本發(fā)明涉及一種電機壓線簧片處理工藝，具體來講，是一種采用復合多層電鍍的處理工藝。
現(xiàn)有技術(shù)
目前市場上電機壓線簧片為防止氧化變黑，一般會在表面進行鍍銅工藝處理，少數(shù)采用鍍銀處理。但是上述處理工藝存在明顯缺陷，如果銅鍍層破損，壓線簧片原材料會更容易生銹，而采用鍍銀工藝因為銀元素的性質(zhì)活潑，抗硫、抗鹵素性不好，長時間與空氣接觸容易被硫化、發(fā)黑。影響其外觀及導電性，同時由于其局部溫度高，使用安全性沒有辦法得到保障。對電機壓線簧片來說，使用壽命高、抗電腐蝕性能強、耐磨性好，采用單一鍍層工藝已經(jīng)達不到技術(shù)要求，需進行復合電鍍。
技術(shù)實現(xiàn)要素：
本發(fā)明主要針對上述現(xiàn)有技術(shù)的不足，提供一種電機壓線簧片的復合電鍍處理工藝，具體涉及一種能有效防止壓線簧片硫化，延長產(chǎn)品使用壽命的電機壓線簧片處理工藝。
為了解決以上技術(shù)問題，本發(fā)明的一種電機壓線簧片的復合電鍍工藝，主要由前處理、電鍍、后處理三個步驟構(gòu)成，其創(chuàng)新點在于：其電鍍工藝分為三步，首先鍍銅、其次鍍鎳、最后鍍金；所述預鍍銅工藝為：將鍍銅各類原料按照比例用水溶解混合形成溶液后，保持溶液在45℃-50℃，以0.75-1.5A/d㎡電流密度鍍1-2分鐘，然后在常溫下水洗兩遍完成預鍍銅；所述預鍍鎳工藝為：將上述鍍鎳各類原料按比例用水溶解混合形成溶液后，保持溶液在50℃-55℃，以1.0-1.5A/d㎡電流密度鍍1-2分鐘，鍍后水洗兩遍，完成預鍍鎳；所述鍍金工藝為：將上述鍍金各類原料按比例用水溶解混合形成溶液后，保持溶液在50℃-55℃，以1.0-1.5A/d㎡電流密度鍍1-2分鐘，鍍后以常溫水洗兩遍，完成鍍金工藝。
其中，所述鍍銅原料為：濃度為80-90g/L的氫化亞銅、濃度為45-55g/L的氫化鉀、濃度為100-150g/L的氫氧化鉀、濃度為200-250ml/L的光亮劑。
其中，所述鍍鎳原料為：濃度為250-350g/L的硫酸鎳、濃度為50-55g/L的氯化鎳、濃度為35-45g/L的硼酸、濃度為200-250ml/L的光亮劑。
其中，所述鍍金原料為：濃度為10-12g/L的氫化金鉀、濃度為20-25ml/L的金鎳亮劑。
本發(fā)明的有點在于：采用上述的復合電鍍工藝使得電機壓線簧片表面形成鍍金層，利用金元素的不活潑性，使其不易被硫化及鹵化，有效地保護產(chǎn)品并延長其的使用壽命，同時外觀美觀，導電性好，使用安全。
具體實施方式
本發(fā)明的具體工藝步驟如下：本工藝主要包括了前處理、電鍍、后處理三大步驟。
前處理步驟為：
（1） 除油：將電機壓線簧片用由氫氧化鈉6-10g/L、碳酸鈉30-50g/L、磷酸三鈉50-70g/L配置的堿液進行除油，工作溫度為85-90℃，浸泡時間45分鐘，出去表面油脂。
（2） 水洗：清水浸泡2遍，第一遍為80-90℃熱水一分鐘；第二遍為15-20℃常溫水浸泡1分鐘。
（3） 酸洗：在鹽酸與水進行1:1稀釋的溶液內(nèi)浸泡一分鐘，出去表面氧化物。
（4） 水洗：15-20℃常溫水浸泡1分鐘。
（5） 出光：由98%的濃硝酸與98%濃硫酸按照1:3體積配比出的溶液里浸泡4-5秒。
（6） 鈍化：將出光后的電機壓線簧片浸泡常溫水中3-5秒取出，再浸泡于5-8g/L的硫酸與80-100g/L的鉻酐混合溶液3-5秒取出，常溫水浸泡1分鐘后取出晾干。
電鍍處理部分分為以下步驟：
（1） 活化：以質(zhì)量比5%的硫酸溶液作為活化劑進行常規(guī)活化處理。
（2） 鍍銅：濃度為80-90g/L的氫化亞銅、濃度為45-55g/L的氫化鉀、濃度為100-150g/L的氫氧化鉀、濃度為200-250ml/L的光亮劑按比例用水溶解混合后，保持溶液在45℃-50℃，以0.75-1.5A/d㎡電流密度鍍1-2分鐘，然后在常溫下水洗兩遍。
（3） 鍍鎳：濃度為250-350g/L的硫酸鎳、濃度為50-55g/L的氯化鎳、濃度為35-45g/L的硼酸、濃度為200-250ml/L的光亮劑按比例用水溶解混合形成溶液后，保持溶液在50℃-55℃，以1.0-1.5A/d㎡電流密度鍍1-2分鐘，鍍后水洗兩遍。
（4） 鍍金：濃度為10-12g/L的氫化金鉀、濃度為20-25ml/L的金鎳亮劑按比例用水溶解混合形成溶液后，保持溶液在50℃-55℃，以1.0-1.5A/d㎡電流密度鍍1-2分鐘，鍍后以常溫水洗兩遍，完成鍍金工藝。
后處理工作為檢查清理，檢查產(chǎn)品電鍍質(zhì)量并對表面附著物進行清理。
由此完成電機壓線簧片的復合電鍍工藝全部過程。
所應說明的是，以上實施例僅用以說明本發(fā)明的技術(shù)方案而非限制，盡管參照上述實施例對本發(fā)明進行了詳細說明，依然可以對本發(fā)明的技術(shù)方案進行修改或等同替換，而不脫離本發(fā)明技術(shù)方案的精神和范圍，均應涵蓋在本發(fā)明的權(quán)利要求范圍當中。