Al或Al合金的制作方法
【專利摘要】本發(fā)明涉及一種具有陽(yáng)極氧化膜的Al或Al合金，所述陽(yáng)極氧化膜在其厚度方向具有硬度不同的部位，其中的硬度最大部位的硬度與硬度最小部位的硬度的差以維氏硬度計(jì)為5以上。優(yōu)選所述Al或Al合金的硬度最小部位的硬度以維氏硬度計(jì)為300以上。另外，優(yōu)選所述Al或Al合金的陽(yáng)極氧化膜的Fe含量500ppm以下。本發(fā)明的Al或Al合金即使為高硬度，仍具有耐裂紋性優(yōu)異的陽(yáng)極氧化膜。
【專利說明】Al或Al合金
[0001]本申請(qǐng)是申請(qǐng)?zhí)?200880014768.7，申請(qǐng)日:2008.04.18，發(fā)明名稱-.uAl或Al合金”的申請(qǐng)的分案申請(qǐng)。
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0002]本發(fā)明屬于涉及Al或Al合金的【技術(shù)領(lǐng)域】，特別是屬于涉及到CVD裝置、PVD裝置、離子注入裝置、濺射裝置、干法刻蝕裝置等的半導(dǎo)體和液晶的制造裝置的真空室的構(gòu)件和設(shè)于其內(nèi)部的構(gòu)件所使用的Al或Al合金的【技術(shù)領(lǐng)域】。
【背景技術(shù)】
[0003] 在CVD裝置、PVD裝置、離子注入裝置、濺射裝置、干法刻蝕裝置等的半導(dǎo)體和液晶的制造裝置的真空室的內(nèi)部，由于含有鹵族元素的腐蝕性氣體作為反應(yīng)氣體、刻蝕氣體、清洗氣體被導(dǎo)入，因此要求其具有對(duì)于腐蝕性氣體的耐腐蝕性(以下也稱為耐氣體腐蝕性)。另外，在上述真空室之中，因?yàn)槎嗍果u族的等離子體發(fā)生，所以對(duì)于等離子體的耐性(以下也稱為耐等離子體性)也受到重視(參照特開2003-34894號(hào)公報(bào)，特開2004-225113號(hào)公報(bào)等)。近年來(lái)，作為這樣的真空室的構(gòu)件，采用的是輕量且熱傳導(dǎo)性優(yōu)異的Al和Al合金。
[0004]然而，Al和Al合金不具有充分的耐氣體腐蝕性及耐等離子體性，因此提出有各種用于使這些特性提高的表面改質(zhì)技術(shù)，但是仍期望這些特性的進(jìn)一步提高。
[0005]在耐等離子體性的提高上，有效的是使Al和Al合金的表面形成高硬度的陽(yáng)極氧化膜。高硬度的陽(yáng)極氧化膜對(duì)于等離子體的物理能造成的磨耗具有耐性，能夠提高耐等離子體性(參照特開2004-225113號(hào)公報(bào)等)。
[0006]然而，高硬度的陽(yáng)極氧化膜容易發(fā)生裂紋，若裂紋發(fā)生并貫通陽(yáng)極氧化膜，則存在的問題是，腐蝕性氣體通過該貫通了的裂紋(以下也稱為貫通裂紋)侵入，基材的Al和Al合金發(fā)生腐蝕。
[0007]因此，僅僅在Al和Al合金的表面形成高硬度的陽(yáng)極氧化膜，即使能夠提高耐等離子體性，但仍會(huì)招致這樣的問題點(diǎn)，即，陽(yáng)極氧化膜容易發(fā)生貫通裂紋，由此引起基材的Al和Al合金發(fā)生腐蝕。因此，就期望形成一種陽(yáng)極氧化膜，其不僅具有高硬度，而且還具有難以發(fā)生貫通裂紋的特性(以下也稱為耐裂紋性)。即，期望形成一種即使在高硬度下，耐裂紋性也優(yōu)異的陽(yáng)極氧化膜。
