一種電極箔腐蝕裝置的制造方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及電極箔生產(chǎn)技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種電極箔腐蝕裝置。
【背景技術(shù)】
[0002]鋁電解電容器是常見的電子元件，它的芯子是由陽(yáng)極鋁箔、電解紙、陽(yáng)極鋁箔、電解紙等四層重迭卷繞而成，芯子含浸電解液后用鋁殼和膠蓋密封起來構(gòu)成一個(gè)電解電容器，電極箔是鋁電解電容器的主要原材料。電極箔以精鋁經(jīng)過乳制、腐蝕、賦能等一系列工序加工而成，腐蝕是電極箔的技術(shù)核心，通過電化學(xué)的方法在鋁箔的表面形成數(shù)量極大的微細(xì)孔洞，然后再進(jìn)行后級(jí)腐蝕進(jìn)行擴(kuò)孔，以此來提高鋁箔的表面積，從而提高靜電容量，同時(shí)還要保證電極箔具有足夠的機(jī)械強(qiáng)度。
[0003]現(xiàn)有的電極箔腐蝕裝置在對(duì)鋁箔進(jìn)行腐蝕加工時(shí)，腐蝕效果均勻性差，使得鋁箔表面蝕孔分布不均、尺寸大小不一，蝕孔的密度低，蝕孔深度淺、孔徑小，在化成處理后因表面的氧化膜較厚，氧化膜容易填平孔淺、孔徑小的蝕孔，從而降低了電極箔的有效表面積，影響電極箔的品質(zhì)，降低了電極箔的靜電容量，機(jī)械強(qiáng)度一致性差。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0004]本發(fā)明所要解決的技術(shù)問題和提出的技術(shù)任務(wù)是對(duì)現(xiàn)有技術(shù)進(jìn)行改進(jìn)，提供一種電極箔腐蝕裝置，解決目前技術(shù)中傳統(tǒng)的電極箔腐蝕裝置的腐蝕效果均勻性差，使得鋁箔表面蝕孔分布不均、尺寸大小不一，電極箔的品質(zhì)和電容性能難以控制的問題。
[0005]為解決以上技術(shù)問題，本發(fā)明的技術(shù)方案是:
[0006]—種電極箔腐蝕裝置，包括腐蝕槽，其特征在于，所述的腐蝕槽內(nèi)裝有腐蝕液，腐蝕槽內(nèi)設(shè)置內(nèi)槽，內(nèi)槽的上部口沿高于腐蝕槽內(nèi)腐蝕液液面高度，內(nèi)槽底部開口，并且在開口的兩側(cè)設(shè)置相互平行的極板，內(nèi)槽的頂部設(shè)置加電棍，并在內(nèi)槽的底部外側(cè)裝置底棍，鋁箔繞在加電輥和底輥上進(jìn)行輸送，鋁箔從內(nèi)槽內(nèi)部經(jīng)內(nèi)槽的底部開口穿出至腐蝕槽內(nèi)再輸送出腐蝕槽，腐蝕槽內(nèi)設(shè)置噴射裝置，噴射裝置正對(duì)內(nèi)槽的底部開口。傳統(tǒng)的電極箔腐蝕裝置是在電極之間設(shè)置有噴淋管，利用噴淋管來加快腐蝕性的循環(huán)降低鋁箔及其鄰近極板出的腐蝕產(chǎn)物濃度，但是噴淋管會(huì)影響該處的電流，使電流減小甚至阻斷電流，導(dǎo)致腐蝕孔在生長(zhǎng)的過程內(nèi)中斷，從而影響電極箔的靜電容量。本發(fā)明所述的電極箔腐蝕裝置利用內(nèi)槽底部的開口使腐蝕液從腐蝕槽進(jìn)入到內(nèi)槽中，鋁箔從內(nèi)槽中的極板之間通過進(jìn)行正常的腐蝕加工，噴射裝置正對(duì)內(nèi)槽的底部開口，噴射裝置使腐蝕液形成向上的液流進(jìn)入內(nèi)槽的底部開口，加速腐蝕槽內(nèi)的腐蝕液進(jìn)入到內(nèi)槽中，內(nèi)槽中的腐蝕液溢出后回流到腐蝕槽中，從而實(shí)現(xiàn)了腐蝕槽與內(nèi)槽中腐蝕液的循環(huán)，并且加快了循環(huán)性，有效降低鋁箔及其鄰近極板出的腐蝕產(chǎn)物濃度，使得腐蝕產(chǎn)物如氫氣、鋁離子等回流到腐蝕槽進(jìn)行有效擴(kuò)散，與腐蝕槽內(nèi)其他腐蝕液部分混合均勻，從而確保始終保持良好的腐蝕效果，避免鋁箔不同位置出現(xiàn)靜電容量偏差大、平均值低的問題，提高最終得到的電極箔的性能和品質(zhì)。
