本發(fā)明屬于電解銅箔生產(chǎn)工藝技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種陰極輥PVA拋光的工藝。

背景技術(shù)：
電解銅箔生產(chǎn)的關(guān)鍵設(shè)備是陰極輥，銅離子在外電場的作用下電沉積到陰極輥表面生成銅箔。因此，陰極輥表面晶粒大小、幾何形狀、平整度、粗糙度直接影響到電解銅箔的亮面質(zhì)量。同時，對毛面晶體結(jié)構(gòu)有十分關(guān)鍵的影響，金屬表面的粗糙度不同導(dǎo)致在電解液中的電化學(xué)行為不同。表面越粗糙，晶格變大，實際面積變大，實際電流密度下降，陰極極化變小。嚴(yán)重時，造成部分的實際電極電位達不到銅的析出電位或偏低，導(dǎo)致電解銅箔晶粒大小不均、排列雜亂，甚至出現(xiàn)滲透孔。因此，成熟穩(wěn)定的拋光參數(shù)對銅箔生產(chǎn)具有重要意義。

技術(shù)實現(xiàn)要素：
本發(fā)明的目的是針對現(xiàn)有技術(shù)的不足，提供一種陰極輥PVA拋光的工藝。為實施上述目的，本發(fā)明采用的技術(shù)方案是：一種陰極輥PVA拋光的工藝，包括如下步驟：選取1000#磨料為SiC的拋光刷，將陰極輥放在盛有拋光液的電...