[0008]特別是，若為了抑制半導(dǎo)體晶片和液晶玻璃基板的Fe污染而減少Al合金中的Fe含量，則成為Fe的含量少的陽(yáng)極氧化皮膜，但因?yàn)樵撽?yáng)極氧化皮膜變硬，所以耐裂紋性差，因此強(qiáng)烈期望其耐裂紋性的提高。
[0009]專利文獻(xiàn)1:特開2003-34894號(hào)公報(bào)
[0010]專利文獻(xiàn)2:特開2004-225113號(hào)公報(bào)

【發(fā)明內(nèi)容】

[0011]本發(fā)明鑒于這樣的情況而做，其目的在于，提供一種Al或Al合金，其具有即使在高硬度下耐裂紋性也優(yōu)異的陽(yáng)極氧化膜。
[0012]本
【發(fā)明者】們?yōu)榱诉_(dá)成上述目的而銳意研究，其結(jié)果直至完成本發(fā)明。根據(jù)本發(fā)明能夠達(dá)成上述目的。
[0013]即，能夠如此完成并達(dá)成上述目的的本發(fā)明，是涉及下述(I)~(3 )所述的Al或Al合金。
[0014](I)是一種具有陽(yáng)極氧化膜的Al或Al合金，所述陽(yáng)極氧化膜在其厚度方向具有硬度不同的部位，所述陽(yáng)極氧化膜的表面的硬度比其內(nèi)部的硬度小，其中的硬度最大部位的硬度與硬度最小部位的硬度的差以維氏硬度計(jì)為5以上。
[0015](2)所述(I)記載的Al或Al合金，其所述硬度最小部位的硬度以維氏硬度計(jì)為300以上。
[0016](3)所述(2)記載的Al或Al合金，其所述陽(yáng)極氧化膜的Fe含量500ppm以下。
[0017]本發(fā)明的Al或Al合金具有即使在高硬度下耐裂紋性仍優(yōu)異的陽(yáng)極氧化膜。該陽(yáng)極氧化膜即使為高硬度，耐裂紋性也優(yōu)異(難以發(fā)生貫通裂紋)，因此，由于陽(yáng)極氧化膜的貫通裂紋發(fā)生而引起的基材的Al和Al合金的腐蝕難以發(fā)生(B卩，耐氣體腐蝕性的降低難以發(fā)生)。因此，即使為了提高耐等離子體性而提高陽(yáng)極氧化膜的硬度時(shí)，耐氣體腐蝕性的降低仍難以發(fā)生。因此，不會(huì)招致耐氣體腐蝕性的降低，耐等離子體性的提高被實(shí)現(xiàn)。
【專利附圖】

【附圖說明】
[0018]圖1是表示在陽(yáng)極氧化皮膜面(30mmX 30mm面)內(nèi)局部性地發(fā)生裂紋時(shí)的全部裂紋發(fā)生狀況的圖。
[0019]圖2是表不在陽(yáng)極氧化皮膜面(30mmX 30mm面)內(nèi)裂紋均一發(fā)生時(shí)的一部分裂紋發(fā)生狀況(235 μ mX 180 μ m面內(nèi)的裂紋發(fā)生狀況)的圖。
【具體實(shí)施方式】
[0020]本發(fā)明的Al或Al合金，如前述，是具有陽(yáng)極氧化膜的Al或Al合金，其中，所述陽(yáng)極氧化膜在其厚度方向具有硬度不同的部位，其中的硬度最大部位的硬度與硬度最小部位的硬度的差以維氏硬度計(jì)為5以上。這樣的陽(yáng)極氧化膜即使為高硬度，耐裂紋性也優(yōu)異。以下說明其詳情。