[0007]進(jìn)一步的，所述的腐蝕槽的側(cè)壁上設(shè)置循環(huán)管，循環(huán)管連接至腐蝕液儲(chǔ)槽，腐蝕液儲(chǔ)槽通過循環(huán)栗再連接至腐蝕槽。本發(fā)明將腐蝕槽與腐蝕液儲(chǔ)槽形成一個(gè)外循環(huán)，可以有效補(bǔ)充消耗的腐蝕液，并且進(jìn)一步的降低腐蝕產(chǎn)物濃度，提高腐蝕液的利用效率和鋁箔腐蝕生產(chǎn)效率。
[0008]進(jìn)一步的，所述的腐蝕液儲(chǔ)槽內(nèi)設(shè)置有加熱裝置，加熱裝置采用蒸汽加熱，降低生產(chǎn)功耗，使腐蝕液達(dá)到腐蝕反應(yīng)所需的穩(wěn)定，提高生產(chǎn)效率。
[0009]進(jìn)一步的，所述的極板在兩者相對(duì)面的外側(cè)以及翼側(cè)、底側(cè)設(shè)置有電流屏蔽板提高電流穩(wěn)定性，從而確保箔表面蝕孔分布均勻、尺寸大小一致，提高加工品質(zhì)。
[0010]進(jìn)一步的，所述的電流屏蔽板為絕緣塑料板，制作方便成本低。
[0011]進(jìn)一步的，所述的腐蝕槽的后段連接著腐蝕清洗裝置，腐蝕清洗裝置包括清洗槽，清洗槽內(nèi)裝有清洗液，清洗槽的上方裝置上輥筒，清洗槽底部裝置下輥筒，腐蝕加工后的鋁箔通過上輥筒、下輥筒的傳動(dòng)伸入到清洗槽內(nèi)進(jìn)行清洗，去除腐蝕液殘留，提高電極箔的品質(zhì)和使用壽命。
[0012]進(jìn)一步的，所述的清洗槽內(nèi)在鋁箔進(jìn)入清洗液處設(shè)置有噴淋管，并且噴淋管對(duì)稱分布在鋁箔的兩側(cè)，噴淋管的噴淋方向傾斜向下。傳統(tǒng)的清洗方式采用的是浸泡清洗，清洗效率低，不能對(duì)鋁箔表面形成沖擊和震蕩，清洗不徹底會(huì)嚴(yán)重影響電極箔的使用壽命。
[0013]進(jìn)一步的，所述的清洗槽內(nèi)在鋁箔從清洗液內(nèi)出來處設(shè)置有噴淋管，并且噴淋管對(duì)稱分布在鋁箔的兩側(cè)，噴淋管的噴淋方向傾斜向下，對(duì)鋁箔表面進(jìn)行二次沖洗，進(jìn)一步提高清洗效果，保障電機(jī)的使用長(zhǎng)壽命。
[0014]與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明優(yōu)點(diǎn)在于:
[0015]本發(fā)明所述的電極箔腐蝕裝置有效提高腐蝕液的循環(huán)性，使腐蝕產(chǎn)物有效擴(kuò)散，降低鋁箔及其鄰近極板出的腐蝕產(chǎn)物濃度，從而確保始終保持良好的腐蝕效果，確保鋁箔表面蝕孔分布均勻，蝕孔深度和口徑一致性好，避免鋁箔不同位置出現(xiàn)靜電容量偏差大、平均值低的問題，提高最終得到的電極箔的性能和品質(zhì)；
[0016]本發(fā)明所述的電極箔腐蝕裝置結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單，制造成本低，制作方便，經(jīng)濟(jì)效益高。
【附圖說明】
[0017]圖1為本發(fā)明的結(jié)構(gòu)示意圖。
【具體實(shí)施方式】
[0018]下面將結(jié)合本發(fā)明實(shí)施例中的附圖，對(duì)本發(fā)明實(shí)施例中的技術(shù)方案進(jìn)行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實(shí)施例僅僅是本發(fā)明一部分實(shí)施例，而不是全部的實(shí)施例?；诒景l(fā)明中的實(shí)施例，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒有做出創(chuàng)造性勞動(dòng)前提下所獲得的所有其他實(shí)施例，都屬于本發(fā)明保護(hù)的范圍。
