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貴金屬一體化封閉式電積回收設(shè)備的制作方法

文檔序號(hào):5279874閱讀:175來(lái)源:國(guó)知局
專利名稱:貴金屬一體化封閉式電積回收設(shè)備的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域
本實(shí)用新型涉及電子行業(yè)印制電路板工業(yè)中的清洗水和廢鍍液傳統(tǒng)化學(xué)法回收后的尾液中貴金屬的電積回收技術(shù),具體涉及一種貴金屬回收設(shè)備的一體化封閉式電積回收。
背景技術(shù)
印刷電路板(Printed circuit board,簡(jiǎn)稱PCB)是組裝電子零件用的基板,全球產(chǎn)值每年達(dá)450億美元,在電子行業(yè)中僅次于半導(dǎo)體行業(yè),近幾年,隨著我國(guó)電子工業(yè)的飛速發(fā)展,PCB行業(yè)產(chǎn)值每年以20%左右速度增長(zhǎng),遠(yuǎn)高于行業(yè)平均速度。然而,印刷電路板的制造品質(zhì),不但直接影響電子產(chǎn)品的可靠性,而且影響系統(tǒng)產(chǎn)品整體競(jìng)爭(zhēng)力,為了改善印刷電路板的導(dǎo)電接觸阻抗,增進(jìn)信號(hào)傳輸,同時(shí)還有耐磨耐腐蝕性能等,必然要選擇貴金屬鍍層,這樣在PCB的制作工藝流程中也就不可避免的有金、銀等貴金屬的流失,主要體現(xiàn)在 鍍后清洗水和廢鍍液傳統(tǒng)的化學(xué)法回收過(guò)程中,如直接排放不僅會(huì)嚴(yán)重污染環(huán)境,同時(shí)也造成大量貴金屬資源的流失。電子行業(yè)印制電路板工業(yè)中的清洗水和廢鍍液傳統(tǒng)化學(xué)法回收后的尾液中,金、銀等貴金屬含量都比較少,一般都未引起電子行業(yè)的重視,同時(shí)也怕設(shè)備占地面積較大,投入了資金而回報(bào)速度慢,往往放棄了對(duì)清洗水和廢鍍液化學(xué)法回收后的尾液中的低含量金、銀等的貴金屬的回收。然而,貴金屬儲(chǔ)量極其稀少,循環(huán)利用程度比較高,同時(shí)具有不可替換、不可缺失性等又不得不引起大家的關(guān)注。從國(guó)家所規(guī)定的清潔生產(chǎn)模式,資源節(jié)約型考慮,迫切需要一種對(duì)貴金屬回收的設(shè)備。目前貴金屬回收設(shè)備,不是占地面積較大,投入資本過(guò)高;就是結(jié)構(gòu)復(fù)雜,可操作性差,運(yùn)行效率不高,而且技術(shù)落后,從而也就迫切需要一種對(duì)貴金屬設(shè)備結(jié)構(gòu)的優(yōu)化設(shè)計(jì)。

實(shí)用新型內(nèi)容本實(shí)用新型技術(shù)目的是提供一種貴金屬回收設(shè)備的優(yōu)化設(shè)計(jì),主要體現(xiàn)了貴金屬的一體化封閉式電積回收過(guò)程,其能實(shí)現(xiàn)對(duì)電子行業(yè)印制電路板工業(yè)中的清洗水和傳統(tǒng)化學(xué)法回收尾液進(jìn)一步深度處理的同時(shí),減小設(shè)備占地面積,長(zhǎng)時(shí)間實(shí)現(xiàn)無(wú)人看管,增強(qiáng)設(shè)備的安全性和可靠性,便于操作控制。本實(shí)用新型技術(shù)是這樣實(shí)現(xiàn)的貴金屬一體化封閉式電積回收設(shè)備由電積回收裝置(I)、動(dòng)力控制裝置(2)、溢流循環(huán)儲(chǔ)液裝置(3)組成。電積回收裝置(I)包括凈化器(A)和電積系統(tǒng)(B),動(dòng)力控制裝置⑵包括循環(huán)泵⑶和電控器(C),溢流循環(huán)儲(chǔ)液裝置