[0021]Al和Al合金的陽(yáng)極氧化膜為高硬度時(shí)，該陽(yáng)極氧化膜容易發(fā)生裂紋。而且，該Al和Al合金的陽(yáng)極氧化膜的硬度在該膜的厚度方向均一時(shí)，若在該膜中發(fā)生裂紋，同該裂紋容易傳播，從該膜表面過渡到基材的Al和Al合金，裂紋容易貫通。就是說，貫通裂紋容易發(fā)生。相對(duì)于此，Al和Al合金的陽(yáng)極氧化膜的硬度在該膜的厚度方向上不同時(shí)，即使在該膜中有裂紋發(fā)生，該裂紋的傳播也會(huì)受到抑制，難以達(dá)到裂紋的貫通。就是說，貫通裂紋難以發(fā)生。因此，若在該膜的厚度方向上層狀地使Al和Al合金的陽(yáng)極氧化膜其硬度有所不同，則裂紋的傳播得到抑制，因此難以發(fā)生貫通裂紋。但是，若硬度最大的層和硬度最小的層的硬度的差以維氏硬度計(jì)低于5，則裂紋的傳播難以抑制，容易發(fā)生貫通裂紋。相對(duì)于此，若該硬度的差以維氏硬度計(jì)在5以上，則裂紋的傳播得到抑制，難以發(fā)生貫通裂紋。
[0022]本發(fā)明的Al或Al合金的陽(yáng)極氧化膜，如前述，具有在其厚度方向上硬度不同的部位，其中的硬度最大部位的硬度和硬度最小部位的硬度的差以維氏硬度計(jì)為5以上。因此，該陽(yáng)極氧化膜即使為高硬度，裂紋傳播也得到抑制，因此難以發(fā)生貫通裂紋，耐裂紋性優(yōu)異。
[0023]如此本發(fā)明的Al或Al合金的陽(yáng)極氧化膜，即使為高硬度，也難以發(fā)生貫通裂紋，耐裂紋性優(yōu)異，因此，由于陽(yáng)極氧化膜的貫通裂紋發(fā)生而引起的基材的Al和Al合金的腐蝕難以發(fā)生(耐氣體腐蝕性的降低難以發(fā)生)。因此，即使為了提高耐等離子體性而提高陽(yáng)極氧化膜的硬度時(shí)，耐氣體腐蝕性的降低仍難以發(fā)生。因此，根據(jù)本發(fā)明的Al或Al合金，不會(huì)招致耐氣體腐蝕性的降低，耐等離子體性的提高被實(shí)現(xiàn)。
[0024]本發(fā)明的Al或Al合金的陽(yáng)極氧化膜，如前述，具有在其厚度方向上硬度不同的部位，其中的硬度最大部位的硬度和硬度最小部位的硬度的差以維氏硬度計(jì)為5以上，因此該陽(yáng)極氧化膜即使為高硬度，裂紋傳播也會(huì)被抑制，因此，貫通裂紋難以發(fā)生，耐裂紋性優(yōu)異。相對(duì)于此，若該硬度最大部位的硬度和硬度最小部位的硬度的差以維氏硬度計(jì)低于5時(shí)，實(shí)質(zhì)上會(huì)顯示出與在陽(yáng)極氧化膜的厚度方向上硬度均一(相同)的情況同等的舉動(dòng)，裂紋傳播難以抑制，因此，貫通裂紋容易發(fā)生，耐裂紋性差。
[0025]在本發(fā)明中，在陽(yáng)極氧化膜的厚度方向上硬度不同的部位的數(shù)量需要有2處以上，但如果為2處以上，則該部位的數(shù)量沒有特別限定。所謂這些部位之中的硬度最大部位手硬度最小部位 ，是指這些部位之中硬度最高的部位和硬度最低的部位。
[0026]在陽(yáng)極氧化膜的厚度方向，陽(yáng)極氧化膜的厚度可以斷斷續(xù)續(xù)地變化，或者也可以連續(xù)性(傾斜地)地變化。
[0027]使在陽(yáng)極氧化膜的內(nèi)部發(fā)生的裂紋不會(huì)傳播到皮膜表面，如此使陽(yáng)極氧化膜的表面的硬度比陽(yáng)極氧化膜的內(nèi)部的硬度小的方法有效。
[0028]另外，在本發(fā)明中，從耐等離子體性的提高的觀點(diǎn)出發(fā)，在所述陽(yáng)極氧化膜的厚度方向硬度不同的部位之中的硬度最小部位的硬度，優(yōu)選以維氏硬度計(jì)為300以上。這樣的陽(yáng)極氧化膜對(duì)于等離子體的物理能帶來(lái)的磨耗具有耐性，耐等離子體性優(yōu)異。
