一種堿性蝕刻液再生循環(huán)生產(chǎn)線的制作方法
【專利摘要】本實(shí)用新型公開了一種堿性蝕刻液再生循環(huán)生產(chǎn)線，其特征在于，包括堿性蝕刻單元、循環(huán)泵、再生反應(yīng)槽、緩存槽、電解槽、氣體處理單元和自來水源；所述堿性蝕刻單元、循環(huán)泵、再生反應(yīng)槽、緩存槽和電解槽依次用管道連接，所述電解槽一側(cè)設(shè)有氣體處理單元，所述電解槽與所述氣體單元用氣管連接，所述氣體單元與所述再生反應(yīng)槽用氣管連接，所述再生反應(yīng)槽一側(cè)還設(shè)有所述自來水源，所述自來水源通過電動(dòng)閥門與所述再生反應(yīng)槽用管道連接。通過上述技術(shù)方案，配合自來水補(bǔ)充消耗的水，其閉環(huán)控制循環(huán)系統(tǒng)最大程度降低了消耗，不使用氧化劑和蝕刻原液，其運(yùn)營(yíng)成本低，且無廢水、廢氣排出，同時(shí)回收電解的銅純度達(dá)99.1％。
【專利說明】一種堿性蝕刻液再生循環(huán)生產(chǎn)線

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型涉及環(huán)保設(shè)備領(lǐng)域，具體涉及一種堿性蝕刻液再生循環(huán)生產(chǎn)線。

【背景技術(shù)】
[0002]印刷電路板時(shí)電器和電子產(chǎn)品的重要組件，應(yīng)用非常普遍,其中蝕刻工序是PCB生產(chǎn)流程中比重最大的一部分，當(dāng)蝕刻液由于溶解的物質(zhì)太多而使蝕刻指標(biāo)(包括速度、側(cè)蝕系數(shù)、表面潔凈性等)低于工藝要求時(shí)，即成為蝕刻廢液，其嚴(yán)重影響了蝕刻的均勻性，現(xiàn)有的再生循環(huán)系統(tǒng)一般均采用氧化劑和蝕刻原液，成本高，同時(shí)有廢水、廢氣排出。
實(shí)用新型內(nèi)容
[0003]為解決上述技術(shù)問題，我們提出了一種堿性蝕刻液再生循環(huán)生產(chǎn)線，其閉環(huán)控制循環(huán)系統(tǒng)最大程度降低了消耗，不使用氧化劑和蝕刻原液，且無廢水、廢氣排出，同時(shí)回收電解的銅純度達(dá)99.1%。
[0004]為達(dá)到上述目的，本實(shí)用新型的技術(shù)方案如下:
[0005]一種堿性蝕刻液再生循環(huán)生產(chǎn)線，包括堿性蝕刻單元、循環(huán)泵、再生反應(yīng)槽、緩存槽、電解槽、氣體處理單元和自來水源；所述堿性蝕刻單元、循環(huán)泵、再生反應(yīng)槽、緩存槽和電解槽依次用管道連接，所述電解槽一側(cè)設(shè)有氣體處理單元，所述電解槽與所述氣體單元用氣管連接，所述氣體單元與所述再生反應(yīng)槽用氣管連接，所述再生反應(yīng)槽一側(cè)還設(shè)有所述自來水源，所述自來水源通過電動(dòng)閥門與所述再生反應(yīng)槽用管道連接。
[0006]優(yōu)選的，所述氣體處理單元包括收集器、增壓泵和儲(chǔ)氣罐，所述收集器、增壓泵和儲(chǔ)氣罐一次用氣管連接，所述儲(chǔ)氣罐分別與再生反應(yīng)槽、堿性蝕刻單元用氣管連接。
[0007]通過上述技術(shù)方案，配合自來水補(bǔ)充消耗的水，其閉環(huán)控制循環(huán)系統(tǒng)最大程度降低了消耗，不使用氧化劑和蝕刻原液，其運(yùn)營(yíng)成本低，且無廢水、廢氣排出，同時(shí)回收電解的銅純度達(dá)99.1%。

【專利附圖】

【附圖說明】
[0008]為了更清楚地說明本實(shí)用新型實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)中的技術(shù)方案，下面將對(duì)實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)描述中所需要使用的附圖作簡(jiǎn)單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖僅僅是本實(shí)用新型的一些實(shí)施例，對(duì)于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來講，在不付出創(chuàng)造性勞動(dòng)的前提下，還可以根據(jù)這些附圖獲得其他的附圖。
[0009]圖1為本實(shí)用新型實(shí)施例1所公開的一種堿性蝕刻液再生循環(huán)生產(chǎn)線的結(jié)構(gòu)示意圖。
[0010]圖中數(shù)字和字母所表示的相應(yīng)部件名稱:
[0011]1.堿性蝕刻單元2.循環(huán)泵3.再生反應(yīng)槽4.緩存槽5.電解槽6.氣體處理單元7.自來水源8.電動(dòng)閥門。