(3)包括緩沖槽(E)。其中動(dòng)力控制裝置(2)中的電控器(C)控制整個(gè)設(shè)備的啟停,電積回收裝置(I)、動(dòng)力控制裝置(2)、溢流循環(huán)儲(chǔ)液裝置(3)之間通過(guò)管道連接,以上中下結(jié)構(gòu)排列組成一體化結(jié)構(gòu),三個(gè)裝置本身與設(shè)備之間實(shí)現(xiàn)全密封,從而實(shí)現(xiàn)整個(gè)設(shè)備的一體化封閉式電積回收。[0007]整個(gè)設(shè)備在正常情況下,廢液先儲(chǔ)于溢流循環(huán)儲(chǔ)液裝置(3)中的緩沖槽(E)中,動(dòng)力控制裝置(2)的電控器(C)控制開(kāi)啟循環(huán)泵(D),將廢液從緩沖槽(E)傳輸至電積回收裝置(I)的凈化器(A)中,廢液被凈化后通過(guò)管道連接傳輸至電積回收裝置(I)的電積系統(tǒng)(B)中,電控器(C)控制電積系統(tǒng)(B)的相關(guān)電解參數(shù)和廢液性質(zhì)參數(shù),廢液就在電積系統(tǒng)(B)中進(jìn)行電解沉積處理,然后通過(guò)溢流的方式傳輸?shù)揭缌餮h(huán)儲(chǔ)液裝置(3)中的緩沖槽(E)中,同時(shí)循環(huán)泵⑶又不斷地將廢液從緩沖槽(E)傳輸至電積回收裝置⑴中實(shí)現(xiàn)電積回收過(guò)程直至廢液中貴金屬的 含量降到5ppm以下為止。整個(gè)設(shè)備在電積回收過(guò)程中,動(dòng)力控制裝置(2)的電控器(C)隨時(shí)檢測(cè)和顯示廢液的PH值和比重值,當(dāng)比重值小于規(guī)定值范圍時(shí),自動(dòng)報(bào)警器啟動(dòng),提醒相關(guān)人員取樣檢測(cè)確定廢液成分含量是否達(dá)標(biāo),同時(shí)整個(gè)電積回收過(guò)程中無(wú)需添加任何外界物質(zhì),可長(zhǎng)時(shí)間實(shí)現(xiàn)無(wú)人看管。進(jìn)一步地,所述的電積回收裝置(3)分別在凈化器(A)底部設(shè)置一個(gè)放液開(kāi)關(guān)(a)和在電積系統(tǒng)(B)頂部設(shè)置一個(gè)放氣開(kāi)關(guān)(b)。

圖I為本實(shí)用新型貴金屬一體化封閉式電積回收設(shè)備的結(jié)構(gòu)示意圖。圖2為電控信號(hào)控制圖。圖3為放液放氣開(kāi)關(guān)設(shè)置圖。圖中1.電積回收裝置,2.動(dòng)力控制裝置,3.溢流循環(huán)儲(chǔ)液裝置,A.凈化器,B.電積系統(tǒng),C.電控器,D.循環(huán)泵,E.緩沖槽,a.放液開(kāi)關(guān),b.放氣開(kāi)關(guān),c.比重儀探頭,d. PH計(jì)探頭。
具體實(shí)施方式
下面參照附圖來(lái)進(jìn)一步說(shuō)明本實(shí)用新型。參照?qǐng)D1,貴金屬一體化封閉式電積回收設(shè)備由電積回收裝置(I)、動(dòng)力控制裝置
(2)、溢流循環(huán)儲(chǔ)液裝置(3)以上中下立體結(jié)構(gòu)組成一體。電積回收裝置(I)包括凈化器(A)和電積系統(tǒng)(B),動(dòng)力控制裝置(2)包括循環(huán)泵(D)和電控器(C),溢流循環(huán)儲(chǔ)液裝置
(3)包括緩沖槽(E)ο整個(gè)設(shè)備之間由管道連接,溢流循環(huán)儲(chǔ)液裝置(3)中的緩沖槽(E)通過(guò)管路與動(dòng)力控制裝置⑵中的循環(huán)泵⑶相連,循環(huán)泵⑶通過(guò)管路與電積回收裝置⑴中的凈化器(A)相連,凈化器㈧通過(guò)管路與電積系統(tǒng)⑶相連,電積系統(tǒng)⑶通過(guò)管路與緩沖槽(E)相連。設(shè)備傳輸動(dòng)力由循環(huán)泵(D)提供,循環(huán)泵(D)由電控器控制(C),同時(shí)電解參數(shù)和廢液性質(zhì)參數(shù)也由電控器(C)控制,即電控器(C)控制整個(gè)裝置的啟停。參照?qǐng)D2,是動(dòng)力控制裝置(2)中的電控器(C)控制整個(gè)設(shè)備的信號(hào)線圖,電控器(C)直接控制循環(huán)泵(D)和電積系統(tǒng)(B)的啟停,同時(shí)電積系統(tǒng)(B)中的相關(guān)電解參數(shù)和廢液的性質(zhì)參數(shù)又反饋到電控器(C)上顯示出來(lái),特別是廢液比重值的測(cè)定帶動(dòng)自動(dòng)報(bào)警器,從而也就便于控制和調(diào)節(jié)。參照?qǐng)D3,方便于在運(yùn)行過(guò)程中取樣分析或停止開(kāi)啟電積過(guò)程的放氣過(guò)程,特別在凈化器(A)底部設(shè)置一個(gè)放液開(kāi)關(guān)(a),和在電積系統(tǒng)(B)頂部設(shè)置一個(gè)放氣開(kāi)關(guān)(b)。[0019]整個(gè)設(shè)備的運(yùn)行過(guò)程中,無(wú)需添加任何外界物質(zhì),電控器(C)控制整個(gè)設(shè)備的運(yùn) 行,裝置與設(shè)備實(shí)現(xiàn)全封閉自體循環(huán)。
