射孔管柱雙向減振裝置的制造方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實用新型涉及一種減振裝置，特別是關(guān)于一種應(yīng)用于石油、天然氣鉆完井作業(yè)中的射孔管柱雙向減振裝置。
【背景技術(shù)】
[0002]在射孔作業(yè)過程中，射孔瞬間所形成的振動載荷會引起射孔管柱短時間內(nèi)承受極大的向上或向下振動載荷，嚴(yán)重時甚至導(dǎo)致射孔管柱彎曲或斷裂，嚴(yán)重影響了射孔管柱的安全性，且射孔管柱大多連接有測試設(shè)備，過大的振動載荷會引起測量結(jié)果不準(zhǔn)確，甚至損壞測試設(shè)備。
[0003]現(xiàn)有的減振裝置均為鉆井作業(yè)用減振裝置，只能對管柱進(jìn)行單向減振，而在射孔過程中，振動方向存在向上振動和向下振動的可能性，不能滿足射孔減振的需求?，F(xiàn)有技術(shù)中的雙制式縱向減振器能夠?qū)ο蛏系恼駝舆M(jìn)行減振，并使減振軸緩慢下降，但并不能對射孔瞬間所產(chǎn)生向下的振動減振。
[0004]目前用于油氣井鉆采過程的減振裝置主要減振部件為彈簧和液壓阻尼，當(dāng)沖擊載荷較大時，彈簧減振易出現(xiàn)彈性變?nèi)?、變形和斷裂等問題。而液壓阻尼減振易泄漏、易堵塞且阻尼力大小受溫度影響較大，使得減振裝置壽命短、減振可靠性低。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0005]針對上述問題，本實用新型的目的是提供一種射孔管柱雙向減振裝置，該裝置能有效降低射孔過程產(chǎn)生的振動載荷對射孔管柱的影響，減振性能可靠、使用壽命長，能夠在射孔作業(yè)過程中對射孔管柱縱向雙向的振動進(jìn)行減振。
[0006]為實現(xiàn)上述目的，本實用新型采取以下技術(shù)方案:一種射孔管柱雙向減振裝置，其特征在于:它包括殼體、上接頭、減振軸、下接頭、彈簧座、絕緣支架、磁體、彈簧和螺線管；
[0007]所述殼體上端設(shè)置有所述上接頭，所述殼體內(nèi)設(shè)置有所述減振軸，且所述減振軸一端從所述殼體下端伸出并與所述下接頭連接；位于所述殼體內(nèi)，從上至下在所述減振軸上依次設(shè)置有所述彈簧座、絕緣支架和磁體，所述磁體固設(shè)在所述殼體底部；在所述減振軸上，位于所述上接頭與所述彈簧座之間的設(shè)置有所述彈簧；在所述絕緣支架上設(shè)置有所述螺線管。
[0008]所述彈簧座與所述殼體內(nèi)壁面之間設(shè)置有上密封圈，所述殼體下端部內(nèi)壁面與所述減振軸之間設(shè)置有下密封圈，所述上密封圈與所述下密封圈之間形成一密閉空間。
[0009]位于所述絕緣支架上方，在所述減振軸上設(shè)置上接線口 ；位于所述絕緣支架下方，在所述減振軸上設(shè)置有下接線口。
[0010]所述螺線管由線圈和金屬芯構(gòu)成。
[0011]所述磁體采用永磁體或電磁鐵。
[0012]本實用新型由于采取以上技術(shù)方案，其具有以下優(yōu)點:1、本實用新型采用在減振軸上設(shè)置有螺線管和磁體，通過螺線管與磁體之間的相互引力和斥力實現(xiàn)了雙向減振作用，可實現(xiàn)對向上和向下兩個方向減振。2、本實用新型采用的主要減振元件螺線管和磁體磨損小，不會隨著使用時間的增加而降低減振效果，減振穩(wěn)定性好。3、本實用新型通過改變螺線管的電流大小或磁體的磁力可方便地改變減振阻尼力的大小，進(jìn)一步提高減振效果。4、本實用新型采用的螺線管通過絕緣支架設(shè)置在減振軸上，磁體設(shè)置在殼體底部，形成防掉結(jié)構(gòu)，其防掉效果較好，一旦發(fā)生殼體斷裂的事故，可利用磁體之間的相互引力進(jìn)行打撈，降低打撈作業(yè)難度。5、本實用新型可以有效降低射孔過程在縱向壓縮振動和拉伸振動對射孔管柱的影響，進(jìn)而提高射孔管柱的使用安全性。本實用新型可以廣泛在石油、天然氣鉆完井作業(yè)中應(yīng)用。
【附圖說明】
[0013]圖1是本實用新型的整體結(jié)構(gòu)示意圖。
【具體實施方式】
[0014]下面結(jié)合附圖和實施例對本實用新型進(jìn)行詳細(xì)的描述。
[0015]如圖1所示，本實用新型提供一種射孔管柱雙向減振裝置，其包括殼體1、上接頭2、減振軸3、下接頭4、彈簧座5、絕緣支架6、磁體7、彈簧8、螺線管9、上密封圈10和下密封圈11。
