶電金屬表面，電泳漆模具有涂層豐滿、均勻、平整、光滑的優(yōu)點(diǎn)。所述涂裝保護(hù)膜步驟可包括去油潰、磷化、水洗、電泳、水洗及烘干步驟。激光雕刻出線溝槽步驟S2，采用激光去除待蝕刻的所述出線溝槽31位置的該保護(hù)膜；蝕刻出線溝槽步驟S3，將去除待蝕刻的所述出線溝槽31位置的保護(hù)膜后的該金屬底座放入蝕刻機(jī)中進(jìn)行蝕刻；所述蝕刻出線溝槽31步驟中，所述蝕刻機(jī)的蝕刻溫度優(yōu)選為40°C -75°C，蝕刻壓力優(yōu)選為20-40PSI (磅每平方英寸，IPSI = 6. 895Kpa)，蝕刻溶液為FeCl3溶液，F(xiàn)eCl3的濃度優(yōu)選為40_55g/L (重量濃度)，利用3價(jià)鐵的高活性腐蝕氧化金屬底座需要加工的部位。脫除保護(hù)膜步驟S4，蝕刻完成后，將該金屬底座自蝕刻機(jī)中取出，掛在脫模支架 上，并放置在體積比為10 25%的硫酸或鹽酸溶液里去除該保護(hù)膜。其中，在蝕刻出線溝槽31步驟之前，還可包括補(bǔ)點(diǎn)步驟，把所述金屬底座表面的露白(如掛點(diǎn))用漆補(bǔ)上，以保護(hù)其內(nèi)部。電泳過程中去油潰エ藝或磷化工藝的缺陷，造成金屬底座表面局部涂裝不良，形成露白，故可采用油性漆筆補(bǔ)漆。本實(shí)施例中，在脫除保護(hù)膜步驟之后，還可包括沖洗晾干步驟，將脫除保護(hù)膜的金屬底座用清水沖洗后晾干。當(dāng)然，本發(fā)明還可有其它多種實(shí)施例，在不背離本發(fā)明精神及其實(shí)質(zhì)的情況下，熟悉本領(lǐng)域的技術(shù)人員當(dāng)可根據(jù)本發(fā)明作出各種相應(yīng)的改變和變形，但這些相應(yīng)的改變和變形都應(yīng)屬于本發(fā)明所附的權(quán)利要求的保護(hù)范圍。
權(quán)利要求
1.ー種金屬蝕刻方法，用于散熱風(fēng)扇的金屬底座上的出線溝槽的加工，其特征在于，包括 涂裝保護(hù)膜步驟，在金屬底座全部表面電泳涂裝一層保護(hù)膜； 激光雕刻出線溝槽步驟，采用激光去除待蝕刻的所述出線溝槽位置的該保護(hù)膜； 蝕刻出線溝槽步驟，將去除待蝕刻的所述出線溝槽位置的保護(hù)膜后的該金屬底座放入蝕刻機(jī)中進(jìn)行蝕刻； 脫除保護(hù)膜步驟，蝕刻完成后，將該金屬底座自蝕刻機(jī)中取出并放置在酸性溶液里去除該保護(hù)膜。
2.如權(quán)利要求I所述的金屬蝕刻方法，其特征在于，所述保護(hù)膜為電泳漆膜。
3.如權(quán)利要求I所述的金屬蝕刻方法，其特征在于，在蝕刻出線溝槽步驟之前，還包括 補(bǔ)點(diǎn)步驟，把所述金屬底座表面的露白用漆補(bǔ)上，以保護(hù)其內(nèi)部。
4.如權(quán)利要求1、2或3所述的金屬蝕刻方法，其特征在于，所述蝕刻出線溝槽步驟中，所述蝕刻機(jī)的蝕刻溫度為40°C _75°C，蝕刻壓カ為20-40PSI，蝕刻溶液為FeCl3溶液，F(xiàn)eCl3的濃度為40-55g/L。
5.如權(quán)利要求1、2或3所述的金屬蝕刻方法，其特征在于，在脫除保護(hù)膜步驟之后，還包括 沖洗晾干步驟，將脫除保護(hù)膜的金屬底座用清水沖洗后晾干。
