專利名稱：渦旋式流體設備的制作方法
技術領域：
本發(fā)明涉及一種渦旋式流體設備，特別地涉及夾裝在動渦盤的底板與殼體之間的推力軸承部的改進。
背景技術：
在渦旋式壓縮機及渦旋式膨脹器等渦旋式流體設備中，通常很多情況下在以阻止了自轉(zhuǎn)的狀態(tài)而相對于定渦盤公轉(zhuǎn)的動渦盤的底板與殼體之間設置有用于承受由定渦盤和動渦盤形成的流體槽內(nèi)的壓力的軸向反力(在壓縮機的情況下為壓縮反力)的推力軸承構(gòu)件，該推力軸承構(gòu)件構(gòu)成為例如由環(huán)狀的板狀構(gòu)件形成的推力板。對于這種推力板及動渦盤的底板部，要求具有優(yōu)異的耐燒結(jié)性、能防止兩個構(gòu)件間的粘著等較高的臨界PV值和較低的摩擦系數(shù)。對于上述要求，在專利文獻I中公開了如下結(jié)構(gòu)在動渦盤構(gòu)件與前殼之間使用承受推力載荷的鋼鐵制的推力軸承，為了提高耐磨性、耐燒結(jié)性，對動渦盤側(cè)的底板表面進行鍍錫處理。此外，在專利文獻2中公開了如下結(jié)構(gòu)在動渦盤的端板的外側(cè)和/或與該動渦盤的端板滑動的推力軸承的滑動面上形成固體潤滑劑的涂層覆膜?，F(xiàn)有技術文獻專利文獻專利文獻1:日本專利特開平8 - 247052號公報專利文獻2 :日本專利特開平8 - 061256號公報

發(fā)明內(nèi)容
發(fā)明所要解決的技術問題但是，在上述專利文獻I所公開的結(jié)構(gòu)中，由于對具有復雜形狀的動渦盤的特定部分進行鍍錫，因此，存在因需要掩?；蚴悄苓M入鍍膜處理槽的數(shù)量較少而使生產(chǎn)率變差、成本也提高這樣的問題。此外，在上述專利文獻2公開的結(jié)構(gòu)中，由于形成的固體潤滑劑涂層覆膜的成本高且涂層覆膜的密接性低，因此，存在無法得到足夠高的耐燒結(jié)載荷這樣的問題。為了提高密接性，也有對推力板基材與涂層覆膜之間進行化學處理(例如化成處理等)或物理處理(例如噴砂等)的方法。無論哪種均會使成本升高。因此，本發(fā)明的技術問題在于提供一種在動渦盤的底板與殼體之間的推力軸承部，能以低成本、良好的生產(chǎn)率實現(xiàn)優(yōu)異的耐燒結(jié)性、較高的臨界PV值和較低的摩擦系數(shù)的渦旋式流體設備的結(jié)構(gòu)。解決技術問題所采用的技術方案為解決上述技術問題，本發(fā)明的渦旋式流體設備在殼體上設有定渦盤和以阻止了自轉(zhuǎn)的狀態(tài)相對于上述定渦盤公轉(zhuǎn)的動渦盤，在定渦盤與動渦盤之間形成容積能變化的流體槽，并且在動渦盤的底板與殼體之間設有承受在上述流體槽內(nèi)施加的壓力的軸向反力的推力板，其特征是，在上述推力板的至少朝向上述動渦盤的底板的相對面上鍍有鍍錫。在此，鍍錫的概念當然包括鍍覆錫單體，還包括鍍覆錫合金。在如上所述本發(fā)明的渦旋式流體設備中，由于在平板圓環(huán)狀的非常簡單的形狀的推力板上鍍有鍍錫，因此，不需要鍍覆時的掩模，或是即便在進行掩模的情況下，也能采用非常簡單的結(jié)構(gòu)，因而能以低成本進行規(guī)定的鍍覆。此外，由于推力板與動渦盤相比是結(jié)構(gòu)簡單且小型的部件，因此，能更大量地進入鍍覆處理槽，操作性、生產(chǎn)率較好，從這個方面來說，也能以低成本進行規(guī)定的鍍覆。另外，與固體潤滑劑涂層覆膜相比，也能以低成本實現(xiàn)密接性高的鍍層。此外，由于在推力板上鍍有鍍錫，因此能確保與相對的動渦盤的底板面之間的良好的滑動性，且能提高滑動面的磨合性，能防止產(chǎn)生渦盤與推力板的粘著等不良情況。其結(jié)果是，能大幅提高這部分的耐燒結(jié)性，并能得到較高的臨界PV值和較低的摩擦系數(shù)，能使耐久性大幅提聞。此外，在本發(fā)明中，作為上述推力板的母材，例如能使用鐵類鋼板或鑄件或是輕金屬。