【具體實(shí)施方式】
[0012]下面結(jié)合實(shí)施例和【具體實(shí)施方式】對(duì)本實(shí)用新型作進(jìn)一步詳細(xì)的說明。
[0013]本實(shí)用新型提供了一種堿性蝕刻液再生循環(huán)生產(chǎn)線，其工作原理是:
[0014]1、堿性蝕刻的反應(yīng)為:
[0015][Cu (NH3) 4] +++Cu—2 [Cu (NH3) 2]+
[0016]2、堿性蝕刻單元反應(yīng)后產(chǎn)生過多[Cu(NH3)2]+,在銅板表面過多的[Cu (NH3)2] +影響蝕刻均勻度，通過循環(huán)泵將蝕刻液打入所述再生反應(yīng)槽，通過再生反應(yīng)槽將一部分蝕刻液送至緩存槽，電解槽從緩存槽送入的蝕刻液電解，發(fā)生反應(yīng)為:
[0017]陽極:2NH3+H20—2(NH4) ++20!Γ
[0018]2OH—l/202+H20+2e。
[0019]陰極:2[Cu (NH3) 2]++e —Cu+2NH3
[0020][Cu (NH3) 4]+++2e—2Cu+4NH3
[0021]3、氣體收集單元將電解產(chǎn)生的氣體送入所述再生反應(yīng)槽內(nèi)，發(fā)生反應(yīng)為:
[0022]2 [Cu (NH3) 2] ++2NH3+2 (NH4) ++l/202—2 [Cu (NH3) J +++3H20
[0023]在電解槽內(nèi)陰極電解出銅和氨氣，而陽極電解出氧氣，將氧氣送入至再生反應(yīng)槽內(nèi)氧化銅離子，同時(shí)注入氨水在生成[Cu(NH3)4]++即蝕刻液主要成分，完成再生。
[0024]實(shí)施例1
[0025]一種堿性蝕刻液再生循環(huán)生產(chǎn)線，包括堿性蝕刻單元1、循環(huán)泵2、再生反應(yīng)槽3、緩存槽4、電解槽5、氣體處理單元6和自來水源7 ;所述堿性蝕刻單元、循環(huán)泵、再生反應(yīng)槽、緩存槽和電解槽依次用管道連接，所述電解槽一側(cè)設(shè)有氣體處理單元，所述電解槽與所述氣體單元用氣管連接，所述氣體單元與所述再生反應(yīng)槽用氣管連接，所述再生反應(yīng)槽一側(cè)還設(shè)有所述自來水源，所述自來水源通過電動(dòng)閥門8與所述再生反應(yīng)槽用管道連接；所述氣體處理單元包括收集器、增壓泵和儲(chǔ)氣罐，所述收集器、增壓泵和儲(chǔ)氣罐一次用氣管連接，所述儲(chǔ)氣罐分別與再生反應(yīng)槽、堿性蝕刻單元用氣管連接。
[0026]通過上述技術(shù)方案，配合自來水補(bǔ)充消耗的水，其閉環(huán)控制循環(huán)系統(tǒng)最大程度降低了消耗，不使用氧化劑和蝕刻原液，其運(yùn)營(yíng)成本低，且無廢水、廢氣排出，同時(shí)回收電解的銅純度達(dá)99.1%。
[0027]以上所述的僅是本實(shí)用新型的一種堿性蝕刻液再生循環(huán)生產(chǎn)線優(yōu)選實(shí)施方式，應(yīng)當(dāng)指出，對(duì)于本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員來說，在不脫離本實(shí)用新型創(chuàng)造構(gòu)思的前提下，還可以做出若干變形和改進(jìn)，這些都屬于本實(shí)用新型的保護(hù)范圍。
【權(quán)利要求】
1.一種堿性蝕刻液再生循環(huán)生產(chǎn)線，其特征在于，包括堿性蝕刻單元、循環(huán)泵、再生反應(yīng)槽、緩存槽、電解槽、氣體處理單元和自來水源；所述堿性蝕刻單元、循環(huán)泵、再生反應(yīng)槽、緩存槽和電解槽依次用管道連接，所述電解槽一側(cè)設(shè)有氣體處理單元，所述電解槽與所述氣體單元用氣管連接，所述氣體單元與所述再生反應(yīng)槽用氣管連接，所述再生反應(yīng)槽一側(cè)還設(shè)有所述自來水源，所述自來水源通過電動(dòng)閥門與所述再生反應(yīng)槽用管道連接。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種堿性蝕刻液再生循環(huán)生產(chǎn)線，其特征在于，所述氣體處理單元包括收集器、增壓泵和儲(chǔ)氣罐，所述收集器、增壓泵和儲(chǔ)氣罐一次用氣管連接，所述儲(chǔ)氣罐分別與再生反應(yīng)槽、堿性蝕刻單元用氣管連接。
【文檔編號(hào)】C25C7/00GK204151415SQ201420564368
【公開日】2015年2月11日 申請(qǐng)日期:2014年9月28日 優(yōu)先權(quán)日:2014年9月28日
【發(fā)明者】王中華 申請(qǐng)人:江蘇地一環(huán)保科技有限公司