本技術涉及電池片銅電極生產(chǎn)，特別是涉及一種用于電鍍槽及藥水槽的高精度集中供藥系統(tǒng)。

背景技術：

1、電鍍一般通過電化學反應在銅電極表面鍍上一層金屬鉑層的方法，電鍍可以增加銅電極的耐腐蝕性能、硬度和耐磨性能，同時還可以改善外觀等，

2、目前，電池片銅電極電鍍主要通過重直連續(xù)式電鍍、水平連續(xù)式電鍍兩種方式，兩種方式都是濕制程工藝方式來電鍍鍍層，鍍層的均勻性、外觀都需要電鍍添加劑來提高品質(zhì)。因此，無論是電鍍液、還是添加劑添加量的精度與藥水濃度都至關重要。

技術實現(xiàn)思路

1、本實用新型的目的是提供一種高精度集中供藥系統(tǒng)，為電池片銅電極生產(chǎn)過程中的電鍍槽及藥水槽的高精度集中供藥系統(tǒng)。

2、為達到上述目的，本實用新型采用的技術方案是：

3、一種高精度集中供藥系統(tǒng)，包括多個供藥單元，所述的供藥單元包括箱體、藥劑存放器件、量取器件、液位計以及泵送組件，所述的藥劑存放器件、量取器件、液位計以及泵送組件均集成在所述的箱體內(nèi)，所述的量取器件具有進藥口、出藥口，所述的量取器件的進藥口與所述的藥劑存放器件連通、用于量取要供送的藥液；所述的液位計設置在所述的量取器件內(nèi)用于讀取藥液的量程；所述的泵送組件連接在所述的藥劑存放器件與所述的量取器件的進藥口之間、及與所述的量取器件的進藥口連接。

4、上述技術方案優(yōu)選地，所述的藥劑存放器件上設置有刻度，所述的藥劑存放器件上至少設置刻度的位置采用透明材質(zhì)；

5、所述的量取器件上設置有刻度，所述的量取器件上至少設置刻度的位置采用透明材質(zhì)。

6、上述技術方案優(yōu)選地，所述的箱體包括箱主體、門體，所述的藥劑存放器件上的刻度、量取器件上的刻度朝向所述的門體，所述的門體上至少正對所述的刻度的位置采用透明材質(zhì)。

7、上述技術方案優(yōu)選地，所述的液位計為磁致液位計。

8、上述技術方案優(yōu)選地，所述的泵送組件包括第一泵體、第二泵體，所述的第一泵體連接在所述的藥劑存放器件、所述的量取器件的進藥口之間；所述的第二泵體與所述的量取器件的出藥口連接。

9、進一步優(yōu)選地，所述的第一泵體、第二泵體均為蠕動泵。

10、上述技術方案優(yōu)選地，所述的藥劑存放器件內(nèi)設置有液位開關。

11、上述技術方案優(yōu)選地，所述的量取器件還具有溢流口，所述的溢流口位于所述的量取器件的頂部，所述的溢流口與所述的藥劑存放器件連通。

12、上述技術方案優(yōu)選地，所述的量取器件的進藥口、出藥口均開設在底部。

13、上述技術方案優(yōu)選地，所述的藥劑存放器件位于所述的箱體的底部，所述的量取器件、泵送組件均位于所述的藥劑存放器件的上方，所述的量取器件位于所述的箱體的一邊。

14、由于上述技術方案運用，本實用新型與現(xiàn)有技術相比具有下列優(yōu)點：

15、本實用新型配合設備可大大提高各種添加劑添加量的精度，做到提升電鍍層品質(zhì)，節(jié)省添加劑耗量等特點，結構新穎、布局合理。

技術特征：

1.一種高精度集中供藥系統(tǒng)，其特征在于：包括多個供藥單元，多個所述的供藥單元獨立設置，所述的供藥單元包括箱體、藥劑存放器件、量取器件、液位計以及泵送組件，所述的藥劑存放器件、量取器件、液位計以及泵送組件均集成在所述的箱體內(nèi)，所述的量取器件具有進藥口、出藥口，所述的量取器件的進藥口與所述的藥劑存放器件連通、用于量取要供送的藥液；所述的液位計設置在所述的量取器件內(nèi)用于讀取藥液的量程；所述的泵送組件連接在所述的藥劑存放器件與所述的量取器件的進藥口之間、及與所述的量取器件的進藥口連接。

2.根據(jù)權利要求1所述的高精度集中供藥系統(tǒng)，其特征在于：所述的藥劑存放器件上設置有刻度，所述的藥劑存放器件上至少設置刻度的位置采用透明材質(zhì)；

3.根據(jù)權利要求1所述的高精度集中供藥系統(tǒng)，其特征在于：所述的箱體包括箱主體、門體，所述的藥劑存放器件上的刻度、量取器件上的刻度朝向所述的門體，所述的門體上至少正對所述的刻度的位置采用透明材質(zhì)。

4.根據(jù)權利要求1所述的高精度集中供藥系統(tǒng)，其特征在于：所述的液位計為磁致液位計。

5.根據(jù)權利要求1所述的高精度集中供藥系統(tǒng)，其特征在于：所述的泵送組件包括第一泵體、第二泵體，所述的第一泵體連接在所述的藥劑存放器件、所述的量取器件的進藥口之間；所述的第二泵體與所述的量取器件的出藥口連接。

6.根據(jù)權利要求5所述的高精度集中供藥系統(tǒng)，其特征在于：所述的第一泵體、第二泵體均為蠕動泵。

7.根據(jù)權利要求1所述的高精度集中供藥系統(tǒng)，其特征在于：所述的藥劑存放器件內(nèi)設置有液位開關。

8.根據(jù)權利要求1所述的高精度集中供藥系統(tǒng)，其特征在于：所述的量取器件還具有溢流口，所述的溢流口位于所述的量取器件的頂部，所述的溢流口與所述的藥劑存放器件連通。

9.根據(jù)權利要求1所述的高精度集中供藥系統(tǒng)，其特征在于：所述的量取器件的進藥口、出藥口均開設在底部。

10.根據(jù)權利要求1所述的高精度集中供藥系統(tǒng)，其特征在于：所述的藥劑存放器件位于所述的箱體的底部，所述的量取器件、泵送組件均位于所述的藥劑存放器件的上方，所述的量取器件位于所述的箱體的一邊。

技術總結
本技術涉及一種高精度集中供藥系統(tǒng)，包括多個供藥單元，所述的供藥單元包括箱體、藥劑存放器件、量取器件、液位計以及泵送組件，所述的藥劑存放器件、量取器件、液位計以及泵送組件均集成在所述的箱體內(nèi)，所述的量取器件具有進藥口、出藥口，所述的量取器件的進藥口與所述的藥劑存放器件連通、用于量取要供送的藥液；所述的液位計設置在所述的量取器件內(nèi)用于讀取藥液的量程；所述的泵送組件連接在所述的藥劑存放器件與所述的量取器件的進藥口之間、及與所述的量取器件的進藥口連接。本技術配合設備可大大提高各種添加劑添加量的精度，做到提升電鍍層品質(zhì)，節(jié)省添加劑耗量等特點，結構新穎、布局合理。

技術研發(fā)人員：戴軍,羅銀兵,林長根,李玉峰
受保護的技術使用者：羅博特科智能科技股份有限公司
技術研發(fā)日：20231222
技術公布日：2024/12/19