[0019]本發(fā)明實(shí)施例公開的一種電極箔腐蝕裝置，對(duì)鋁箔進(jìn)行均勻腐蝕加工，確保鋁箔表面蝕孔分布均勻、尺寸大小一致，腐蝕深度一致性較好，增大鋁箔的有效表面積，提高鋁箔的容量，保證電極箔的品質(zhì)的一致性。
[0020]如圖1所示，一種電極箔腐蝕裝置，包括腐蝕槽1，所述的腐蝕槽1內(nèi)裝有腐蝕液，腐蝕槽1內(nèi)設(shè)置內(nèi)槽2，內(nèi)槽2的上部口沿高于腐蝕槽1內(nèi)腐蝕液液面高度，內(nèi)槽2底部開口，并且在開口的兩側(cè)設(shè)置相互平行的極板3，極板3在兩者相對(duì)面的外側(cè)以及翼側(cè)、底側(cè)設(shè)置有電流屏蔽板12，電流屏蔽板12為絕緣塑料板提高電流穩(wěn)定性，內(nèi)槽2的頂部設(shè)置加電輥4，并在內(nèi)槽2的底部外側(cè)裝置底輥5，鋁箔6繞在加電輥4和底輥5上進(jìn)行輸送，鋁箔6從內(nèi)槽2內(nèi)部經(jīng)內(nèi)槽2的底部開口穿出至腐蝕槽1內(nèi)再輸送出腐蝕槽1，腐蝕槽1內(nèi)設(shè)置噴射裝置7，噴射裝置7正對(duì)內(nèi)槽2的底部開口。
[0021]腐蝕槽1的側(cè)壁上設(shè)置循環(huán)管8，循環(huán)管8連接至腐蝕液儲(chǔ)槽9，腐蝕液儲(chǔ)槽9通過循環(huán)栗10再連接至腐蝕槽1，腐蝕液儲(chǔ)槽9內(nèi)設(shè)置有加熱裝置11，進(jìn)一步提高腐蝕液的循環(huán)性，降低腐蝕液中的腐蝕產(chǎn)物濃度，保障長(zhǎng)效穩(wěn)定的腐蝕效果。
[0022]腐蝕槽1的后段連接著腐蝕清洗裝置，腐蝕清洗裝置包括清洗槽13，清洗槽13內(nèi)裝有清洗液，清洗槽13的上方裝置上輥筒14，清洗槽13底部裝置下輥筒15，腐蝕加工后的鋁箔6通過上輥筒14、下輥筒15的傳動(dòng)伸入到清洗槽13內(nèi)進(jìn)行清洗，清洗槽13內(nèi)在鋁箔6進(jìn)入清洗液處設(shè)置有噴淋管16，并且噴淋管16對(duì)稱分布在招箔6的兩側(cè)，噴淋管16的噴淋方向傾斜向下，清洗槽13內(nèi)在鋁箔6從清洗液內(nèi)出來處設(shè)置有噴淋管16，并且噴淋管16對(duì)稱分布在鋁箔6的兩側(cè)，噴淋管16的噴淋方向傾斜向下。利用腐蝕清洗裝置清除腐蝕液殘留，提尚電極猜使用壽命。
[0023]以上僅是本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施方式，應(yīng)當(dāng)指出的是，上述優(yōu)選實(shí)施方式不應(yīng)視為對(duì)本發(fā)明的限制，本發(fā)明的保護(hù)范圍應(yīng)當(dāng)以權(quán)利要求所限定的范圍為準(zhǔn)。對(duì)于本技術(shù)領(lǐng)域的普通技術(shù)人員來說，在不脫離本發(fā)明的精神和范圍內(nèi)，還可以做出若干改進(jìn)和潤(rùn)飾，這些改進(jìn)和潤(rùn)飾也應(yīng)視為本發(fā)明的保護(hù)范圍。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種電極箱腐蝕裝置，包括腐蝕槽(1)，其特征在于，所述的腐蝕槽(1)內(nèi)裝有腐蝕液，腐蝕槽(1)內(nèi)設(shè)置內(nèi)槽(2)，內(nèi)槽(2)的上部口沿高于腐蝕槽(1)內(nèi)腐蝕液液面高度，內(nèi)槽⑵底部開口，并且在開口的兩側(cè)設(shè)置相互平行的極板(3)，內(nèi)槽(2)的頂部設(shè)置加電輥(4)，并在內(nèi)槽⑵的底部外側(cè)裝置底輥(5)，鋁箱(6)繞在加電輥(4)和底輥(5)上進(jìn)行輸送，鋁箱(6)從內(nèi)槽(2)內(nèi)部經(jīng)內(nèi)槽(2)的底部開口穿出至腐蝕槽(1)內(nèi)再輸送出腐蝕槽(1)，腐蝕槽⑴內(nèi)設(shè)置噴射裝置(7)，噴射裝置(7)正對(duì)內(nèi)槽⑵的底部開口。