[0029]陽(yáng)極氧化膜的硬度，能夠根據(jù)陽(yáng)極氧化處理?xiàng)l件而進(jìn)行控制。具體的硬度根據(jù)基材的Al合金種類和陽(yáng)極氧化處理液的組成而有所不同，因此需要適宜設(shè)定。
[0030]為了使陽(yáng)極氧化膜的硬度在陽(yáng)極氧化膜的厚度方向變化，采用如下等方法即可:在陽(yáng)極氧化處理的途中斷續(xù)或連續(xù)地使陽(yáng)極氧化處理液的溫度變化，以及在途中中斷陽(yáng)極氧化處理，一旦從陽(yáng)極氧化處理液中取出被處理物，以其他的液組成和/或溫度不同的陽(yáng)極氧化處理液重新進(jìn)行陽(yáng)極氧化處理，通過這些方法，能夠使陽(yáng)極氧化膜的厚度方向上的硬度變化。
[0031]陽(yáng)極氧化處理液的溫度低時(shí)，陽(yáng)極氧化處理中的陽(yáng)極氧化皮膜的化學(xué)溶解受到抑制而變硬。
[0032]Al合金中的Fe含量以市場(chǎng)銷售材料計(jì)為0.數(shù)wt% (數(shù)千ppm)。作為基材，若使用Fe含量比所述市場(chǎng)銷售材料的Fe含量低的Al合金，則由陽(yáng)極氧化處理而形成的陽(yáng)極氧化皮膜中的Fe含量變少，由此能夠提高陽(yáng)極氧化皮膜的硬度。這時(shí)，關(guān)于使陽(yáng)極氧化皮膜中的Fe含量達(dá)到哪種程度，特別是若也結(jié)合半導(dǎo)體晶片和液晶玻璃基板的Fe污染的抑制的觀點(diǎn)，則優(yōu)選為500ppm以下。
[0033]能夠通過下述方法測(cè)定陽(yáng)極氧化膜的硬度。即，在截面方向(使陽(yáng)極氧化膜截面和基材截面成為研磨面)將具有陽(yáng)極氧化膜的Al和Al合金埋入樹脂，進(jìn)行#1200左右的研磨而形成陽(yáng)極氧化膜截面的平面，在該陽(yáng)極氧化膜截面中，以JIS Z2244 (1998)的方法進(jìn)行測(cè)定。
[0034]還有，為了測(cè)定陽(yáng)極氧化膜的厚度方向的硬度變化，不得不相對(duì)于陽(yáng)極氧化膜的厚度而充分地減小硬度測(cè)定的壓痕，為此，減小用于形成壓痕的壓頭的載荷即可，具體來(lái)說為5gf以下即可。
[0035]壓痕的尺寸不能通過硬度測(cè)定機(jī)附屬的觀察器(光學(xué)顯微鏡等)進(jìn)行觀察時(shí)，另行用SEM和視頻顯微鏡(video microscope)等進(jìn)行觀察,測(cè)定壓痕的尺寸即可。
[0036]實(shí)施例
[0037]以下說明本發(fā)明的實(shí)施例和比較例。還有，本發(fā)明不受該實(shí)施例限定，在能夠符合本發(fā)明的宗旨的范圍內(nèi)也可以適當(dāng)?shù)丶右宰兏鼘?shí)施，這些均包含在本發(fā)明的技術(shù)的范圍內(nèi)。
[0038]作為基材的Al合 金,主要使用JIS6061合金(板厚:3mm)。該Al合金的化學(xué)成分顯不在表1中。該Al合金中的Fe含量為0.4wt%。該Al合金在后述的表3~4中由符號(hào)6061表不。
[0039]另外，為了使陽(yáng)極氧化膜中的Fe含量減少，也使用Fe含量為0.02wt%的Al合金(板厚:3_)作為基材。該Al合金的化學(xué)成分顯不在表2中。該Al合金在后述的表3中由符號(hào)Fe0.02表不。