作為輕金屬，例如，能使用鋁、鋁合金、鎂合金、鈦合金等。使用鐵類鋼板或鑄件，能實現(xiàn)低成本化、生產(chǎn)率提高，使用輕金屬，能有利于流體設備的輕量化。此外，也可以在上述推力板上設置上述鍍錫類的基底層。通過設置基底層，能實現(xiàn)鍍錫類層的密接性的進一步提高。作為鍍覆的基底層，例如，能使用鍍鎳層或鍍銅層。此外，在上述推力板中的鍍錫類的基底層(鍍覆前的表面)中，存在優(yōu)選的表面形態(tài)。S卩，較為理想的是，以在涉及表面粗糙度的JISB0601 (對應國際標準IS04287)中規(guī)定的參數(shù)來計量，使在數(shù)學式I中定義的偏斜度Rsk為一 0. 05以下，且使在數(shù)學式2中定義的峰度Rku為+ 2. 5以上。更為理想的是，使偏斜度Rsk為一 0.1以下，并使峰度Rku為+3. 0以上。通過滿足這種偏斜度Rsk及峰度Rku的范圍，就能同時實現(xiàn)所希望的較高的臨界PV值和較低的摩擦系數(shù)。下面對偏斜度Rsk和峰度Rku的理想范圍進行更詳細的說明。作為用于滿足這種特定的表面形態(tài)的范圍的表面加工處理方法，例如能采用以下的方法。利用車床等對推力板的基材進行切削加工，然后進行精磨削加工，來得到規(guī)定的表面粗糙度形狀。在實際的處理中，為了得到表面粗糙度形狀，較為理想的是，在磨削加工后，再通過滾磨法來進行滾磨精加工。通過上述滾磨精加工，能容易地形成規(guī)定的表面粗糙度的表面。(數(shù)學式I)
權(quán)利要求
1.一種渦旋式流體設備，在殼體上設置有定渦盤和以阻止了自轉(zhuǎn)的狀態(tài)相對于所述定渦盤公轉(zhuǎn)的動渦盤，在定渦盤與動渦盤之間形成有容積能變化的流體槽，并且在動渦盤的底板與殼體之間設置有承受在所述流體槽內(nèi)施加的壓力的軸向反力的推力板，其特征在于， 在所述推力板的至少朝向所述動渦盤的底板的相對面上鍍有鍍錫類。
2.如權(quán)利要求1所述的渦旋式流體設備，其特征在于，所述推力板由鐵類鋼板或鑄件或輕金屬構(gòu)成。
3.如權(quán)利要求1或2所述的渦旋式流體設備，其特征在于，在所述推力板上設置有所述鍍錫類的基底層。
4.如權(quán)利要求3所述的渦旋式流體設備，其特征在于，所述基底層由鍍鎳層或鍍銅層構(gòu)成。
5.如權(quán)利要求1至4中任一項所述的渦旋式流體設備，其特征在于，所述推力板中的鍍錫類的基底面以在涉及表面粗糙度的JISB0601 (對應國際標準IS04287)中規(guī)定的參數(shù)來計量，使在數(shù)學式I中定義的偏斜度Rsk為一 0. 05以下，且使在數(shù)學式2中定義的峰度Rku為+ 2. 5以上。
(數(shù)學式I)
6.如權(quán)利要求1至5中任一項所述的渦旋式流體設備，其特征在于，所述鍍錫類的厚度為I 15 u m。
7.如權(quán)利要求1至6中任一項所述的渦旋式流體設備，其特征在于，在所述推力板的整個面上鍍有所述鍍錫類。
8.如權(quán)利要求1至7中任一項所述的渦旋式流體設備，其特征在于，所述推力板具有在周向上分割的結(jié)構(gòu)。
全文摘要
一種渦旋式流體設備，在殼體上設置有定渦盤和動渦盤，在定渦盤與動渦盤之間形成有容積能變化的流體槽，并且在動渦盤的底板與殼體之間設置有承受在流體槽內(nèi)施加的壓力的軸向反力的推力板，其特征是，在推力板的至少朝向動渦盤的底板的相對面上鍍有鍍錫類。在動渦盤的底板與殼體之間的推力軸承部，能以低成本及良好的生產(chǎn)率實現(xiàn)優(yōu)異的耐燒結(jié)性、較高的臨界PV值和較低的摩擦系數(shù)。
文檔編號F04C18/02GK103052803SQ201180037778
公開日2013年4月17日 申請日期2011年6月30日 優(yōu)先權(quán)日2010年8月2日
發(fā)明者平渡末二, 井尻誠, 工藤孝行 申請人:三電有限公司