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電極箱腐蝕裝置，其特征在于，所述的腐蝕槽⑴的側(cè)壁上設(shè)置循環(huán)管(8)，循環(huán)管(8)連接至腐蝕液儲(chǔ)槽(9)，腐蝕液儲(chǔ)槽(9)通過循環(huán)栗(10)再連接至腐蝕槽(1)。3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的電極箱腐蝕裝置，其特征在于，所述的腐蝕液儲(chǔ)槽(9)內(nèi)設(shè)置有加熱裝置(11)。4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電極箱腐蝕裝置，其特征在于，所述的極板(3)在兩者相對(duì)面的外側(cè)以及翼側(cè)、底側(cè)設(shè)置有電流屏蔽板(12)。5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的電極箱腐蝕裝置，其特征在于，所述的電流屏蔽板(12)為絕緣塑料板。6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電極箱腐蝕裝置，其特征在于，所述的腐蝕槽(1)的后段連接著腐蝕清洗裝置，腐蝕清洗裝置包括清洗槽(13)，清洗槽(13)內(nèi)裝有清洗液，清洗槽(13)的上方裝置上輥筒(14)，清洗槽(13)底部裝置下輥筒(15)，腐蝕加工后的鋁箱(6)通過上輥筒(14)、下輥筒(15)的傳動(dòng)伸入到清洗槽(13)內(nèi)進(jìn)行清洗。7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的電極箱腐蝕裝置，其特征在于，所述的清洗槽(13)內(nèi)在鋁箱(6)進(jìn)入清洗液處設(shè)置有噴淋管(16)，并且噴淋管(16)對(duì)稱分布在鋁箱￠)的兩側(cè)，噴淋管(16)的噴淋方向傾斜向下。8.根據(jù)權(quán)利要求6所述的電極箱腐蝕裝置，其特征在于，所述的清洗槽(13)內(nèi)在鋁箱(6)從清洗液內(nèi)出來處設(shè)置有噴淋管(16)，并且噴淋管(16)對(duì)稱分布在鋁箱￠)的兩側(cè)，噴淋管(16)的噴淋方向傾斜向下。
【專利摘要】本發(fā)明公開一種電極箔腐蝕裝置，包括腐蝕槽，所述的腐蝕槽內(nèi)裝有腐蝕液，腐蝕槽內(nèi)設(shè)置內(nèi)槽，內(nèi)槽的上部口沿高于腐蝕槽內(nèi)腐蝕液液面高度，內(nèi)槽底部開口，在開口的兩側(cè)設(shè)置相互平行的極板，內(nèi)槽的頂部設(shè)置加電輥，并在內(nèi)槽的底部外側(cè)裝置底輥，鋁箔繞在加電輥和底輥上進(jìn)行輸送，腐蝕槽內(nèi)設(shè)置噴射裝置，噴射裝置正對(duì)內(nèi)槽的底部開口。本發(fā)明所述的電極箔腐蝕裝置有效提高腐蝕液的循環(huán)性，使腐蝕產(chǎn)物有效擴(kuò)散，降低鋁箔及其鄰近極板出的腐蝕產(chǎn)物濃度，確保始終保持良好的腐蝕效果，確保鋁箔表面蝕孔分布均勻，蝕孔深度和口徑一致性好，避免鋁箔不同位置出現(xiàn)靜電容量偏差大、平均值低的問題，提高電極箔的性能和品質(zhì)。
【IPC分類】C25F7/00, C25F3/04
【公開號(hào)】CN105274615
【申請(qǐng)?zhí)枴緾N201510830433
【發(fā)明人】費(fèi)新金, 樊東陽(yáng)
【申請(qǐng)人】天全君力電子材料有限公司
【公開日】2016年1月27日
【申請(qǐng)日】2015年11月25日