[0040]從上述Al合金提取30 X 30 X 3mm的板，對(duì)該Al合金板進(jìn)行陽(yáng)極氧化處理，使該Al合金板的表面形成陽(yáng)極氧化膜。這時(shí)，陽(yáng)極氧化處理?xiàng)l件(處理液組成、處理液溫度、電解電壓、形成的陽(yáng)極氧化膜的厚度)為表3~4所示的陽(yáng)極氧化處理?xiàng)l件。表3的實(shí)施例的情況下，以表3的第一層一欄中所示的陽(yáng)極氧化處理?xiàng)l件進(jìn)行陽(yáng)極氧化處理而使陽(yáng)極氧化膜(第一層)形成后，以表3的第二層一欄所示的陽(yáng)極氧化處理?xiàng)l件進(jìn)行陽(yáng)極氧化處理而使陽(yáng)極氧化膜(第二層)形成。一部分是再以表3的注所示的陽(yáng)極氧化處理?xiàng)l件進(jìn)行陽(yáng)極氧化處理而使第三層形成(表3的N0.15)。表4的實(shí)施例的情況下，陽(yáng)極氧化處理之間，如表4的溫度一欄所示，一邊連續(xù)地使陽(yáng)極氧化處理液的溫度上升，一邊進(jìn)行陽(yáng)極氧化處理。
[0041]對(duì)于如此使表面形成陽(yáng)極氧化膜的Al合金板(以下稱為試驗(yàn)片)，根據(jù)下述方法，進(jìn)行陽(yáng)極氧化膜中的Fe含量測(cè)定、陽(yáng)極氧化膜的硬度的測(cè)定、陽(yáng)極氧化膜的耐裂縫性評(píng)價(jià)試驗(yàn)、耐等離子體性評(píng)價(jià)試驗(yàn)。
[0042](陽(yáng)極氧化膜中的Fe含量的測(cè)定)
[0043]在基材的Al合金不會(huì)露出的程度使陽(yáng)極氧化皮膜溶解于IOOcc的7%鹽酸水溶液中。然后，根據(jù)該溶解前后的試驗(yàn)片的重量變化測(cè)定溶解量W (g)。另一方面，對(duì)該溶解后的鹽酸水溶液進(jìn)行ICP分析，求得該鹽酸水溶解中的Fe濃度，溶解于該鹽酸水溶液IOOcc中的Fe的重量WFe (g)。根據(jù)該WFe和前述W的比(WFe/W)求得陽(yáng)極氧化膜中的Fe含量(濃度)。
[0044](陽(yáng)極氧化膜的硬度的測(cè)定)
[0045]在截面方向(使陽(yáng)極氧化膜截面和基材截面成為研磨面)將試驗(yàn)片埋入樹脂，進(jìn)行研磨后，對(duì)于陽(yáng)極氧化膜截面，以JIS Z2244 (1998)的方法測(cè)定硬度。另外，由該陽(yáng)極氧化膜截面的光學(xué)顯微鏡照片確認(rèn)陽(yáng)極氧化膜的厚度。
[0046](陽(yáng)極氧化膜的耐裂紋性評(píng)價(jià)試驗(yàn))[0047]將試驗(yàn)片設(shè)置在試驗(yàn)容器內(nèi)，進(jìn)行加熱。這時(shí)，以30分鐘從室溫升溫至150°C，于此150°C保持60分鐘后，以30分鐘從150°C升溫至250°C，于此250°C保持I小時(shí)。還有，試驗(yàn)容器內(nèi)的壓力為大氣壓。
[0048]在此加熱后，放冷至室溫。試驗(yàn)容器內(nèi)達(dá)到室溫后，取出試驗(yàn)片。然后，通過光學(xué)顯微鏡(400倍)觀察該試驗(yàn)片的陽(yáng)極氧化皮膜面的整個(gè)面(30 X 30mm面)，以下述方式求得裂紋密度。