[0016]殼體I上端設(shè)置有上接頭2，殼體I內(nèi)設(shè)置有減振軸3，且減振軸3 —端從殼體I下端伸出并與下接頭4連接。位于殼體I內(nèi)，從上至下在減振軸3上依次設(shè)置有彈簧座5、絕緣支架6和磁體7，磁體7固設(shè)在殼體I底部。在減振軸3上，位于上接頭2與彈簧座5之間的設(shè)置有彈簧8 ;在絕緣支架6上設(shè)置有螺線管9。其中，在彈簧座5與殼體I內(nèi)壁面之間設(shè)置有上密封圈10，在殼體I下端部內(nèi)壁面與減振軸3之間設(shè)置有下密封圈11，上密封圈10與下密封圈11之間形成一密閉空間，絕緣支架6、螺線管9和磁體7位于密閉空間內(nèi)。
[0017]上述實施例中，位于絕緣支架6上方，在減振軸3上設(shè)置上接線口 12 ;位于絕緣支架6下方，在減振軸3上設(shè)置有下接線口 13。電纜通過上接線口 12和下接線口 13連接螺線管9，為螺線管9供電。
[0018]上述各實施例中，螺線管9由線圈和金屬芯構(gòu)成，通過絕緣支架6與減振軸3隔離。
[0019]上述各實施例中，磁體7可以采用永磁體或電磁鐵，當(dāng)磁體7為電磁鐵時，其線圈繞向應(yīng)與螺線管9的線圈繞向相反。
[0020]綜上所述，本實用新型的工作原理為:將上接頭2連接射孔管柱，下接頭4連接射孔槍。當(dāng)射孔過程產(chǎn)生向上振動的載荷時，下接頭4帶動減振軸7、螺線管9和彈簧座5向上運動，此時螺線管9遠(yuǎn)離磁體7，磁體7對螺線管9產(chǎn)生引力，且彈簧8受壓對彈簧座5產(chǎn)生向下的作用力，磁體7的引力和彈簧8的彈力共同作用在減振軸7上實現(xiàn)減振效果。當(dāng)射孔過程中產(chǎn)生向下振動的載荷時，下接頭4帶動減振軸7和螺線管9向下運動，此時磁體7對螺線管9產(chǎn)生斥力，進(jìn)而實現(xiàn)減振效果。
[0021]上述各實施例僅用于說明本實用新型，各部件的結(jié)構(gòu)、尺寸、設(shè)置位置及形狀都是可以有所變化的，在本實用新型技術(shù)方案的基礎(chǔ)上，凡根據(jù)本實用新型原理對個別部件進(jìn)行的改進(jìn)和等同變換，均不應(yīng)排除在本實用新型的保護(hù)范圍之外。
【主權(quán)項】
1.一種射孔管柱雙向減振裝置，其特征在于:它包括殼體、上接頭、減振軸、下接頭、彈簧座、絕緣支架、磁體、彈簧和螺線管； 所述殼體上端設(shè)置有所述上接頭，所述殼體內(nèi)設(shè)置有所述減振軸，且所述減振軸一端從所述殼體下端伸出并與所述下接頭連接；位于所述殼體內(nèi)，從上至下在所述減振軸上依次設(shè)置有所述彈簧座、絕緣支架和磁體，所述磁體固設(shè)在所述殼體底部；在所述減振軸上，位于所述上接頭與所述彈簧座之間的設(shè)置有所述彈簧；在所述絕緣支架上設(shè)置有所述螺線管。
2.如權(quán)利要求1所述的射孔管柱雙向減振裝置，其特征在于:所述彈簧座與所述殼體內(nèi)壁面之間設(shè)置有上密封圈，所述殼體下端部內(nèi)壁面與所述減振軸之間設(shè)置有下密封圈，所述上密封圈與所述下密封圈之間形成一密閉空間。
3.如權(quán)利要求1所述的射孔管柱雙向減振裝置，其特征在于:位于所述絕緣支架上方，在所述減振軸上設(shè)置上接線口 ；位于所述絕緣支架下方，在所述減振軸上設(shè)置有下接線口。
4.如權(quán)利要求2所述的射孔管柱雙向減振裝置，其特征在于:位于所述絕緣支架上方，在所述減振軸上設(shè)置上接線口 ；位于所述絕緣支架下方，在所述減振軸上設(shè)置有下接線口。
5.如權(quán)利要求1?4任一項所述的射孔管柱雙向減振裝置，其特征在于:所述螺線管由線圈和金屬芯構(gòu)成。
6.如權(quán)利要求1?4任一項所述的射孔管柱雙向減振裝置，其特征在于:所述磁體采用永磁體或電磁鐵。
【專利摘要】本實用新型涉及一種射孔管柱雙向減振裝置，其特征在于：它包括殼體、上接頭、減振軸、下接頭、彈簧座、絕緣支架、磁體、彈簧和螺線管；所述殼體上端設(shè)置有所述上接頭，所述殼體內(nèi)設(shè)置有所述減振軸，且所述減振軸一端從所述殼體下端伸出并與所述下接頭連接；位于所述殼體內(nèi)，從上至下在所述減振軸上依次設(shè)置有所述彈簧座、絕緣支架和磁體，所述磁體固設(shè)在所述殼體底部；在所述減振軸上，位于所述上接頭與所述彈簧座之間的設(shè)置有所述彈簧；在所述絕緣支架上設(shè)置有所述螺線管。本實用新型可有效降低射孔過程在縱向壓縮振動和拉伸振動對射孔管柱的影響，進(jìn)而提高射孔管柱的使用安全性。本實用新型可以廣泛在石油、天然氣鉆完井作業(yè)中應(yīng)用。
【IPC分類】E21B17-07
【公開號】CN204571867
【申請?zhí)枴緾N201520270057
【發(fā)明人】何玉發(fā), 周建良, 劉清友, 蔣世全, 祝效華, 朱江, 董亮亮
【申請人】中國海洋石油總公司, 中海油研究總院, 西南石油大學(xué)
【公開日】2015年8月19日
【申請日】2015年4月29日