權(quán)利要求1.貴金屬一體化封閉式電積回收設(shè)備由電積回收裝置(I)、動(dòng)力控制裝置(2)、溢流循環(huán)儲(chǔ)液裝置(3)組成,其特征在于溢流循環(huán)儲(chǔ)液裝置(3)中的緩沖槽(E)通過(guò)管路與動(dòng)力控制裝置⑵中的循環(huán)泵⑶相連,循環(huán)泵⑶通過(guò)管路與電積回收裝置⑴中的凈化器(A)相連,凈化器㈧通過(guò)管路與電積系統(tǒng)⑶相連,電積系統(tǒng)⑶通過(guò)管路與緩沖槽(E)相連。
2.根據(jù)權(quán)利要求I所述的貴金屬一體化封閉式電積回收設(shè)備,其特征在于電積回收裝置(I)、動(dòng)力控制裝置(2)、溢流循環(huán)儲(chǔ)液裝置(3)僅通過(guò)管道連接,廢液的傳輸由動(dòng)力控制裝置⑵中的電控器(C)控制。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的貴金屬一體化封閉式電積回收設(shè)備,其特征在于動(dòng)力控制裝置(2)中的電控器(C)控制整個(gè)裝置的啟停,在開(kāi)啟過(guò)程中無(wú)任何外界物質(zhì)的加入,同時(shí)三個(gè)裝置全封閉,從而實(shí)現(xiàn)整個(gè)設(shè)備的封閉式電積。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的貴金屬一體化封閉式電積回收設(shè)備,其特征在于在電控器(C)的面板上設(shè)置有自動(dòng)報(bào)警器。
5.根據(jù)權(quán)利要求I所述的貴金屬一體化封閉式電積回收設(shè)備,其特征在于電積回收裝置(I)、動(dòng)力控制裝置(2)、溢流循環(huán)儲(chǔ)液裝置(3)以上中下結(jié)構(gòu)組合成一體,看似不相關(guān)的裝置組合成一體機(jī),從而實(shí)現(xiàn)一體化電積回收。
6.根據(jù)權(quán)利要求I所述的貴金屬一體化封閉式電積回收設(shè)備,其特征在于在電積回收裝置(I)中的凈化器(A)底部設(shè)置一個(gè)放液開(kāi)關(guān)(a),和電積系統(tǒng)(B)頂部設(shè)置一個(gè)放氣開(kāi)關(guān)(b)。
專利摘要本實(shí)用新型涉及了一種貴金屬一體化封閉式電積回收設(shè)備,整個(gè)設(shè)備由電積回收裝置、動(dòng)力控制裝置、溢流循環(huán)儲(chǔ)液裝置組成,廢液傳輸?shù)膭?dòng)力由動(dòng)力控制裝置中的循環(huán)泵提供,動(dòng)力控制裝置中的電控器隨時(shí)檢測(cè)廢液的pH值和比重值,三個(gè)裝置以上中下的結(jié)構(gòu)通過(guò)管道連接成一體,裝置之間與裝置本身實(shí)現(xiàn)全封閉式,從而從整體結(jié)構(gòu)上實(shí)現(xiàn)一體化封閉式電積回收。該設(shè)備實(shí)現(xiàn)了貴金屬回收設(shè)備的一體化和封閉式,占地面積小,操作簡(jiǎn)單,防止廢液處理過(guò)程中對(duì)人體的傷害,長(zhǎng)時(shí)間實(shí)現(xiàn)無(wú)人看管,同時(shí)又回收了廢液中的貴金屬。
文檔編號(hào)C25C1/20GK202643852SQ20112052174
公開(kāi)日2013年1月2日 申請(qǐng)日期2011年12月14日 優(yōu)先權(quán)日2011年12月14日
發(fā)明者韋建敏, 趙興文, 張曉蓓 申請(qǐng)人:成都虹華環(huán)保科技有限公司
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