[0049]裂紋在陽(yáng)極氧化皮膜面(30X30mm面)內(nèi)局部發(fā)生時(shí)，測(cè)定該30X30mm面內(nèi)的裂紋的總長(zhǎng)(各個(gè)裂紋的長(zhǎng)度的合計(jì))L (參照?qǐng)D1)。然后，用該裂紋的總長(zhǎng)L (mm)除以30X30mm 面的面積 S (900mm2),計(jì)算裂紋密度 D (mm/mm2)。即，求得 L/S=D (mm/mm2)。
[0050]裂紋在陽(yáng)極氧化皮膜面(30 X 30mm面)均一地發(fā)生時(shí)，測(cè)定0.235X0.180mm的面內(nèi)的裂紋的總長(zhǎng)L (參照?qǐng)D2)。然后，用該裂紋的總長(zhǎng)L (mm)除以0.235X0.180mm面的面積 S,計(jì)算裂紋密度 D (mm/mm2)。即，求得 L/S=D (mm/mm2)。即，求得 L/S=D (mm/mm2)。
[0051]如此求得的裂紋密度D (mm/mm2)越小，耐裂紋性越優(yōu)異。即，上述裂紋密度D雖然是在陽(yáng)極氧化皮膜表面被確認(rèn)的裂紋的密度，但該裂紋是在陽(yáng)極氧化皮膜內(nèi)部發(fā)生的裂紋傳播到了表面，其結(jié)果是在陽(yáng)極氧化皮膜表面被確認(rèn)到，因此其為貫通裂紋(貫通陽(yáng)極氧化皮膜的裂紋)或接近于此，因此上述裂紋密度D與貫通裂紋的發(fā)生的程度(密度)相當(dāng)或成比例。因此，上述裂紋密度D越小，貫通裂紋的發(fā)生的程度(密度)就越小，因此耐裂紋性越優(yōu)異。
[0052]根據(jù)如此求得的裂紋密度D，以下述方式判定陽(yáng)極氧化膜的耐裂紋性。
[0053]D ^ 100mm/mm2 時(shí):X，100 > D ^ 10mm/mm2 時(shí):Δ，10 > D > lmm/mm2 時(shí):〇，D < I時(shí):◎(◎、〇、▲:合格，X:不合格)
[0054](耐等離子體性評(píng)價(jià)試驗(yàn))
[0055]用氟樹脂掩蓋試驗(yàn)片的陽(yáng)極氧化皮膜面(30X30mm面)的一半并進(jìn)行等離子體照射。這時(shí)，等離子體照射條件為，氣體=BCl3，氣壓:2mTorr，氣體流量:1000ccm，ICP:2000ff,偏壓:100W，溫度120~150°C，等離子體照射時(shí)間:6hr。
[0056]上述等離子體照射之后，除去掩模，測(cè)定等離子體照射部分與非照射部分(等離子體照射時(shí)被掩蓋的部分)的段差DP。該段差Dp的測(cè)定以下述方式進(jìn)行。即，以橫切等離子體照射部分和非照射部分的邊界部的方式切斷等離子體照射后的試驗(yàn)片后，使該切斷面成為研磨面而埋入樹脂，進(jìn)行研磨后，利用光學(xué)顯微鏡進(jìn)行觀察，測(cè)定等離子體照射部分與非照射部分的位置的差，即段差DP。還有，該段差Dp是因?yàn)樵诘入x子體照射時(shí)，在等離子體照射部分由于等離子體的物理能而導(dǎo)致磨耗而發(fā)生的，所以段差Dp能夠換言之由于等離子體照射造成的磨耗的程度(磨耗量)。
[0057]如此測(cè)定的段差Dp (由等離子體照射而帶來(lái)的磨耗量)越小，耐裂紋性越優(yōu)異。在后述的表3~4的耐離子體性的排序部分一欄中，段差Dp ^ 10時(shí)表示為X，10 >段差Dp ^ 5時(shí)表不為Λ，段差Dp < 5時(shí)表不為〇。
[0058](測(cè)定和試驗(yàn)結(jié)果)
