1.一種用于微棱鏡型反光膜模具生產(chǎn)的氨基磺酸鎳電鑄工藝，其特征在于：以鎳球或鎳片作為陽極，以具有微棱鏡結(jié)構(gòu)的母型作為陰極，所述母型材料為鎳板，在裝有槽液的電鑄槽中進(jìn)行電鑄，得到微棱鏡型反光膜模具；在母型進(jìn)入電鑄槽進(jìn)行電鑄之前，需先對其進(jìn)行堿性除油處理和鈍化處理，堿性除油處理：用5wt%的氫氧化鈉溶液沖洗母型進(jìn)行除油，除油后對附著在母型表面的氫氧化鈉溶液進(jìn)行清洗，對清洗后產(chǎn)生的堿性除油廢水進(jìn)行處理；鈍化處理：用0.3wt%的重鉻酸鉀溶液浸潤母型，并在浸潤完成后對附著在母型表面的重鉻酸鉀溶液進(jìn)行清洗，對清洗后產(chǎn)生的重鉻酸鉀廢水進(jìn)行處理；電鑄模具的厚度由安時計控制；在電鑄結(jié)束后，關(guān)閉電源，將陰極從電鑄槽取出，進(jìn)行清洗，以除去其表面的槽液，小心剝離電鑄所得的模具；每生產(chǎn)一段時間后，當(dāng)陽極損耗30wt%時，要周期性地清洗陽極，除去陽極泥并補(bǔ)充新的鎳球或鎳片。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于微棱鏡型反光膜模具生產(chǎn)的氨基磺酸鎳電鑄工藝，其特征在于：所述電鑄時所用槽液的原料包括氨基磺酸鎳、硼酸、氯化鎳和水；在該槽液中，氨基磺酸鎳的濃度為600g/L，硼酸的濃度為40g/L，氯化鎳的濃度為10g/L。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于微棱鏡型反光膜模具生產(chǎn)的氨基磺酸鎳電鑄工藝，其特征在于：所述堿性除油及其產(chǎn)生的廢水的處理采用堿性除油廢水循環(huán)回收系統(tǒng)，該系統(tǒng)包括行車、清洗陣列和補(bǔ)水裝置；所述行車位于清洗陣列上方，所述清洗陣列由若干在行車運(yùn)送工件方向上順序相鄰排列的洗滌槽組成；所述行車把工件按洗滌槽排列順序把工件送至清洗陣列內(nèi)的各洗滌槽內(nèi)逐次清洗，清洗陣列內(nèi)除末端洗滌槽以外的洗滌槽為以自循環(huán)槽液清洗工件的洗滌槽；清洗陣列始端洗滌槽為除油槽，除油槽所用自循環(huán)槽液為5wt%濃度的氫氧化鈉溶液，清洗陣列內(nèi)除始端洗滌槽以外的洗滌槽均采用去離子水進(jìn)行配液和清洗補(bǔ)水，所述清洗陣列始端洗滌槽設(shè)有堿液除油清洗裝置，并設(shè)有對槽液進(jìn)行采樣以檢測氫氧化鈉濃度的裝置；清洗陣列末端洗滌槽設(shè)有純凈水清洗裝置；所述補(bǔ)水裝置設(shè)于清洗陣列內(nèi)相鄰的洗滌槽之間，當(dāng)清洗陣列的非末端的洗滌槽需補(bǔ)水時，補(bǔ)水裝置把下一個洗滌槽內(nèi)的槽液移入需補(bǔ)水洗滌槽內(nèi)。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于微棱鏡型反光膜模具生產(chǎn)的氨基磺酸鎳電鑄工藝，其特征在于：所述鈍化處理及其產(chǎn)生的重鉻酸鉀廢水的處理采用重鉻酸鉀鈍化液廢水循環(huán)回收系統(tǒng)，該系統(tǒng)包括行車、清洗陣列和補(bǔ)水裝置；所述行車位于清洗陣列上方，所述清洗陣列由若干在行車運(yùn)送工件方向上順序相鄰排列的洗滌槽組成；所述行車把工件按洗滌槽排列順序把工件送至清洗陣列內(nèi)的各洗滌槽內(nèi)逐次清洗，清