一種渦旋壁氧化裝置的制造方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實用新型屬于渦旋式壓縮機(jī)的領(lǐng)域，具體涉及一種渦旋式壓縮機(jī)的定渦旋盤硬化技術(shù)。
【背景技術(shù)】
[0002]渦旋式壓縮機(jī)以其效率高、噪音低、體積小、有利于節(jié)能及保護(hù)環(huán)境等優(yōu)點而廣泛應(yīng)用于工業(yè)、農(nóng)業(yè)、交通運輸?shù)刃袠I(yè)需要壓縮空氣的場合。
[0003]渦旋壓縮機(jī)的工作原理是通過二組由具有盤體和渦旋壁的動渦旋盤與定渦旋盤相互嚙合運動來實現(xiàn)對壓縮介質(zhì)的吸入、壓縮和排出的。在渦旋壓縮機(jī)工作過程中，定渦旋盤固定在機(jī)殼上，動渦旋盤在偏心驅(qū)動軸的帶動下繞定渦旋盤中心做較小半徑的旋轉(zhuǎn)運動。壓縮介質(zhì)吸入后，隨著偏心驅(qū)動軸的轉(zhuǎn)動，壓縮介質(zhì)在由定渦旋盤和動渦旋盤的渦旋壁相互嚙合形成的若干個月牙形壓縮腔內(nèi)被逐步壓縮，壓縮介質(zhì)由低壓腔向高壓腔移動，最后從定渦旋盤中心的高壓腔部分的排氣孔排出。
[0004]由于定渦旋盤的渦旋壁經(jīng)常承受較大的擠壓，因此其相較定渦旋盤其他部件而言，需要更大的硬度用以抵抗因擠壓導(dǎo)致的變形等問題。現(xiàn)有技術(shù)中，定渦旋盤的硬化技術(shù)通常是將定渦旋盤整個放入電解液進(jìn)行氧化從而提高渦旋壁的整體硬度。然而，采用此種做法，在提高渦旋壁硬度的同時，由于定渦旋盤的其他不需氧化的部件亦會被氧化，進(jìn)而影響到其他部件的性能，導(dǎo)致整個定渦旋盤不符合使用要求。
[0005]因此，在渦旋式壓縮機(jī)行業(yè)中急需一種新型的渦旋壁氧化裝置來解決現(xiàn)有技術(shù)中存在的冋題。
【實用新型內(nèi)容】
[0006]為了克服上述現(xiàn)有技術(shù)的不足，本實用新型提供了一種渦旋壁氧化裝置，包括:一定渦旋盤，其具有一從該定渦旋盤上表面朝向該定渦旋盤下表面軸向延伸的渦旋壁；一局部氧化工裝，其相對于該定渦旋盤的外形開設(shè)有一內(nèi)凹的容置空間，用以容置并對外封閉該定渦旋盤，其中，該容置空間具有一開口，該開口僅用以暴露出該渦旋壁。
[0007]在一較佳實施例中，該定渦旋盤進(jìn)一步包括復(fù)數(shù)個卡槽，設(shè)置于該渦旋壁外側(cè)，該局部氧化工裝卡設(shè)于該些卡槽中。
[0008]在一較佳實施例中，該局部氧化工裝進(jìn)一步包括復(fù)數(shù)個密封凸臺，該密封凸臺對應(yīng)該卡槽設(shè)置且與該卡槽相互嵌合，且該密封凸臺與該卡槽為過盈配合。
[0009]在一較佳實施例中，該局部氧化工裝包括一凹形框體及一設(shè)置于該凹形框體上方的端蓋，其中該凹形框體用以容置該定渦旋盤；該端蓋用以封閉該凹形框體，并對應(yīng)該渦旋壁形成一開口，該開口僅用以暴露出該渦旋壁。
[0010]在一較佳實施例中，該局部氧化工裝為彈性材料制成，且該凹形框體與該端蓋為一體成型。
[0011]在一較佳實施例中，該端蓋可拆卸式設(shè)置在該凹形框體上。
[0012]在一較佳實施例中，該端蓋與該凹形框體通過螺絲固定。