[0059]上述陽(yáng)極氧化膜中的Fe含量的測(cè)定、陽(yáng)極氧化膜的硬度的測(cè)定、陽(yáng)極氧化膜的耐裂紋性評(píng)價(jià)試驗(yàn)、耐等離子體性評(píng)價(jià)試驗(yàn)的結(jié)果顯示在表3~4中。
[0060]表3中的本發(fā)明的實(shí)施例的Al合金的陽(yáng)極氧化膜，除去一部分(N0.15)，均由第一層和第二層構(gòu)成，此第一層的硬度和第二層的硬度的差以維氏硬度計(jì)為5以上(N0.2、6、7、
8、10、12、14)。這部分(N0.15)由第一層、第二層和第三層構(gòu)成，硬度最大部位(第一層)的硬度和硬度最小部位(第二層)的硬度的差以維氏硬度計(jì)為5以上。比較例的Al合金的陽(yáng)極氧化膜除一部分以外(N0.5)，均由單層(只有第一層)構(gòu)成，其硬度均一(N0.1、3、4、9、11、13)。這部分(N0.5)其陽(yáng)極氧化膜由第一層和第二層構(gòu)成，但是此第一層的硬度和第二層的硬度的差以維氏硬度計(jì)低于5。
[0061]上述比較例的Al合金的陽(yáng)極氧化膜，裂紋密度D高，耐裂紋性處于X的水平(N0.1、3、4、9、11、13 )。相對(duì)于此，上述實(shí)施例的Al合金的陽(yáng)極氧化膜，裂紋密度D低，耐裂紋性處于◎、〇或Λ的水平，耐裂紋性優(yōu)異(N0.2、6、7、8、10、12、14、15)。
[0062]在上述實(shí)施例的Al合金的陽(yáng)極氧化膜中，硬度最小部位(第一層或第二層)的硬度以維氏硬度計(jì)為300以上時(shí)，由等離子體照射造成的磨耗量Dp小，耐等離子性處于〇的水平，耐等離子體性優(yōu)異(N0.6、7、8、10、12、14、15)。
[0063]表4的本發(fā)明的實(shí)施例的Al合金的陽(yáng)極氧化膜，在距其表面5 μ m的部位(距其表面沿膜的厚度方向進(jìn)入5 μ m的位置)的硬度，距與基材的界面5 μ m的部位(從其界面沿膜的厚度方向進(jìn)入5μπι的位置)的硬度的差，以維氏硬度計(jì)為5以上(N0.la、2a)。該陽(yáng)極氧化膜裂紋密度D低，耐裂紋性處于◎或〇的水平，耐裂紋性優(yōu)異。
[0064]另外，該陽(yáng)極氧化膜的硬度最小部位的硬度確實(shí)以維氏硬度計(jì)為300以上。因此，該陽(yáng)極氧化膜由等離子體照射造成的磨耗量Dp小，耐等離子性處于〇的水平，耐等離子體性優(yōu)異(N0.la、2a)。
[0065][表1] (wt%)
[0066]
【權(quán)利要求】
1.一種Al或Al合金，具有陽(yáng)極氧化膜，其特征在于，所述陽(yáng)極氧化膜在其厚度方向上具有硬度不同的部位，其中硬度最大部位的硬度與硬度最小部位的硬度的差以維氏硬度計(jì)為5以上30以下，并且，所述陽(yáng)極氧化膜中的Fe含量為500ppm以下， 所述Al或Al合金被用于半導(dǎo)體和液晶的制造裝置的真空室的構(gòu)件和設(shè)于其內(nèi)部的構(gòu)件。
【文檔編號(hào)】C25D11/04GK103540987SQ201310424558
【公開日】2014年1月29日 申請(qǐng)日期:2008年4月18日 優(yōu)先權(quán)日:2007年5月21日
【發(fā)明者】久本淳, 和田浩司 申請(qǐng)人:株式會(huì)社神戶制鋼所