洗陣列內(nèi)除末端洗滌槽以外的洗滌槽為以自循環(huán)槽液清洗工件的洗滌槽；清洗陣列始端洗滌槽為鈍化槽，鈍化槽所用自循環(huán)槽液為0.3wt%濃度的重鉻酸鉀溶液，清洗陣列內(nèi)除始端洗滌槽以外的洗滌槽均采用去離子水進(jìn)行配液和清洗補(bǔ)水，所述清洗陣列始端洗滌槽設(shè)有鈍化液噴淋裝置以槽內(nèi)自循環(huán)槽液對工件進(jìn)行噴淋鈍化，并設(shè)有對槽液進(jìn)行采樣以檢測重鉻酸鉀濃度的裝置；清洗陣列末端洗滌槽設(shè)有純凈水清洗裝置；所述補(bǔ)水裝置設(shè)于清洗陣列內(nèi)相鄰的洗滌槽之間，當(dāng)清洗陣列的非末端的洗滌槽需補(bǔ)水時，補(bǔ)水裝置把下一個洗滌槽內(nèi)的槽液移入需補(bǔ)水洗滌槽內(nèi)。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于微棱鏡型反光膜模具生產(chǎn)的氨基磺酸鎳電鑄工藝，其特征在于：在電鑄結(jié)束后，所述陰極和陽極的清洗均采用氨基磺酸鎳電鑄廢水循環(huán)回收系統(tǒng)，該系統(tǒng)包括電鑄槽、行車、清洗陣列和補(bǔ)水裝置；所述行車位于電鑄槽和清洗陣列上方，所述清洗陣列由若干在行車運(yùn)送工件方向上順序相鄰排列的洗滌槽組成；清洗陣列始端洗滌槽與電鑄槽相鄰，所述行車把電鑄槽內(nèi)工件輸送至清洗陣列始端洗滌槽進(jìn)行初洗，初洗完成后再按洗滌槽排列順序把工件送至陣列后續(xù)的洗滌槽逐次清洗，清洗陣列內(nèi)除末端洗滌槽以外的洗滌槽為以自循環(huán)槽液清洗工件的洗滌槽，清洗陣列末端洗滌槽設(shè)有純凈水清洗裝置；所述補(bǔ)水裝置設(shè)于清洗陣列始端和電鑄槽之間以及清洗陣列內(nèi)相鄰的洗滌槽之間，其中位于清洗陣列始端和電鑄槽之間的補(bǔ)水裝置的進(jìn)水口處設(shè)有過濾裝置；當(dāng)電鑄槽液面位置下降至閾值時，補(bǔ)水裝置把清洗陣列始端洗滌槽內(nèi)的槽液輸至電鑄槽內(nèi)進(jìn)行補(bǔ)充，當(dāng)清洗陣列始端洗滌槽內(nèi)的液面下降至需補(bǔ)水的閾值時，補(bǔ)水裝置在相鄰洗滌槽間轉(zhuǎn)移槽液以恢復(fù)清洗陣列內(nèi)各槽的液體量。
6.根據(jù)權(quán)利要求3-5中任一項所述的用于微棱鏡型反光膜模具生產(chǎn)的氨基磺酸鎳電鑄工藝，其特征在于：所述清洗陣列內(nèi)的洗滌槽數(shù)量為六。
7.根據(jù)權(quán)利要求3-5中任一項所述的用于微棱鏡型反光膜模具生產(chǎn)的氨基磺酸鎳電鑄工藝，其特征在于：所述洗滌槽內(nèi)設(shè)有獨(dú)立的抽水噴淋機(jī)構(gòu)對工件清洗。
8.根據(jù)權(quán)利要求3-5中任一項所述的用于微棱鏡型反光膜模具生產(chǎn)的氨基磺酸鎳電鑄工藝，其特征在于：所述洗滌槽以PPR材料成型。
9.根據(jù)權(quán)利要求5所述的用于微棱鏡型反光膜模具生產(chǎn)的氨基磺酸鎳電鑄工藝，其特征在于：所述洗滌槽處設(shè)有對槽液進(jìn)行采樣以檢測鎳離子濃度的裝置。
10.根據(jù)權(quán)利要求3-5中任一項所述的用于微棱鏡型反光膜模具生產(chǎn)的氨基磺酸鎳電鑄工藝，其特征在于：所述以槽液清洗工件的洗滌槽內(nèi)設(shè)有循環(huán)泵驅(qū)動槽液自循環(huán)并清洗工件。