6.如權(quán)利要求4所述的金屬蝕刻方法，其特征在于，在脫除保護(hù)膜步驟之后，還包括 沖洗晾干步驟，將脫除保護(hù)膜的金屬底座用清水沖洗后晾干。
7.如權(quán)利要求1、2、3或6所述的金屬蝕刻方法，其特征在于，所述涂裝保護(hù)膜步驟包括去油潰、磷化、水洗、電泳、水洗及烘干步驟。
8.如權(quán)利要求5所述的金屬蝕刻方法，其特征在于，所述涂裝保護(hù)膜步驟包括去油潰、磷化、水洗、電泳、水洗及烘干步驟。
9.ー種散熱風(fēng)扇，包括風(fēng)扇轉(zhuǎn)子、風(fēng)扇外殼、風(fēng)扇底座和風(fēng)扇電子組件，所述風(fēng)扇外殼安裝在所述風(fēng)扇底座上，所述風(fēng)扇轉(zhuǎn)子設(shè)置在所述風(fēng)扇外殼和所述風(fēng)扇底座圍合的容置空間內(nèi)，所述風(fēng)扇轉(zhuǎn)子與所述風(fēng)扇電子組件連接，所述風(fēng)扇底座為金屬底座，所述金屬底座上設(shè)置有用于連接所述風(fēng)扇電子組件的出線溝槽，其特征在于，所述金屬底座為上述的權(quán)利要求1、2、3、6或8所述的金屬蝕刻方法加工的金屬底座。
10.ー種散熱風(fēng)扇，包括風(fēng)扇轉(zhuǎn)子、風(fēng)扇外殼、風(fēng)扇底座和風(fēng)扇電子組件，所述風(fēng)扇外殼安裝在所述風(fēng)扇底座上，所述風(fēng)扇轉(zhuǎn)子設(shè)置在所述風(fēng)扇外殼和所述風(fēng)扇底座圍合的容置空間內(nèi)，所述風(fēng)扇轉(zhuǎn)子與所述風(fēng)扇電子組件連接，所述風(fēng)扇底座為金屬底座，所述金屬底座上設(shè)置有用于連接所述風(fēng)扇電子組件的出線溝槽，其特征在于，所述金屬底座為上述的權(quán)利要求4所述的金屬蝕刻方法加工的金屬底座。
全文摘要
一種散熱風(fēng)扇及其底座的金屬蝕刻方法，該金屬蝕刻方法，用于散熱風(fēng)扇的金屬底座上的出線溝槽的加工，包括涂裝保護(hù)膜步驟、激光雕刻出線溝槽步驟、蝕刻出線溝槽步驟和脫除保護(hù)膜步驟。該散熱風(fēng)扇，包括風(fēng)扇轉(zhuǎn)子、風(fēng)扇外殼、風(fēng)扇底座和風(fēng)扇電子組件，所述風(fēng)扇外殼安裝在所述風(fēng)扇底座上，所述風(fēng)扇轉(zhuǎn)子設(shè)置在所述風(fēng)扇外殼和所述風(fēng)扇底座圍合的容置空間內(nèi)，所述風(fēng)扇轉(zhuǎn)子與所述風(fēng)扇電子組件連接，所述風(fēng)扇底座為金屬底座，所述金屬底座上設(shè)置有用于連接所述風(fēng)扇電子組件的出線溝槽，所述金屬底座為上述的金屬蝕刻方法加工的金屬底座。
文檔編號(hào)F04D25/08GK102678604SQ20121011679
公開日2012年9月19日 申請(qǐng)日期2012年4月19日 優(yōu)先權(quán)日2012年4月19日
發(fā)明者張志 , 詹智偉 申請(qǐng)人:中達(dá)電子零組件(吳江)有限公司, 臺(tái)達(dá)電子企業(yè)管理(上海)有限公司, 臺(tái)達(dá)電子工業(yè)股份有限公司