專利名稱：一種水電解制氫裝備的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實用新型屬于化工技術(shù)領(lǐng)域，特別涉及一種水電解制氫裝備。
背景技術(shù)：
在水電解過程中，如電解槽的壓力變化較大，會造成氫、氧氣的相互滲透，直接影響制氫的純度。所以在制氫過程中必須隨時調(diào)整槽內(nèi)氫氧側(cè)壓力。常壓運行的電解槽一般靠貯氣罐，以及汽水分離器、洗滌器來調(diào)整壓力。但在壓力運行時，必須在系統(tǒng)中設(shè)置一對壓力調(diào)整器(一個為氫氣壓力調(diào)整器，另一個為氧氣壓力調(diào)整器)，對貯氣罐內(nèi)氣體進行壓力調(diào)整，以保證因貯氣罐隨時生產(chǎn)和消耗量的變化而改變的氣體壓力處于平衡狀態(tài)。在現(xiàn)有采用的壓力調(diào)整器有兩種一種為浮球調(diào)節(jié)閥，另一種為薄膜調(diào)節(jié)閥。上述兩種壓力調(diào)整器通常使用為成對出現(xiàn)配套使用；另外其內(nèi)部結(jié)構(gòu)也較復(fù)雜，從而使制氫設(shè)備內(nèi)部平衡系統(tǒng)很繁瑣，設(shè)備制造成本也增加許多。

實用新型內(nèi)容本實用新型的目的是提供一種用于水電解制氫的裝備，該裝備設(shè)有一氣體可調(diào)平衡裝置，以解決現(xiàn)有設(shè)備中使用的壓力調(diào)節(jié)器結(jié)構(gòu)復(fù)雜、可靠性較低和成本高的問題。本實用新型的技術(shù)方案是，一種水電解制氫裝備，經(jīng)該裝備的電解槽制出的氫氣經(jīng)氫氣水分離、冷卻和洗滌冷凝工藝處理，經(jīng)該裝備的電解槽制出的氧氣經(jīng)氧氣水分離、冷卻和洗滌冷凝工藝處理，所述裝備還包括一氣體可調(diào)平衡裝置，所述的經(jīng)過工藝處理的氫氣和氧氣均通入該氣體可調(diào)平衡裝置，該氣體可調(diào)平衡裝置包括一中空腔體，該中空腔體被一薄膜片分隔為二個氣腔， 其中，一個為具有氫氣出口和氫氣入口的氫氣氣腔，另一個為具有氧氣出口和氧氣入口的氧氣氣腔，所述的氧氣氣腔內(nèi)壁上還設(shè)有一凸臺。進一步的，在氣體可調(diào)平衡裝置中，所述的氧氣出口的通道貫穿所述氧氣氣腔內(nèi)壁上的凸臺。進一步的，在氣體可調(diào)平衡裝置中，所述的中空腔體由二個剖面呈“U”字型的半腔經(jīng)過所述薄膜片對稱栓接而成。進一步的，所述薄膜片在所述中空腔體內(nèi)呈圓形。本實用新型用內(nèi)部結(jié)構(gòu)簡單的氣體可調(diào)平衡裝置來替代傳統(tǒng)壓力調(diào)整器，壓力平衡效果明顯，使設(shè)備開機后壓力平衡速度加快，相應(yīng)氫氣產(chǎn)出時間縮短。該裝置使設(shè)備壓力調(diào)整系統(tǒng)大為簡化，運行可靠性加強，設(shè)備制造成本降低。

圖1為本實用新型一實施例中的氣體可調(diào)平衡裝置結(jié)構(gòu)剖面視圖，其中，1——薄膜片，2——左外殼，[0014]3——右外殼，4——氫氣出口，5——氧氣出口，6——氫氣氣腔，7——氧氣氣腔，8——氫氣入口，9-氧氣入口，10——凸臺，11——螺栓通孔，20——氣體可調(diào)平衡裝置。圖2是本實用新型的水電解制氫裝備的工藝流程圖具體實施方式