[0013]在一較佳實施例中，進(jìn)一步包括一氧化槽，該氧化槽中具有電解液，該電解液用以對容置在該局部氧化工裝中的定渦旋盤的該渦旋壁進(jìn)行氧化。
[0014]在一較佳實施例中，進(jìn)一步包括一水冷卻循環(huán)裝置，用以對氧化過程中的定渦旋盤進(jìn)行冷卻降溫。
[0015]在一較佳實施例中，該凹形框體上具有一進(jìn)水口，一出水口，及一繞設(shè)在該凹形框體內(nèi)部的流道，該流道連通該進(jìn)水口及該出水口。
[0016]與現(xiàn)有技術(shù)相比，本實用新型的有益效果是:
[0017]藉此，本實施新型藉由新型的渦旋壁氧化裝置解決了現(xiàn)有技術(shù)中在氧化渦旋壁的同時，造成定渦旋盤的其他不需氧化的部件亦會被氧化的問題，在氧化渦旋壁，提高其硬度的同時亦保證了定渦旋盤其他部件的性能。
【附圖說明】
[0018]圖1為本實用新型之渦旋壁氧化裝置的第一實施例的示意圖；
[0019]圖2為本實用新型之渦旋壁氧化裝置的第二實施例的立體圖；
[0020]圖3為本實用新型之渦旋壁氧化裝置的第二實施例的示意圖；
具體實施例
[0021]在下文的細(xì)節(jié)描述中，組件符號會標(biāo)示在隨附的圖示中成為其中的一部份，并且以可實行該實施例之特定范例描述方式來表示。這類實施例會說明足夠的細(xì)節(jié)俾使該領(lǐng)域的一般技藝人士得以具以實施。閱者須了解到本實用新型中亦可利用其他的實施例或是在不悖離所述實施例的前提下作出結(jié)構(gòu)性、邏輯性、及電性上的改變。因此，下文之細(xì)節(jié)描述將不欲被視為是一種限定，反之，其中所包含的實施例將由權(quán)利要求范圍來加以界定。
[0022]首先請配合參照圖1及圖2，圖1繪示出根據(jù)本實用新型之渦旋壁氧化裝置的第一實施例的示意圖，圖2繪示出根據(jù)本實用新型之渦旋壁氧化裝置的第一實施例的立體圖；如圖1所示，渦旋壁氧化裝置I包括:一定渦旋盤20，其具有一從該定渦旋盤20上表面21朝向該定渦旋盤20下表面22軸向延伸的渦旋壁23。其中渦旋壁23的制造方法為現(xiàn)有技術(shù)，在此不作贅述。
[0023]一局部氧化工裝10，該局部氧化工裝10包括一凹形框體11及一設(shè)置于該凹形框體11上方的端蓋12，其中該凹形框體11相對于該定渦旋盤20的外形開設(shè)有一內(nèi)凹的容置空間111，用以容置該定渦旋盤20。該端蓋12用以將定渦旋盤20對外封閉，且該端蓋12對應(yīng)該渦旋壁23形成一開口 121，該開口 121僅用以暴露出該渦旋壁23。
[0024]該定渦旋盤20進(jìn)一步包括復(fù)數(shù)個卡槽24 (圖1中僅顯示2個，但本實施例并不限制其數(shù)量)，設(shè)置于該渦旋壁23外側(cè)，該局部氧化工裝10卡設(shè)于該些卡槽24中。
[0025]在一較佳實施例中，該局部氧化工裝10進(jìn)一步包括復(fù)數(shù)個密封凸臺13 (圖1中僅顯示2個，但本實施例并不限制其數(shù)量)，該密封凸臺13對應(yīng)該卡槽24設(shè)置且與該卡槽24相互嵌合，且該密封凸臺13與該卡槽24為過盈配合。藉此，局部氧化工裝10可以將渦旋壁23以外的定渦旋盤20的其他部件封閉在局部氧化工裝10形成的容置空間11