如圖2所示，本實用新型的一種水電解制氫裝備，經(jīng)該裝備的電解槽制出的氫氣經(jīng)氫氣水分離、冷卻和洗滌冷凝工藝處理，經(jīng)該裝備的電解槽制出的氧氣經(jīng)氧氣水分離、冷卻和洗滌冷凝工藝處理，所述裝備還包括一氣體可調(diào)平衡裝置，所述的經(jīng)過工藝處理的氫氣和氧氣均通入該氣體可調(diào)平衡裝置，如圖1所示，本實用新型的用于水電解制氫裝備中的氣體可調(diào)平衡裝置20，包括一中空腔體，被一薄膜片1分隔為二個氣腔，其中，一個為具有氫氣出口 4和氫氣入口 8的氫氣氣腔6，另一個為具有氧氣出口 5和氧氣入口 9的氧氣氣腔7，所述的氧氣氣腔7內(nèi)壁上還設(shè)有一凸臺10。氧氣出口 5的通道貫穿氧氣氣腔7內(nèi)壁上的凸臺10。中空腔體由二個剖面呈“U”字型的半腔經(jīng)過所述薄膜片1對稱栓接而成。薄膜片1在中空腔體內(nèi)呈圓形。將設(shè)備產(chǎn)生的氫、氧氣體經(jīng)汽水分離器、冷卻、洗滌冷凝后通入氣體可調(diào)平衡裝置 20中，當(dāng)不平衡氫氧氣體分別在各自氣體輸入端口進入氣腔后，由于氣壓差，平衡裝置20 內(nèi)置薄膜1產(chǎn)生相應(yīng)膨脹(向壓力偏小氣室移動)，隨之調(diào)整兩邊氣腔內(nèi)空間體積及壓力大小，直至兩邊氣室壓力及薄膜呈平衡狀態(tài)，從而達到平衡氣體的目的。氣體可調(diào)平衡裝置 20外形采用圓形結(jié)構(gòu)，分別由左外殼2和右外殼3固定(螺栓固定并密封)而成。殼體內(nèi)部分別有相應(yīng)氣腔，其中氧氣氣腔7內(nèi)設(shè)置有凸臺10，兩殼中間夾裝圓形薄膜1。殼體兩側(cè)分別配有氫、氧氣體進出口端。當(dāng)不平衡氫氧氣體分別在各自氣體輸入端口進入氣腔后，由于氣壓差，平衡裝置 20內(nèi)置薄膜1產(chǎn)生相應(yīng)膨脹(向壓力偏小氣室移動)，隨之調(diào)整兩邊氣腔內(nèi)空間體積及壓力大小，直至兩邊氣室壓力及薄膜呈平衡狀態(tài)，從而達到平衡氣體的目的。
權(quán)利要求1.一種水電解制氫裝備，經(jīng)該裝備的電解槽制出的氫氣經(jīng)氫氣水分離、冷卻和洗滌冷凝工藝處理，經(jīng)該裝備的電解槽制出的氧氣經(jīng)氧氣水分離、冷卻和洗滌冷凝工藝處理，其特征在于，所述裝備還包括一氣體可調(diào)平衡裝置，所述的經(jīng)過工藝處理的氫氣和氧氣均通入該氣體可調(diào)平衡裝置，該氣體可調(diào)平衡裝置包括一中空腔體，該中空腔體被一薄膜片分隔為二個氣腔，其中， 一個為具有氫氣出口和氫氣入口的氫氣氣腔，另一個為具有氧氣出口和氧氣入口的氧氣氣腔，所述的氧氣氣腔內(nèi)壁上還設(shè)有一凸臺。
2.如權(quán)利要求1所述的水電解制氫裝備，其特征在于，在氣體可調(diào)平衡裝置中，所述的氧氣出口的通道貫穿所述氧氣氣腔內(nèi)壁上的凸臺。
3.如權(quán)利要求2所述的水電解制氫裝備，其特征在于，在氣體可調(diào)平衡裝置中，所述的中空腔體由二個剖面呈“U”字型的半腔經(jīng)過所述薄膜片對稱栓接而成。
4.如權(quán)利要求3所述的水電解制氫裝備，其特征在于，所述薄膜片在所述中空腔體內(nèi)呈圓形。
專利摘要本實用新型公開了一種水電解制氫裝備，經(jīng)該裝備的電解槽制出的氫氣經(jīng)氫氣水分離、冷卻和洗滌冷凝工藝處理，經(jīng)該裝備的電解槽制出的氧氣經(jīng)氧氣水分離、冷卻和洗滌冷凝工藝處理，所述裝備還包括一氣體可調(diào)平衡裝置，所述的經(jīng)過工藝處理的氫氣和氧氣均通入該氣體可調(diào)平衡裝置，該氣體可調(diào)平衡裝置包括一中空腔體，該中空腔體被一薄膜片分隔為二個氣腔，其中，一個為具有氫氣出口和氫氣入口的氫氣氣腔，另一個為具有氧氣出口和氧氣入口的氧氣氣腔，所述的氧氣氣腔內(nèi)壁上還設(shè)有一凸臺。所述的氧氣出口的通道貫穿所述氧氣氣腔內(nèi)壁上的凸臺。所述的中空腔體由二個剖面呈“U”字型的半腔經(jīng)過所述薄膜片對稱栓接而成。所述薄膜片在所述中空腔體內(nèi)呈圓形。
文檔編號C25B1/04GK202116657SQ20112018355
公開日2012年1月18日 申請日期2011年6月1日 優(yōu)先權(quán)日2011年6月1日
發(fā)明者包秀敏 申請人:上海高企新能源科技有限公司